維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案基于兩大技術(shù)平臺(tái)： 掃描狹縫式系統(tǒng)：采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)，通過(guò) ±90° 旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn) XY 軸同步掃描，結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換，突破亞微米級(jí)光斑檢測(cè)極限。光學(xué)系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測(cè)器，配合高斯擬合算法，實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測(cè)量重復(fù)性。 相機(jī)式成像系統(tǒng)：搭載背照式 CMOS 傳感器（量子效率 95%@500-1000nm），結(jié)合非球面透鏡組消除畸變，支持皮秒級(jí)觸發(fā)同步與全局快門(mén)技術(shù)，捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過(guò)二階矩法計(jì)算 M2 因子，測(cè)量精度達(dá) ±0.3%。 創(chuàng)新突破： 狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級(jí)激光直接測(cè)量 面陣傳感器動(dòng)態(tài)范圍擴(kuò)展技術(shù)支持 1μW-1W 寬功率檢測(cè) AI 缺陷診斷模型自動(dòng)識(shí)別光斑異常（率 97.2%）用于千瓦光斑測(cè)量的大功率配件。國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀操作

維度光電-BeamHere光斑分析儀通過(guò)測(cè)量光束質(zhì)量參數(shù)，為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。工業(yè)加工中，其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)能力幫助優(yōu)化切割、焊接與打標(biāo)工藝，確保光束輪廓一致性，保障加工質(zhì)量。醫(yī)療領(lǐng)域用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備校準(zhǔn)，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光束能量分布，確保手術(shù)安全性?？蒲袌?chǎng)景中支持皮秒級(jí)脈沖激光測(cè)量，為物理與材料提供高精度數(shù)據(jù)，推動(dòng)新型激光器件。光通信領(lǐng)域可實(shí)現(xiàn)光纖端面光斑形態(tài)分析，保障光信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。農(nóng)業(yè)與生命中，通過(guò)分析激光誘變育種光束參數(shù)，優(yōu)化植物生長(zhǎng)調(diào)控效率。全系產(chǎn)品覆蓋200-2600nm寬光譜，支持千萬(wàn)級(jí)功率測(cè)量，結(jié)合M2因子測(cè)試模塊與AI分析軟件，為各行業(yè)提供從光斑形態(tài)到傳播特性的全鏈路檢測(cè)方案，助力客戶提升產(chǎn)品性能與生產(chǎn)效率。狹縫光斑分析儀發(fā)展激光發(fā)散角怎么測(cè)，維度光電M2測(cè)量系統(tǒng)。

Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過(guò)硬件與軟件協(xié)同工作，可測(cè)量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評(píng)估模塊，可對(duì)聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測(cè)試功能，實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動(dòng)態(tài)分析。所有檢測(cè)數(shù)據(jù)均通過(guò)軟件進(jìn)行智能處理，一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)： 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡(jiǎn)單易用，一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。

在激光應(yīng)用領(lǐng)域，高功率光束檢測(cè)一直是個(gè)難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏，在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會(huì)飽和，常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度，不衰減光束不僅無(wú)法測(cè)量光斑信息，還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測(cè)量近 10W 的高功率激光，無(wú)需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上，還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件，可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配，可測(cè)功率超 1000W。單次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 1，45° 傾斜設(shè)計(jì)，取樣率 4% - 5%，有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu)，能測(cè)量任意角度入射激光；雙次取樣配件型號(hào) DL - LBA - 2，內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡，取樣率 0.16% - 0.25%，可應(yīng)對(duì) 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)有多個(gè)支撐安裝孔位。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光，大衰減程度達(dá) 10??。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測(cè)量需求，單次取樣 68mm，雙次取樣 53mm，為各類(lèi)激光應(yīng)用場(chǎng)景的檢測(cè)提供了方案。國(guó)產(chǎn)光斑分析儀哪個(gè)好？維度光電光斑分析儀全系列。

Dimension-Labs 推出 Beamhere 系列光斑分析儀，通過(guò)配套通用軟件構(gòu)建完整光束質(zhì)量評(píng)估體系。該系統(tǒng)集成光斑能量分布測(cè)繪、發(fā)散角測(cè)量及 M2 因子計(jì)算三大功能，可有效分析光束整形、聚焦及準(zhǔn)直效果。所有參數(shù)均符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)，包括光斑寬度、質(zhì)心偏移量和橢圓率等指標(biāo)。用戶可選配 M2 測(cè)試模塊，實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰定位、發(fā)散角測(cè)量及 M2 因子計(jì)算，終通過(guò)軟件一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。BeamHere把對(duì)于激光光束的評(píng)價(jià)進(jìn)?量化，并由軟件?鍵輸出測(cè)試報(bào)告，精確且?效的完成光束分析。M2因子測(cè)量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測(cè)試。光束質(zhì)量光斑分析儀測(cè)量

光斑分析儀應(yīng)該怎么選？國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀操作

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供高性價(jià)比解決方案： 掃描狹縫式：國(guó)內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測(cè) 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級(jí)高功率直接測(cè)量，無(wú)需外置衰減片。 相機(jī)式：400-1700nm 寬譜響應(yīng)，支持實(shí)時(shí) 2D/3D 成像與非高斯光束測(cè)量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程，可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測(cè)與科研成像需求。 M2 測(cè)試模塊：通過(guò) ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法，測(cè)量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場(chǎng)景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測(cè)，助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。國(guó)產(chǎn)化光斑分析儀操作