維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列，整合掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線，為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供全場(chǎng)景解決方案。 掃描狹縫式光斑分析儀刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，支持 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)，無(wú)需外置衰減片即可直接測(cè)量近 10W 高功率激光，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備等高能量場(chǎng)景。 相機(jī)式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段，支持 2D/3D 實(shí)時(shí)成像與動(dòng)態(tài)分析，可測(cè)量非高斯光束（如平頂、貝塞爾光束）。獨(dú)特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展，可拆卸結(jié)構(gòu)支持科研成像功能拓展。 M2 測(cè)試模塊適配全系產(chǎn)品，通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法測(cè)量光束傳播參數(shù)（M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等），結(jié)合 BeamHere 軟件實(shí)現(xiàn)一鍵生成報(bào)告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領(lǐng)域的光斑檢測(cè)需求，兼顧實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線在線監(jiān)測(cè)場(chǎng)景。微弱信號(hào)光斑如何檢測(cè)？維度光電動(dòng)態(tài)范圍增強(qiáng)算法，突破探測(cè)器極限，同步清晰成像。光斑位置光斑分析儀要多少錢(qián)

Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測(cè)中的組成部分,高效的測(cè)量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準(zhǔn)直等場(chǎng)景進(jìn)行檢驗(yàn)評(píng)估,并提供符ISO11146標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測(cè)試模塊,實(shí)現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置、光東發(fā)散角與M2因子的測(cè)量。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)行量化,并由軟件一鍵輸出測(cè)試報(bào)告,且高效的完成光束分析?？梢?jiàn)光光斑分析儀價(jià)格國(guó)產(chǎn)的 M2 因子測(cè)量模塊哪家強(qiáng)？

維度光電-光斑分析儀的使用 科研場(chǎng)景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過(guò)軟件 "時(shí)間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評(píng)估" 模塊，計(jì)算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長(zhǎng)、脈寬等實(shí)驗(yàn)參數(shù)，生成帶批注的報(bào)告。 工業(yè)場(chǎng)景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監(jiān)測(cè)" 模式。 實(shí)時(shí)顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當(dāng)檢測(cè)到光斑漂移超過(guò)閾值時(shí)，軟件自動(dòng)觸發(fā)警報(bào)并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報(bào)表，統(tǒng)計(jì)良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢(shì)。

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測(cè) 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測(cè)極限。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)三大優(yōu)勢(shì)： 雙模式自適應(yīng)檢測(cè) 通過(guò)軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無(wú)盲區(qū)。 高功率直接測(cè)量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過(guò)狹縫區(qū)域光，無(wú)需外置衰減片即可安全測(cè)量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪，通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝，通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，助力客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)精度與效率。用于激光加工測(cè)試的光斑質(zhì)量分析儀。

維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問(wèn)題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測(cè)量近 10W 高功率激光，保障了測(cè)試過(guò)程的安全與高效。為應(yīng)對(duì)更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片，可測(cè)功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝，有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測(cè)量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內(nèi)部?jī)善油哥R緊湊安裝，能應(yīng)對(duì) 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實(shí)現(xiàn)更高功率激光測(cè)量。同時(shí)，其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測(cè)量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測(cè)支持。光斑分析儀如何測(cè)量 M2 因子？激光發(fā)散角光斑分析儀購(gòu)買(mǎi)

激光發(fā)散角怎么測(cè)，維度光電M2測(cè)量系統(tǒng)。光斑位置光斑分析儀要多少錢(qián)

維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南： 1. 光束特性分析 光斑尺寸：亞微米用狹縫式（2.5μm 精度），毫米級(jí)用相機(jī)式（10mm 量程）。 功率等級(jí)：高功率用狹縫式（近 10W），微瓦級(jí)用相機(jī)式（適配衰減片）。 光束形態(tài)：高斯用狹縫式（經(jīng)濟(jì)），非高斯用相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)）。 脈沖特性：?jiǎn)蚊}沖用相機(jī)式（觸發(fā)同步），連續(xù)/高頻用狹縫式（匹配掃描頻率）。 2. 應(yīng)用場(chǎng)景適配 工業(yè)：高功率用狹縫式，動(dòng)態(tài)監(jiān)測(cè)與校準(zhǔn)用相機(jī)式，組合方案覆蓋全流程。 醫(yī)療：相機(jī)式監(jiān)測(cè)能量分布，脈沖激光適配觸發(fā)模式確保精度。 科研：超短脈沖與復(fù)雜光束分析用相機(jī)式，材料加工優(yōu)化結(jié)合狹縫式。 光通信：光纖檢測(cè)用相機(jī)式，激光器表征用狹縫式高靈敏度測(cè)量。 3. 功能擴(kuò)展規(guī)劃 單一需求：以光斑尺寸與功率為，如高功率 + 亞微米光斑選狹縫式。 復(fù)雜場(chǎng)景：雙技術(shù)組合（狹縫式 + 相機(jī)式），實(shí)現(xiàn)全場(chǎng)景覆蓋。 長(zhǎng)期規(guī)劃：科研機(jī)構(gòu)選全功能模塊（M2 因子測(cè)試、皮秒同步），工業(yè)用戶選基礎(chǔ)款 + 定制接口。光斑位置光斑分析儀要多少錢(qián)