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光斑分析儀基本參數(shù)
  • 品牌
  • 維度光電
  • 型號(hào)
  • 相機(jī)式/狹縫式光斑分析儀DL-BH
  • 尺寸
  • 29×29×30
  • 產(chǎn)地
  • 深圳
  • 可售賣地
  • 全球
  • 是否定制
  • 材質(zhì)
  • 鋁合金
  • 配送方式
  • 空運(yùn)
  • 波長(zhǎng)范圍(nm)
  • 400~1100/400~1700/900~2700nm
  • 可測(cè)光斑大小
  • 2.5~11um
  • 狹縫款測(cè)量模式
  • 狹縫/刀口
  • 狹縫掃描速度
  • 2~20hz
  • 功率范圍
  • 1uw~10w(可擴(kuò)展至1000W)
  • 相機(jī)款分辨率
  • 656×520/2048×2048
  • 相機(jī)像元尺寸
  • 5.5um
  • M2因子測(cè)試模塊波長(zhǎng)
  • 190~2700nm
  • M2因子測(cè)試模塊行程
  • 200mm
  • M2因子測(cè)試模塊透鏡焦距(mm)
  • 100
光斑分析儀企業(yè)商機(jī)

使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:?jiǎn)?dòng)激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時(shí)傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHere 軟件自動(dòng)處理數(shù)據(jù),計(jì)算光斑參數(shù)和光束質(zhì)量參數(shù),支持 2D/3D 視圖。 結(jié)果展示:軟件以圖表和數(shù)值展示結(jié)果,一鍵生成包含所有數(shù)據(jù)的測(cè)試報(bào)告,便于導(dǎo)出和打印。 這些步驟幫助用戶測(cè)量光斑和光束質(zhì)量,支持激光技術(shù)。如何評(píng)判激光質(zhì)量的好壞?Dimension-labs光斑分析儀

光斑分析儀

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國(guó)內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,可測(cè) 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測(cè)極限。其創(chuàng)新設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)三大優(yōu)勢(shì): 雙模式自適應(yīng)檢測(cè) 通過(guò)軟件切換刀口 / 狹縫模式,分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,全量程無(wú)盲區(qū)。 高功率直接測(cè)量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過(guò)狹縫區(qū)域光,無(wú)需外置衰減片即可安全測(cè)量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率,完整捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪,通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)精度與效率。大功率光斑分析儀用于準(zhǔn)直器生產(chǎn)的光斑質(zhì)量分析儀。

Dimension-labs光斑分析儀,光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過(guò)國(guó)內(nèi)的雙模式切換技術(shù),實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測(cè)痛點(diǎn): 小光斑測(cè)量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),避免像素丟失 高功率檢測(cè):狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 激光,無(wú)需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測(cè) 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu),通過(guò)旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計(jì)適配多場(chǎng)景安裝,通過(guò) CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測(cè)效率,降**檢測(cè)成本。

Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測(cè)中的組成部分,高效的測(cè)量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準(zhǔn)直等場(chǎng)景進(jìn)行檢驗(yàn)評(píng)估,并提供符ISO11146標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測(cè)試模塊,實(shí)現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置、光東發(fā)散角與M2因子的測(cè)量。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)行量化,并由軟件一鍵輸出測(cè)試報(bào)告,且高效的完成光束分析。有沒(méi)有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊產(chǎn)品?

Dimension-labs光斑分析儀,光斑分析儀

維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問(wèn)題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測(cè)量近 10W 高功率激光,保障了測(cè)試過(guò)程的安全與高效。為應(yīng)對(duì)更高功率,又推出單次和雙次取樣配件,可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片,可測(cè)功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1,取樣率 4% - 5%,采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)和 C 口安裝,有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測(cè)量不同角度入射激光;雙次取樣配件 DL - LBA - 2,取樣率 0.16% - 0.25%,內(nèi)部?jī)善油哥R緊湊安裝,能應(yīng)對(duì) 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒?yàn)環(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度,實(shí)現(xiàn)更高功率激光測(cè)量。同時(shí),其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的取樣光程滿足聚焦光斑測(cè)量,單次 68mm,雙次 53mm,為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測(cè)支持。光斑分析儀國(guó)產(chǎn)替代都有哪些廠家?光斑分析儀怎么收費(fèi)

可用于產(chǎn)線檢測(cè)的光斑分析儀。Dimension-labs光斑分析儀

光斑分析儀通過(guò)光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號(hào),結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評(píng)估。其傳感器采用量子阱材料設(shè)計(jì),響應(yīng)速度達(dá) 0.1μs,可捕捉皮秒級(jí)激光脈沖。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過(guò) 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測(cè)量,配合動(dòng)態(tài)增益補(bǔ)償技術(shù),在千萬(wàn)級(jí)功率下仍保持線性響應(yīng);相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時(shí)成像,支持 200-2600nm 全光譜覆蓋,像素分辨率達(dá) 1280×1024,動(dòng)態(tài)范圍達(dá) 60dB。全系標(biāo)配 M2 因子測(cè)試模塊,結(jié)合 BeamHere 軟件,可自動(dòng)計(jì)算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù),并通過(guò)高斯擬合算法將測(cè)量誤差控制在 ±0.8% 以內(nèi),終生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)試報(bào)告。Dimension-labs光斑分析儀

與光斑分析儀相關(guān)的**
與光斑分析儀相關(guān)的標(biāo)簽
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