維度光電深刻認(rèn)識到高功率光束檢測在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會飽和，而常規(guī)激光器功率普遍較高，這使得大功率光束檢測成為激光應(yīng)用的難點。為解決這一問題，維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。掃描狹縫式光斑分析儀憑借創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制，可直接測量近 10W 高功率激光，保障了測試過程的安全與高效。為應(yīng)對更高功率，又推出單次和雙次取樣配件，可疊加使用形成多次取樣系統(tǒng)。搭配合適衰減片，可測功率超 1000W。單次取樣配件 DL - LBA - 1，取樣率 4% - 5%，采用 45° 傾斜設(shè)計和 C 口安裝，有鎖緊環(huán)可固定在任意方向測量不同角度入射激光；雙次取樣配件 DL - LBA - 2，取樣率 0.16% - 0.25%，內(nèi)部兩片取樣透鏡緊湊安裝，能應(yīng)對 400W 功率光束，多面體結(jié)構(gòu)便于工業(yè)或?qū)嶒灜h(huán)境安裝。組合安裝配件可獲得高衰減程度，實現(xiàn)更高功率激光測量。同時，其緊湊結(jié)構(gòu)設(shè)計的取樣光程滿足聚焦光斑測量，單次 68mm，雙次 53mm，為激光生產(chǎn)提供了強(qiáng)大的檢測支持。多光斑光束質(zhì)量怎么測？脈沖激光光斑分析儀優(yōu)勢

Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)，覆蓋 190-2700nm 寬光譜，可測 2.5μm-10mm 光束直徑，0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢： 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式，分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布，全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過狹縫區(qū)域光，無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率，完整捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)，避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認(rèn)證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。脈沖激光光斑分析儀優(yōu)勢M2因子測量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測試。

相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度： 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式（2.5μm 精度） ≥55μm → 相機(jī)式（10mm 量程） 激光功率 ≥1W → 狹縫式（直接測量近 10W） ≤1W → 相機(jī)式（6 片衰減片適配） 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可（狹縫式更經(jīng)濟(jì)） 非高斯 / 高階橫模 → 相機(jī)式（保留細(xì)節(jié)） 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機(jī)式（觸發(fā)同步） 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式（高精度掃描） 推薦組合： 場景：相機(jī)式 + 狹縫式組合，覆蓋全尺寸與復(fù)雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線：狹縫式（高功率）+ 相機(jī)式（動態(tài)監(jiān)測） 醫(yī)療設(shè)備：相機(jī)式（脈沖激光）+M2 模塊（光束質(zhì)量評估） 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案，支持快速切換檢測模式，幫助用戶降**設(shè)備購置成本與檢測周期。

光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號，結(jié)合算法分析實現(xiàn)光束質(zhì)量評估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機(jī)式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標(biāo)配 M2 因子測試模塊，結(jié)合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的測試報告。 產(chǎn)品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。光斑分析儀搭配什么 M2 因子測量模塊好？

維度光電提供光束質(zhì)量測量解決方案，適用于工業(yè)、醫(yī)療、科研等多個領(lǐng)域。在工業(yè)制造中，用于激光切割和焊接的狹縫式分析儀能實時監(jiān)測激光束能量分布，優(yōu)化加工精度；半導(dǎo)體加工中，超高分辨率檢測技術(shù)支持晶圓劃片工藝優(yōu)化。醫(yī)療健康方面，相機(jī)式分析儀用于眼科手術(shù)中激光參數(shù)優(yōu)化，保障手術(shù)安全；M2因子模塊用于醫(yī)療激光設(shè)備校準(zhǔn)。領(lǐng)域，雙技術(shù)組合用于解析飛秒激光特性，支持非線性光學(xué)。光通信領(lǐng)域，相機(jī)式分析儀優(yōu)化光器件耦合效率，狹縫式分析儀確保激光器性能一致性。新興領(lǐng)域如光鑷系統(tǒng)和激光育種也受益于該方案。方案特點包括全場景適配、智能分析軟件和模塊化擴(kuò)展，以滿足不同需求和長期升級。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量？Dimension光斑分析儀系統(tǒng)搭建

光斑的形狀和強(qiáng)度測量。脈沖激光光斑分析儀優(yōu)勢

維度光電聚焦激光領(lǐng)域應(yīng)用，推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質(zhì)量測量解決方案。全系產(chǎn)品包含掃描狹縫式與相機(jī)式兩大技術(shù)平臺：狹縫式通過正交狹縫轉(zhuǎn)動輪實現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率，可直接測量近 10W 激光，適用于半導(dǎo)體晶圓切割等亞微米級場景；相機(jī)式采用面陣傳感器實時捕獲光斑形態(tài)，支持皮秒級觸發(fā)同步，分析脈沖激光能量分布。技術(shù)突破包括：基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的 M2 因子算法，實現(xiàn)光束發(fā)散角、束腰位置等 18 項參數(shù)測量；AI 缺陷診斷系統(tǒng)自動識別光斑異常，率達(dá) 97.2%。在工業(yè)實戰(zhàn)中，狹縫式設(shè)備通過實時監(jiān)測光斑橢圓率，幫助某汽車零部件廠商將激光切割合格率提升至 99.6%；科研場景下，相機(jī)式與 M2 模塊組合成功解析飛秒激光傳輸特性，相關(guān)成果發(fā)表于《Nature Photonics》。針對不同需求，維度光電提供 "檢測設(shè)備 + 自動化接口 + 云平臺" 工業(yè)方案及 "全功能主機(jī) + 定制模塊" 科研方案，助力客戶縮短周期 40% 以上。未來將多模態(tài)融合設(shè)備與手持式分析儀，推動激光測量技術(shù)智能化升級。脈沖激光光斑分析儀優(yōu)勢