維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價(jià)值賦能激光應(yīng)用: 效率提升:全自動(dòng)化檢測(cè)流程(10 秒完成參數(shù)采集 + 1 分鐘生成報(bào)告),幫助企業(yè)將光束調(diào)試周期縮短 80% 成本優(yōu)化:雙技術(shù)方案覆蓋全尺寸光斑,避免多設(shè)備購(gòu)置,典型客戶設(shè)備采購(gòu)成本降** 65% 質(zhì)量升級(jí):0.1μm 超高分辨率與 M2 因子分析,助力醫(yī)療激光設(shè)備能量均勻性提升至行業(yè) ±1.2% 典型應(yīng)用場(chǎng)景: 工業(yè):激光切割光束實(shí)時(shí)校準(zhǔn),減少 25% 的材料損耗 醫(yī)療:眼科激光手術(shù)光斑能量監(jiān)測(cè),保障臨床安全性 科研:超快激光脈沖特性,推動(dòng)新型激光器無干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。Dimension光斑分析儀發(fā)展
光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號(hào),結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評(píng)估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測(cè)量;相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時(shí)成像,支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標(biāo)配 M2 因子測(cè)試模塊,結(jié)合 BeamHere 軟件,可自動(dòng)計(jì)算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù),并生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。維度光電光斑分析儀相機(jī)式光斑分析儀都有哪些廠家?
Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號(hào),覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢(shì)如下: 寬光譜覆蓋與動(dòng)態(tài)分析 單臺(tái)設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測(cè)量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)分析。高幀率連續(xù)測(cè)量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動(dòng)態(tài)測(cè)試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測(cè)量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測(cè)功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡(jiǎn)化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級(jí)功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動(dòng)軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測(cè)與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。
維度光電國(guó)產(chǎn)光束質(zhì)量分析解決方案破局之路 國(guó)內(nèi)激光光束質(zhì)量分析市場(chǎng)長(zhǎng)期被歐美品牌壟斷,存在三大痛點(diǎn):產(chǎn)品型號(hào)單一(無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測(cè))、定制周期漫長(zhǎng)(3-6 個(gè)月周期)、服務(wù)響應(yīng)滯后(返廠維修影響生產(chǎn) 35 天 / 次)。 全場(chǎng)景產(chǎn)品矩陣 狹縫式:0.1μm 分辨率,直接測(cè) 10W 激光,支持 ±90° 任意角度掃描,滿足半導(dǎo)體加工等亞微米級(jí)需求 相機(jī)式:5.5μm 像元精度,6 片濾光片轉(zhuǎn)輪實(shí)現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測(cè),擅長(zhǎng)復(fù)雜光斑分析 定制化服務(wù):12 項(xiàng)定制選項(xiàng)(波長(zhǎng)擴(kuò)展、自動(dòng)化接口等),短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷,為智能制造、醫(yī)療科技等提供技術(shù)支撐。如何評(píng)判激光質(zhì)量的好壞?
選擇適合特定應(yīng)用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應(yīng)用場(chǎng)景及功能需求: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米級(jí)光斑(如半導(dǎo)體加工)優(yōu)先選擇狹縫式(支持 2.5μm 精度),毫米級(jí)光斑(如激光焊接)推薦相機(jī)式(覆蓋 10mm 量程)。 功率等級(jí):高功率激光(如工業(yè)切割)應(yīng)選狹縫式(直接測(cè)量近 10W),微瓦級(jí)弱光(如科研實(shí)驗(yàn))可采用相機(jī)式(通過 6 片衰減片適配)。 光束形態(tài):高斯或規(guī)則光斑兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟(jì)),非高斯光束(如貝塞爾光束)需相機(jī)式保留細(xì)節(jié)。 脈沖特性:?jiǎn)蚊}沖分析選相機(jī)式(觸發(fā)同步),連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式(需匹配掃描頻率)。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè)制造:高功率加工(>1W)選狹縫式,動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與大光斑校準(zhǔn)選相機(jī)式,組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設(shè)備:眼科準(zhǔn)分子激光需相機(jī)式實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式,確保手術(shù)精度。 :超短脈沖測(cè)量、復(fù)雜光束分析(如 M2 因子)依賴相機(jī)式,材料加工優(yōu)化可結(jié)合狹縫式高精度掃描。 光通信:光纖端面檢測(cè)選相機(jī)式分析光斑形態(tài),激光器表征適配狹縫式高靈敏度測(cè)量。極小光斑測(cè)量的光斑分析儀。光斑分析儀有哪些型號(hào)
激光光束質(zhì)量評(píng)判標(biāo)準(zhǔn),測(cè)量?jī)x器都有哪些。Dimension光斑分析儀發(fā)展
Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過國(guó)內(nèi)的雙模式切換技術(shù),實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測(cè)痛點(diǎn): 小光斑測(cè)量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),避免像素丟失 高功率檢測(cè):狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 激光,無需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測(cè) 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu),通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)效率,降**檢測(cè)成本。Dimension光斑分析儀發(fā)展