維度光電-光斑分析儀的使用 科研場景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時(shí)間序列分析" 功能，觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評(píng)估" 模塊，計(jì)算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶自定義" 界面添加波長、脈寬等實(shí)驗(yàn)參數(shù)，生成帶批注的報(bào)告。 工業(yè)場景 在激光切割設(shè)備光路中插入 BeamHere，選擇 "在線監(jiān)測" 模式。 實(shí)時(shí)顯示光斑橢圓率、能量分布均勻性等參數(shù)。 當(dāng)檢測到光斑漂移超過閾值時(shí)，軟件自動(dòng)觸發(fā)警報(bào)并記錄異常數(shù)據(jù)。 每日生成生產(chǎn)質(zhì)量報(bào)表，統(tǒng)計(jì)良品率與設(shè)備穩(wěn)定性趨勢。M2因子測量模塊，兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測試。相機(jī)光斑分析儀作用

維度光電BeamHere 光斑分析儀系列，提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜，包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù)，實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級(jí)光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，具備 0.1μm 分辨率，適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng)，實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析，測量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)，評(píng)估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化，通過 CE/FCC 認(rèn)證，應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。激光發(fā)散角光斑分析儀購買有沒有一體化的光斑分析儀和 M2 因子測量模塊產(chǎn)品？

如何使用光斑分析儀 Step 1 準(zhǔn)備設(shè)備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上，調(diào)整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦，打開 BeamHere 軟件等待設(shè)備識(shí)別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預(yù)熱 10 分鐘，點(diǎn)擊軟件 "開始采集" 按鈕。實(shí)時(shí)觀察 2D 成像界面，確保光斑無過曝或欠曝，可通過轉(zhuǎn)輪調(diào)節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級(jí)分析" 模塊勾選所需參數(shù)，軟件自動(dòng)計(jì)算光斑尺寸（±0.5μm 精度）、能量均勻性（CV 值）及光束質(zhì)量因子。3D 視圖支持手勢縮放，便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗(yàn)證結(jié)果 切換至 "歷史記錄" 對(duì)比多次測量數(shù)據(jù)，使用 "統(tǒng)計(jì)分析" 功能生成標(biāo)準(zhǔn)差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常，可調(diào)用 "單點(diǎn)測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導(dǎo)出報(bào)告 在 "報(bào)告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版"，自動(dòng)生成帶水印的 PDF 報(bào)告，包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結(jié)果。

Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標(biāo)準(zhǔn)：狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù)，突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制，切換時(shí)間小于 50ms；高動(dòng)態(tài)范圍傳感器，實(shí)現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應(yīng)，量子效率達(dá) 85%； AI 驅(qū)動(dòng)的光斑模式識(shí)別算法，率達(dá) 99.7%，可區(qū)分高斯、平頂、環(huán)形等 12 種光斑類型。全系產(chǎn)品支持 M2 因子在線測試，測量重復(fù)性達(dá) ±0.5%，結(jié)合工業(yè)級(jí)防護(hù)設(shè)計(jì)，可在 - 40℃至 85℃環(huán)境下穩(wěn)定工作，通過 IP65 防塵防水認(rèn)證，滿足嚴(yán)苛場景需求。產(chǎn)品已通過 CE、FCC、RoHS 三重國際認(rèn)證。激光發(fā)散角怎么測，維度光電M2測量系統(tǒng)。

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀，通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù)，實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)，創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測痛點(diǎn)： 小光斑測量：刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài)，避免像素丟失 高功率檢測：狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 激光，無需衰減片 大光斑分析：狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)，通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù)，經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計(jì)適配多場景安裝，通過 CE/FCC 認(rèn)證，適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域，幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率，降**檢測成本。光斑分析儀搭配什么 M2 因子測量模塊好？大功率光斑分析儀發(fā)展

多光斑光束質(zhì)量怎么測？相機(jī)光斑分析儀作用

維度光電將在以下領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新： 多模態(tài)融合：波前傳感與光斑分析一體化設(shè)備，同步獲取振幅 / 相位信息 微型化突破：推出小型光束分析儀（尺寸 < 150mm3），支持現(xiàn)場快速檢測 智能化升級(jí)：引入數(shù)字孿生技術(shù)，構(gòu)建光束質(zhì)量預(yù)測模型 標(biāo)準(zhǔn)制定：主導(dǎo)制定《高功率激光光束測量技術(shù)規(guī)范》國家標(biāo)準(zhǔn) 行業(yè)影響： 工業(yè)：通過預(yù)測性維護(hù)降低設(shè)備停機(jī)率 25% 醫(yī)療：實(shí)現(xiàn)激光參數(shù)個(gè)性化調(diào)控 科研：加速矢量光束、超構(gòu)表面等前沿技術(shù)轉(zhuǎn)化 適合各類激光應(yīng)用中激光光束質(zhì)量測量與分析。相機(jī)光斑分析儀作用

深圳市維度科技有限公司（DimensionTechnologyCo.,Ltd）2007年于深圳成立，為國際前列光測量整體解決方案供應(yīng)商，自創(chuàng)立以來便不斷深耕，積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。旗下維度光電（Dimension-labs）以突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為己任，構(gòu)建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈，維度光電產(chǎn)品覆蓋全系列光斑、光功率、光譜測量等儀器、高精度成像系統(tǒng)、高穩(wěn)定光機(jī)械、光學(xué)元件等多領(lǐng)域，服務(wù)全球高校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體，在行業(yè)內(nèi)影響力深遠(yuǎn)，著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流，通過一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務(wù)平臺(tái)，一站下單，現(xiàn)貨秒發(fā)，深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)，形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈，助力各領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展。