相機式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復雜度： 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式（2.5μm 精度） ≥55μm → 相機式（10mm 量程） 激光功率 ≥1W → 狹縫式（直接測量近 10W） ≤1W → 相機式（6 片衰減片適配） 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟） 非高斯 / 高階橫模 → 相機式（保留細節(jié)） 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機式（觸發(fā)同步） 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式（高精度掃描） 推薦組合： 場景：相機式 + 狹縫式組合，覆蓋全尺寸與復雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線：狹縫式（高功率）+ 相機式（動態(tài)監(jiān)測） 醫(yī)療設備：相機式（脈沖激光）+M2 模塊（光束質(zhì)量評估） 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案，支持快速切換檢測模式，幫助用戶降**設備購置成本與檢測周期。脈沖激光光束質(zhì)量怎么測檢測？維度光電，超快激光器研發(fā)利器。脈沖激光光斑分析儀原廠

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機式：400-1700nm 寬譜響應，支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉輪設計擴展功率量程，可拆卸結構兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標準算法，測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標準化報告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設計實現(xiàn)高精度檢測，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。光斑位置光斑分析儀怎么收費高功率激光光束質(zhì)量怎么測？

全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構建起完整的光束質(zhì)量測量生態(tài)系統(tǒng)： 1. 全場景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光，適合半導體加工、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度，標配 6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結構創(chuàng)新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉筒調(diào)節(jié)與可調(diào)光闌設計，相機式支持濾光片轉輪與相機分離，拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產(chǎn)品，基于 ISO 11146 標準算法實現(xiàn)光束質(zhì)量參數(shù)測量 可獲取： 光束發(fā)散角（mrad） 束腰位置（mm） M2 因子（無量綱） 瑞利長度（mm） 支持光束傳播方向上的全鏈路分析，為激光系統(tǒng)設計提供數(shù)據(jù)

使用維度光電BeamHere 光斑分析儀開展光斑與光束質(zhì)量測量的流程 系統(tǒng)搭建：將 BeamHere 相機式光斑分析儀的傳感器置于激光束路徑，通過支架調(diào)節(jié)位置確保光斑完整覆蓋 sensor。使用 USB 3.0 數(shù)據(jù)線連接設備與電腦，安裝 BeamHere V3.2 軟件并完成驅(qū)動校準。 數(shù)據(jù)采集：開啟半導體激光器至穩(wěn)定輸出狀態(tài)，軟件選擇 "連續(xù)采集" 模式，設置曝光時間 50μs，幀率 100fps，同步觸發(fā)激光器確保單脈沖捕捉。 參數(shù)提取：軟件自動識別光斑區(qū)域，計算 FWHM 直徑（XY 軸）、橢圓率、能量集中度等 12 項基礎參數(shù)，同時基于 ISO 11146 標準算法生成 M2 因子、瑞利長度等光束質(zhì)量指標。 可視化分析：切換至 3D 視圖旋轉觀察能量分布，通過 "刀邊法" 驗證光斑對稱性，標記異常區(qū)域進行局部放大分析。 報告輸出：點擊 "生成報告" 按鈕，自動插入測試日期、激光器參數(shù)、測量曲線等內(nèi)容，支持 PDF/A4 排版或自定義 LOGO 導出。近場光斑測試方案，推進半導體，硅光行業(yè)優(yōu)化升級。

維度光電針對當前市場上的諸多行業(yè)痛點，隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領域，長期以來存在著一個的問題，那就是缺乏能夠提供多樣化型號及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設備的長周期交付和難以定制的缺陷，這不僅影響了生產(chǎn)效率，還增加了企業(yè)的運營成本。 針對這一問題，維度光電決定立項光斑分析儀系列產(chǎn)品，旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知，只有通過自主和創(chuàng)新，才能打破國外設備的壟斷局面，為國內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此，我們致力于打造國內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌，以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號，還能夠根據(jù)客戶的實際需求進行定制化設計。無論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關領域，我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務。我們相信，通過我們的努力，能夠為國內(nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力，推動整個行業(yè)的進步。激光光斑的光斑尺寸、形狀、強度分布、M2因子、空間位置與穩(wěn)定性測試。維度光電自研光斑分析儀優(yōu)勢

有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產(chǎn)品？脈沖激光光斑分析儀原廠

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設計：掃描狹縫式側重高功率場景（千萬級功率），通過物理衰減機制實現(xiàn)安全測量，衰減級數(shù)達 10?:1，無需外置衰減片；相機式則主打?qū)捁庾V（200-2600nm）與實時成像功能，支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設備，其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上，可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑；M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析，通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法，可自動識別光斑模式，率達 99.7%，將人工分析效率提升 90%，單組數(shù)據(jù)處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。脈沖激光光斑分析儀原廠