維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測量能力,為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中,其亞微米級光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束能量分布均勻性,提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中,BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測,通過實(shí)時分析能量分布與光斑穩(wěn)定性,保障手術(shù)精度與安全性??蒲袌鼍跋拢撛O(shè)備支持超短脈沖激光的時空特性,為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域,BeamHere 可檢測光纖端面光斑質(zhì)量,優(yōu)化光信號耦合效率,確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍,支持千萬級功率測量,結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法,為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。激光光束質(zhì)量評判標(biāo)準(zhǔn),測量儀器都有哪些。脈沖激光光斑分析儀軟件
Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個型號,覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時顯示與分析。其優(yōu)勢如下: 寬光譜覆蓋與動態(tài)分析 單臺設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測量需求,支持 2D 光斑實(shí)時成像與 3D 功率分布動態(tài)分析。高幀率連續(xù)測量模式下,可實(shí)時捕捉光斑變化并生成任意視角的 3D 視圖,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試、動態(tài)測試及時間監(jiān)控提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器的成像原理,可測量非高斯分布光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié)系統(tǒng) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片,通過獨(dú)特的轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)功率范圍擴(kuò)展,可測功率提升 100 倍。一鍵切換濾光片設(shè)計(jì)簡化操作流程,兼顧寬量程與高精度需求。 科研級功能拓展 采用模塊化可拆卸設(shè)計(jì),光斑分析相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。小光斑光斑分析儀發(fā)展M2因子測量模塊,兼顧光斑與光束質(zhì)量一站式測試。
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢: 雙模式智能適配:軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測:創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制,無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像:基于狹縫掃描原理,完整還原光斑能量分布,避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計(jì)適配工業(yè)與實(shí)驗(yàn)室場景,通過 CE/FCC 認(rèn)證,在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,應(yīng)用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升檢測精度與效率。
相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 1. 光斑尺寸 相機(jī)式:受限于 sensor 尺寸(≤10mm),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元)。 狹縫式:刀口模式可測小 2.5μm 光斑,適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機(jī)式: 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配),可測 1W,需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式:狹縫物理衰減機(jī)制支持近 10W 直接測量,無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機(jī)式:觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑,兼容性強(qiáng)。 狹縫式:需匹配掃描頻率與激光重頻,易丟失脈沖信息。 4. 光斑形態(tài) 相機(jī)式:面陣傳感器保留非高斯光束(如貝塞爾光束)及高階橫模細(xì)節(jié)。 狹縫式:狹縫累加導(dǎo)致復(fù)雜光斑失真,適合高斯或規(guī)則光斑。 選擇建議 狹縫式:亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機(jī)式:大光斑、脈沖激光或復(fù)雜非高斯光束分析。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術(shù)方案,適配實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)場景的全場景需求。高功率激光光束質(zhì)量怎么測?
維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價(jià)比解決方案: 掃描狹縫式:國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實(shí)現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機(jī)式:400-1700nm 寬譜響應(yīng),支持實(shí)時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計(jì)擴(kuò)展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;國產(chǎn)化光斑分析儀原廠
脈沖激光光束質(zhì)量怎么測檢測?維度光電,超快激光器研發(fā)利器。脈沖激光光斑分析儀軟件
相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式(2.5μm 精度) ≥55μm → 相機(jī)式(10mm 量程) 激光功率 ≥1W → 狹縫式(直接測量近 10W) ≤1W → 相機(jī)式(6 片衰減片適配) 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟(jì)) 非高斯 / 高階橫模 → 相機(jī)式(保留細(xì)節(jié)) 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機(jī)式(觸發(fā)同步) 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式(高精度掃描) 推薦組合: 場景:相機(jī)式 + 狹縫式組合,覆蓋全尺寸與復(fù)雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線:狹縫式(高功率)+ 相機(jī)式(動態(tài)監(jiān)測) 醫(yī)療設(shè)備:相機(jī)式(脈沖激光)+M2 模塊(光束質(zhì)量評估) 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案,支持快速切換檢測模式,幫助用戶降**設(shè)備購置成本與檢測周期。脈沖激光光斑分析儀軟件
深圳市維度科技有限公司(DimensionTechnologyCo.,Ltd)2007年于深圳成立,為國際前列光測量整體解決方案供應(yīng)商,自創(chuàng)立以來便不斷深耕,積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。旗下維度光電(Dimension-labs)以突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為己任,構(gòu)建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,維度光電產(chǎn)品覆蓋全系列光斑、光功率、光譜測量等儀器、高精度成像系統(tǒng)、高穩(wěn)定光機(jī)械、光學(xué)元件等多領(lǐng)域,服務(wù)全球高校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體,在行業(yè)內(nèi)影響力深遠(yuǎn),著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流,通過一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務(wù)平臺,一站下單,現(xiàn)貨秒發(fā),深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè),形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,助力各領(lǐng)域創(chuàng)新發(fā)展。