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光斑分析儀基本參數(shù)
  • 品牌
  • 維度光電
  • 型號(hào)
  • 相機(jī)式/狹縫式光斑分析儀DL-BH
  • 尺寸
  • 29×29×30
  • 產(chǎn)地
  • 深圳
  • 可售賣地
  • 全球
  • 是否定制
  • 材質(zhì)
  • 鋁合金
  • 配送方式
  • 空運(yùn)
  • 波長(zhǎng)范圍(nm)
  • 400~1100/400~1700/900~2700nm
  • 可測(cè)光斑大小
  • 2.5~11um
  • 狹縫款測(cè)量模式
  • 狹縫/刀口
  • 狹縫掃描速度
  • 2~20hz
  • 功率范圍
  • 1uw~10w(可擴(kuò)展至1000W)
  • 相機(jī)款分辨率
  • 656×520/2048×2048
  • 相機(jī)像元尺寸
  • 5.5um
  • M2因子測(cè)試模塊波長(zhǎng)
  • 190~2700nm
  • M2因子測(cè)試模塊行程
  • 200mm
  • M2因子測(cè)試模塊透鏡焦距(mm)
  • 100
光斑分析儀企業(yè)商機(jī)

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測(cè)提供高性價(jià)比解決方案: 掃描狹縫式:國(guó)內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測(cè) 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級(jí)高功率直接測(cè)量,無需外置衰減片。 相機(jī)式:400-1700nm 寬譜響應(yīng),支持實(shí)時(shí) 2D/3D 成像與非高斯光束測(cè)量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測(cè)與科研成像需求。 M2 測(cè)試模塊:通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,測(cè)量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場(chǎng)景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測(cè),助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。近場(chǎng)光斑測(cè)試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級(jí)。相機(jī)光斑分析儀怎么收費(fèi)

光斑分析儀

使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(hào)(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長(zhǎng)校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測(cè)量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測(cè)量數(shù)據(jù)自動(dòng)加密存儲(chǔ)于本地?cái)?shù)據(jù)庫(kù),支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。光束直徑光斑分析儀廠家激光發(fā)散角怎么測(cè),維度光電M2測(cè)量系統(tǒng)。

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維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場(chǎng)景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測(cè)量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測(cè),具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測(cè)量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測(cè)試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測(cè)和準(zhǔn)直監(jiān)測(cè)。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,通過 CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。

Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號(hào),覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢(shì)如下: 寬光譜覆蓋與動(dòng)態(tài)分析 單臺(tái)設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測(cè)量需求,支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)分析。高幀率連續(xù)測(cè)量模式下,可實(shí)時(shí)捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動(dòng)態(tài)測(cè)試及時(shí)間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測(cè)量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測(cè)功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡(jiǎn)化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級(jí)功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動(dòng)軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測(cè)與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。Z-block 器件生產(chǎn)檢驗(yàn)中的光斑分析儀質(zhì)量檢測(cè)。

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Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測(cè)量光斑能量分布、發(fā)散角及 M2 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評(píng)估模塊,可對(duì)聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M2 測(cè)試功能,實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動(dòng)態(tài)分析。所有檢測(cè)數(shù)據(jù)均通過軟件進(jìn)行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測(cè)試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì): 滿足測(cè)試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測(cè)試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡(jiǎn)單易用,一鍵輸出測(cè)試報(bào)告。光斑分析儀都有哪些類型?脈沖激光光斑分析儀制造商

如何利用光斑分析儀和 M2 因子測(cè)量模塊評(píng)估激光質(zhì)量?相機(jī)光斑分析儀怎么收費(fèi)

針對(duì)光通信領(lǐng)域,Dimension-Labs 提供多芯光斑同步檢測(cè)方案:掃描狹縫式設(shè)備支持單芯 2.5μm 光斑檢測(cè),結(jié)合 Fast Check MT 檢測(cè)儀實(shí)現(xiàn) 12 芯并行測(cè)試;相機(jī)式系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全端面成像分析,可檢測(cè)連接器端面傾斜度誤差小于 0.5°。在醫(yī)療激光領(lǐng)域,其 0.1μm 分辨率可捕捉光斑畸變,配合閉環(huán)反饋系統(tǒng)實(shí)時(shí)調(diào)整激光參數(shù),結(jié)合 M2 因子模塊優(yōu)化光束準(zhǔn)直度,使激光聚焦精度達(dá) ±2μm。工業(yè)加工場(chǎng)景中,千萬(wàn)級(jí)功率測(cè)量能力與 ISO 標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)輸出,幫助企業(yè)將激光切割熱影響區(qū)縮小 30%,提升加工精度達(dá) ±5μm。相機(jī)光斑分析儀怎么收費(fèi)

維度光電:一站式光電服務(wù)平臺(tái)Dimension-labs隸屬深圳市維度科技有限公司,以助推突破技術(shù)壁壘、打破國(guó)外壟斷、加速國(guó)產(chǎn)化替代為使命,以構(gòu)建、培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)化升級(jí),提升科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新及研發(fā)成本為愿景建立一站式光電產(chǎn)品服務(wù)平臺(tái)(Dimension-Labs),將互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)深度融合,形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,為全球的高校、科研、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體提供:

1、質(zhì)量的一站式光電產(chǎn)品現(xiàn)貨、極速供應(yīng)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋光機(jī)械、光學(xué)元件、光電檢測(cè)儀器、激光光源、光學(xué)成像鏡頭、科研相機(jī)、光束分析等;“燈塔”光電開放研究實(shí)驗(yàn)室及光電數(shù)據(jù)庫(kù),

2、提供技術(shù)攻關(guān)、技術(shù)開發(fā)、儀器共享、科技資源共享、科研交流、檢驗(yàn)檢測(cè)、系統(tǒng)搭建等深度技術(shù)服務(wù);

3、立足服務(wù)平臺(tái),連接線上線下、銜接供需兩端、對(duì)接國(guó)內(nèi)國(guó)外市場(chǎng),賦能經(jīng)濟(jì)社會(huì)數(shù)字化轉(zhuǎn)型和后時(shí)代社會(huì)建設(shè);

4、助力提高科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)成本,助推突破技術(shù)壁壘,加速國(guó)產(chǎn)化替代,培育并構(gòu)建數(shù)字化、智能化網(wǎng)狀光電產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。

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