Dimension-Labs 推出的相機式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學系統(tǒng)調試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設備的局限性。 功率調節(jié)系統(tǒng) 標配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨特的轉輪結構實現(xiàn)功率范圍擴展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設計簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設計,光斑分析相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴展應用,實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。國產光斑分析儀哪個好?維度光電光斑分析儀全系列??梢姽夤獍叻治鰞x光斑測試
Dimension-Labs 維度光電相機式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時檢測。其優(yōu)勢包括: 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示,高幀率(100fps)連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化,3D 視圖支持任意角度旋轉分析,為光學系統(tǒng)調試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復雜光斑適應性 基于面陣傳感器技術,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設備的局限性。 功率調節(jié) 標配 6 片不同衰減率的濾光片(0.1%-100%),通過轉輪結構實現(xiàn)一鍵切換,可測功率達 10W/cm2,滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴展性 采用模塊化設計,相機與濾光片轉輪可分離使用。拆卸后的相機兼容通用驅動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴展應用,實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機多用。維度科技光斑分析儀怎么樣多光斑光束質量測量系統(tǒng)。
BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動校準、光斑模式智能識別、M2 因子三維重建。通過機器學習算法,可自動補償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面,用戶可實時查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動分析。軟件內置模板庫,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標準化報告,支持 PDF/Excel/XML 多格式導出,并支持數(shù)據(jù)追溯與批量處理,歷史數(shù)據(jù)可自動關聯(lián)測試條件,縮短測試周期。企業(yè)版支持用戶權限分級管理與數(shù)據(jù)加密。
維度光電深刻認識到高功率光束檢測在激光應用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測成為激光應用的難點。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機制,可直接測量近 10W 高功率激光,保障了測試過程的安全與高效。為應對更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設計和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內部兩片取樣透鏡緊湊安裝,能應對 400W 功率光束,多面體結構便于工業(yè)或實驗環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實現(xiàn)更高功率激光測量。同時,其緊湊結構設計的取樣光程滿足聚焦光斑測量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產提供了強大的檢測支持。國產光斑分析儀廠家有哪些?維度光電深耕18年。
維度光電 BeamHere 系列為激光光束質量檢測提供高性價比解決方案: 掃描狹縫式:國內刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機式:400-1700nm 寬譜響應,支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉輪設計擴展功率量程,可拆卸結構兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標準算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標準化報告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設計實現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產品質量。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選?國內光斑分析儀有哪些型號
激光發(fā)散角怎么測,維度光電M2測量系統(tǒng)??梢姽夤獍叻治鰞x光斑測試
Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構光斑分析標準:狹縫 - 刀口雙模式切換技術,突破傳統(tǒng)設備量程限制,切換時間小于 50ms;高動態(tài)范圍傳感器,實現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應,量子效率達 85%; AI 驅動的光斑模式識別算法,率達 99.7%,可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產品支持 M2 因子在線測試,測量重復性達 ±0.5%,結合工業(yè)級防護設計,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作,通過 IP65 防塵防水認證,滿足嚴苛場景需求。產品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認證??梢姽夤獍叻治鰞x光斑測試