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光斑分析儀基本參數(shù)
  • 品牌
  • 維度光電
  • 型號(hào)
  • 相機(jī)式/狹縫式光斑分析儀DL-BH
  • 尺寸
  • 29×29×30
  • 產(chǎn)地
  • 深圳
  • 可售賣地
  • 全球
  • 是否定制
  • 材質(zhì)
  • 鋁合金
  • 配送方式
  • 空運(yùn)
  • 波長(zhǎng)范圍(nm)
  • 400~1100/400~1700/900~2700nm
  • 可測(cè)光斑大小
  • 2.5~11um
  • 狹縫款測(cè)量模式
  • 狹縫/刀口
  • 狹縫掃描速度
  • 2~20hz
  • 功率范圍
  • 1uw~10w(可擴(kuò)展至1000W)
  • 相機(jī)款分辨率
  • 656×520/2048×2048
  • 相機(jī)像元尺寸
  • 5.5um
  • M2因子測(cè)試模塊波長(zhǎng)
  • 190~2700nm
  • M2因子測(cè)試模塊行程
  • 200mm
  • M2因子測(cè)試模塊透鏡焦距(mm)
  • 100
光斑分析儀企業(yè)商機(jī)

使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無(wú)畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過(guò)數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(hào)(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過(guò)不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長(zhǎng)校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測(cè)量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)加密存儲(chǔ)于本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù),支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。工業(yè)光斑檢測(cè)儀如何選?維度光電;遠(yuǎn)紅外光斑分析儀發(fā)展

光斑分析儀

維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案應(yīng)用場(chǎng)景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測(cè)保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;M2 因子模塊校準(zhǔn)醫(yī)用激光設(shè)備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測(cè)量加速非線性光學(xué)實(shí)驗(yàn)進(jìn)展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測(cè)。 新興領(lǐng)域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動(dòng)作物改良。 優(yōu)勢(shì): 全場(chǎng)景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機(jī)式(脈沖 / 復(fù)雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動(dòng)識(shí)別光斑異常,生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。 模塊化擴(kuò)展:支持 M2 因子測(cè)試、寬光譜適配等功能升級(jí)。維度光電自研光斑分析儀網(wǎng)站如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量?

遠(yuǎn)紅外光斑分析儀發(fā)展,光斑分析儀

維度光電針對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)上的諸多行業(yè)痛點(diǎn),隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國(guó)內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域,長(zhǎng)期以來(lái)存在著一個(gè)的問(wèn)題,那就是缺乏能夠提供多樣化型號(hào)及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長(zhǎng)期受限于國(guó)外設(shè)備的長(zhǎng)周期交付和難以定制的缺陷,這不僅影響了生產(chǎn)效率,還增加了企業(yè)的運(yùn)營(yíng)成本。 針對(duì)這一問(wèn)題,維度光電決定立項(xiàng)光斑分析儀系列產(chǎn)品,旨在解決這一行業(yè)難題。我們深知,只有通過(guò)自主和創(chuàng)新,才能打破國(guó)外設(shè)備的壟斷局面,為國(guó)內(nèi)企業(yè)提供更加高效、便捷的光束質(zhì)量分析解決方案。因此,我們致力于打造國(guó)內(nèi)專業(yè)、多面的光束質(zhì)量分析儀品牌,以滿足不同企業(yè)的需求。 我們的光斑分析儀系列產(chǎn)品不僅具備多樣化的型號(hào),還能夠根據(jù)客戶的實(shí)際需求進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)。無(wú)論是激光加工、激光醫(yī)療、激光科研還是其他相關(guān)領(lǐng)域,我們的產(chǎn)品都能提供、高效的光束質(zhì)量分析服務(wù)。我們相信,通過(guò)我們的努力,能夠?yàn)閲?guó)內(nèi)激光行業(yè)的發(fā)展注入新的活力,推動(dòng)整個(gè)行業(yè)的進(jìn)步。

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過(guò)硬件與軟件協(xié)同工作,可測(cè)量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評(píng)估模塊,可對(duì)聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測(cè)試功能,實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動(dòng)態(tài)分析。所有檢測(cè)數(shù)據(jù)均通過(guò)軟件進(jìn)行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。脈沖激光光束質(zhì)量怎么測(cè)檢測(cè)?維度光電,超快激光器研發(fā)利器。

遠(yuǎn)紅外光斑分析儀發(fā)展,光斑分析儀

如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,打開(kāi) BeamHere 軟件等待設(shè)備識(shí)別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開(kāi)啟激光器預(yù)熱 10 分鐘,點(diǎn)擊軟件 "開(kāi)始采集" 按鈕。實(shí)時(shí)觀察 2D 成像界面,確保光斑無(wú)過(guò)曝或欠曝,可通過(guò)轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級(jí)分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動(dòng)計(jì)算光斑尺寸(±0.5μm 精度)、能量均勻性(CV 值)及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢(shì)縮放,便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗(yàn)證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對(duì)比多次測(cè)量數(shù)據(jù),使用 "統(tǒng)計(jì)分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,可調(diào)用 "單點(diǎn)測(cè)量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報(bào)告 在 "報(bào)告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動(dòng)生成帶水印的 PDF 報(bào)告,包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢(shì)圖表及 QC 判定結(jié)果。半導(dǎo)體行業(yè)激光光束質(zhì)量檢測(cè)方案。激光聚焦直徑光斑分析儀廠家

極小光斑測(cè)量的光斑分析儀。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀發(fā)展

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè),具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測(cè)量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。遠(yuǎn)紅外光斑分析儀發(fā)展

與光斑分析儀相關(guān)的**
與光斑分析儀相關(guān)的標(biāo)簽
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