相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對(duì)比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式(2.5μm 精度) ≥55μm → 相機(jī)式(10mm 量程) 激光功率 ≥1W → 狹縫式(直接測(cè)量近 10W) ≤1W → 相機(jī)式(6 片衰減片適配) 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟(jì)) 非高斯 / 高階橫模 → 相機(jī)式(保留細(xì)節(jié)) 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機(jī)式(觸發(fā)同步) 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式(高精度掃描) 推薦組合: 場景:相機(jī)式 + 狹縫式組合,覆蓋全尺寸與復(fù)雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線:狹縫式(高功率)+ 相機(jī)式(動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)) 醫(yī)療設(shè)備:相機(jī)式(脈沖激光)+M2 模塊(光束質(zhì)量評(píng)估) 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案,支持快速切換檢測(cè)模式,幫助用戶降**設(shè)備購置成本與檢測(cè)周期。光斑的形狀和強(qiáng)度測(cè)量。光斑分析儀系統(tǒng)搭建
維度光電作為全球激光測(cè)量領(lǐng)域解決商,致力于打造 "三橫三縱" 產(chǎn)品矩陣: 橫向覆蓋: 光譜范圍:190-2700nm 全波段 光斑尺寸:0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級(jí):1μW-10W 全功率 縱向深度: 工業(yè)級(jí):支持產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)與自動(dòng)化對(duì)接 醫(yī)療級(jí):符合 ISO 13485 認(rèn)證,保障臨床精度 科研級(jí):開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢(shì): 同時(shí)提供雙技術(shù)方案的廠商(狹縫式 + 相機(jī)式) AI 算法庫支持光束質(zhì)量預(yù)測(cè)性維護(hù) 模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)設(shè)備功能動(dòng)態(tài)擴(kuò)展 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測(cè)量與分析。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀作用光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測(cè)量模塊;
維度光電的BeamHere光斑分析儀系列品類齊全。從精細(xì)的微小光斑分析到大面積的宏觀光斑探測(cè),從**能量到高能量密度的光斑測(cè)量,無一不在其覆蓋范圍之內(nèi)。無論是科研實(shí)驗(yàn)中對(duì)微小光斑現(xiàn)象的,需要超高分辨率的光斑分析;還是工業(yè)生產(chǎn)里對(duì)大功率激光加工光束質(zhì)量的把控,涉及高能量密度光斑的監(jiān)測(cè),BeamHere光斑分析儀都能出色勝任。 其應(yīng)用方案更是豐富多樣。在激光加工領(lǐng)域,可助力企業(yè)優(yōu)化切割、焊接工藝,確保光斑能量均勻分布,提高加工精度與效率;于生物醫(yī)學(xué)成像方面,能夠幫助科研人員清晰解析光學(xué)成像系統(tǒng)中的光斑特性,提升成像質(zhì)量與診斷性;在光通信行業(yè),為光信號(hào)的傳輸質(zhì)量檢測(cè)提供有力保障,確保數(shù)據(jù)傳輸?shù)母咚倥c穩(wěn)定。
維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列,整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線,為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供全場景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,支持 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),無需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析,可測(cè)量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求,兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場景。國產(chǎn)的 M2 因子測(cè)量模塊哪家強(qiáng)?
維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,保障了測(cè)試過程的安全與高效。為應(yīng)對(duì)更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測(cè)功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測(cè)量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應(yīng)對(duì) 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測(cè)量。同時(shí),其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測(cè)量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測(cè)支持。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選?束腰半徑光斑分析儀測(cè)量
光斑分析儀維護(hù)成本?維度光電遠(yuǎn)程指導(dǎo)維修,降低 80% 人工成本。光斑分析儀系統(tǒng)搭建
Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計(jì):掃描狹縫式側(cè)重高功率場景(千萬級(jí)功率),通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測(cè)量,衰減級(jí)數(shù)達(dá) 10?:1,無需外置衰減片;相機(jī)式則主打?qū)捁庾V(200-2600nm)與實(shí)時(shí)成像功能,支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備,其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上,可解析直徑小于 5μm 的亞微米級(jí)光斑;M2 測(cè)試模塊支持光束傳播特性動(dòng)態(tài)分析,通過滑軌式掃描獲取 100 + 測(cè)量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法,可自動(dòng)識(shí)別光斑模式,率達(dá) 99.7%,將人工分析效率提升 90%,單組數(shù)據(jù)處理時(shí)間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。光斑分析儀系統(tǒng)搭建