維度光電國產光束質量分析解決方案破局之路 國內激光光束質量分析市場長期被歐美品牌壟斷,存在三大痛點:產品型號單一(無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測)、定制周期漫長(3-6 個月周期)、服務響應滯后(返廠維修影響生產 35 天 / 次)。 全場景產品矩陣 狹縫式:0.1μm 分辨率,直接測 10W 激光,支持 ±90° 任意角度掃描,滿足半導體加工等亞微米級需求 相機式:5.5μm 像元精度,6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測,擅長復雜光斑分析 定制化服務:12 項定制選項(波長擴展、自動化接口等),短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷,為智能制造、醫(yī)療科技等提供技術支撐。光束發(fā)散角應該如何測量。近場光斑光斑分析儀優(yōu)勢
Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標準的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產品內置光束整形評估模塊,可對聚焦光斑形態(tài)、準直系統(tǒng)性能進行量化檢驗。用戶可根據(jù)需求擴展 M2 測試功能,實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化測試報告。 產品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。可見光光斑分析儀廠家高功率激光光束質量怎么測?
Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構光斑分析標準:狹縫 - 刀口雙模式切換技術,突破傳統(tǒng)設備量程限制,切換時間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應,量子效率達 85%; AI 驅動的光斑模式識別算法,率達 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產品支持 M2 因子在線測試,測量重復性達 ±0.5%,結合工業(yè)級防護設計,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認證,滿足嚴苛場景需求。產品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認證。
Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設計:掃描狹縫式側重高功率場景(千萬級功率),通過物理衰減機制實現(xiàn)安全測量,衰減級數(shù)達 10?:1,無需外置衰減片;相機式則主打寬光譜(200-2600nm)與實時成像功能,支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設備,其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上,可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑;M2 測試模塊支持光束傳播特性動態(tài)分析,通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法,可自動識別光斑模式,率達 99.7%,將人工分析效率提升 90%,單組數(shù)據(jù)處理時間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產品?
Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀,通過配套通用軟件構建完整光束質量評估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測繪、發(fā)散角測量及 M2 因子計算三大功能,可有效分析光束整形、聚焦及準直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標準,包括光斑寬度、質心偏移量和橢圓率等指標。用戶可選配 M2 測試模塊,實現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測量及 M2 因子計算,終通過軟件一鍵生成標準化測試報告。BeamHere把對于激光光束的評價進?量化,并由軟件?鍵輸出測試報告,精確且?效的完成光束分析。如何評判激光質量的好壞?光斑分析儀作用
無干涉條紋的光斑質量分析儀。近場光斑光斑分析儀優(yōu)勢
維度光電作為全球激光測量領域解決商,致力于打造 "三橫三縱" 產品矩陣: 橫向覆蓋: 光譜范圍:190-2700nm 全波段 光斑尺寸:0.1μm-10mm 全尺寸 功率等級:1μW-10W 全功率 縱向深度: 工業(yè)級:支持產線在線監(jiān)測與自動化對接 醫(yī)療級:符合 ISO 13485 認證,保障臨床精度 科研級:開放 API 接口支持自定義算法 差異化優(yōu)勢: 同時提供雙技術方案的廠商(狹縫式 + 相機式) AI 算法庫支持光束質量預測性維護 模塊化設計實現(xiàn)設備功能動態(tài)擴展 適合各類激光應用中激光光束質量測量與分析。近場光斑光斑分析儀優(yōu)勢