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光斑分析儀基本參數(shù)
  • 品牌
  • 維度光電
  • 型號(hào)
  • 相機(jī)式/狹縫式光斑分析儀DL-BH
  • 尺寸
  • 29×29×30
  • 產(chǎn)地
  • 深圳
  • 可售賣(mài)地
  • 全球
  • 是否定制
  • 材質(zhì)
  • 鋁合金
  • 配送方式
  • 空運(yùn)
  • 波長(zhǎng)范圍(nm)
  • 400~1100/400~1700/900~2700nm
  • 可測(cè)光斑大小
  • 2.5~11um
  • 狹縫款測(cè)量模式
  • 狹縫/刀口
  • 狹縫掃描速度
  • 2~20hz
  • 功率范圍
  • 1uw~10w(可擴(kuò)展至1000W)
  • 相機(jī)款分辨率
  • 656×520/2048×2048
  • 相機(jī)像元尺寸
  • 5.5um
  • M2因子測(cè)試模塊波長(zhǎng)
  • 190~2700nm
  • M2因子測(cè)試模塊行程
  • 200mm
  • M2因子測(cè)試模塊透鏡焦距(mm)
  • 100
光斑分析儀企業(yè)商機(jī)

維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案應(yīng)用場(chǎng)景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測(cè)保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;M2 因子模塊校準(zhǔn)醫(yī)用激光設(shè)備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測(cè)量加速非線性光學(xué)實(shí)驗(yàn)進(jìn)展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測(cè)。 新興領(lǐng)域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動(dòng)作物改良。 優(yōu)勢(shì): 全場(chǎng)景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機(jī)式(脈沖 / 復(fù)雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動(dòng)識(shí)別光斑異常,生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。 模塊化擴(kuò)展:支持 M2 因子測(cè)試、寬光譜適配等功能升級(jí)。用于千瓦光斑測(cè)量的大功率配件。維度光電光斑分析儀系統(tǒng)搭建

光斑分析儀

Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測(cè)中的組成部分,高效的測(cè)量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,能夠?qū)馐?、聚焦光斑與光束準(zhǔn)直等場(chǎng)景進(jìn)行檢驗(yàn)評(píng)估,并提供符ISO11146標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的光斑參數(shù),如光東寬度、峰值中心與橢圓率等。系列產(chǎn)品均可選配M2因子測(cè)試模塊,實(shí)現(xiàn)光東傳播方向上的束腰位置、光東發(fā)散角與M2因子的測(cè)量。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)行量化,并由軟件一鍵輸出測(cè)試報(bào)告,且高效的完成光束分析。國(guó)產(chǎn)光斑分析儀性能M2因子測(cè)量模塊,兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測(cè)試。

維度光電光斑分析儀系統(tǒng)搭建,光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號(hào),覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢(shì)如下: 寬光譜覆蓋與動(dòng)態(tài)分析 單臺(tái)設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測(cè)量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)分析。高幀率連續(xù)測(cè)量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動(dòng)態(tài)測(cè)試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測(cè)量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過(guò)獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測(cè)功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡(jiǎn)化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級(jí)功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動(dòng)軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測(cè)與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。

Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質(zhì)量分析系統(tǒng),針對(duì)激光加工、醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域的光束質(zhì)量評(píng)估需求。該系列產(chǎn)品通過(guò)多維度檢測(cè)模塊,可對(duì)光束能量分布進(jìn)行實(shí)時(shí)可視化分析,同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數(shù)。支持光束整形效果驗(yàn)證、聚焦光斑優(yōu)化及準(zhǔn)直系統(tǒng)校準(zhǔn)三大典型應(yīng)用場(chǎng)景,所有測(cè)試結(jié)果均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)。可選配的 M2 測(cè)試模塊可實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的全程分析,終由軟件自動(dòng)生成量化評(píng)估報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量?

維度光電光斑分析儀系統(tǒng)搭建,光斑分析儀

Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率等級(jí)、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度。相機(jī)式基于面陣傳感器成像,可測(cè)大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配)實(shí)現(xiàn) 1W 功率測(cè)量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測(cè),通過(guò)面陣實(shí)時(shí)反饋保留復(fù)雜形態(tài)細(xì)節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測(cè)小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測(cè)量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測(cè),但需嚴(yán)格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復(fù)雜光斑會(huì)因狹縫累加導(dǎo)致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術(shù)方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機(jī))、功率等級(jí)(高功率選狹縫,微瓦級(jí)選相機(jī))及光斑類型(復(fù)雜形態(tài)選相機(jī),高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實(shí)現(xiàn)光斑檢測(cè)全場(chǎng)景覆蓋。無(wú)干涉條紋的光斑質(zhì)量分析儀。維度光斑分析儀發(fā)展

可用于產(chǎn)線檢測(cè)的光斑分析儀。維度光電光斑分析儀系統(tǒng)搭建

Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺(tái),通過(guò)模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測(cè)。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列,可實(shí)時(shí)測(cè)繪光斑能量分布,同步計(jì)算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對(duì)光束整形、聚焦優(yōu)化等場(chǎng)景,系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板,支持 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出。可選配的 M2 測(cè)試模塊通過(guò)滑軌式掃描技術(shù),實(shí)現(xiàn)光束傳播特性的三維重建,終由 AI 算法自動(dòng)生成包含能量集中度、橢圓率等 20 + 參數(shù)的測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件。 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。維度光電光斑分析儀系統(tǒng)搭建

與光斑分析儀相關(guān)的**
與光斑分析儀相關(guān)的標(biāo)簽
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