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Merck儀器基本參數(shù)
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Westem HRP基材。高背景分鎖不足更改為不同的阻止解決方案。吸筆架不夠濕組裝前,先將吸墨紙架弄濕。阻塞解決方案可能有始終準(zhǔn)備新鮮的0.5%脫脂/低脂干奶。降級的抗體濃度過高降低抗體的濃度。吸筆架朝上放置將印跡架朝上放在蛋白素框架中。在框架中洗滌不足進行至少4次每次30 mL的洗滌。添加清洗劑時,確保真空連續(xù)運行緩沖。整個系統(tǒng)電平不一致的信號確保系統(tǒng)在平坦的水平表面上。污點抗體不均勻補充封閉液和抗體稀釋劑遍及整個表面0.1%Tween 20表面活性劑。吸墨紙架使用小量移液器(例如5毫升),慢慢散布整個印跡中的抗體。應(yīng)用至少2.5 mL(用于MultBlot),5 mL(用于Mini blot)或10 mL(用于Midi印跡)抗體。抗體體積低沒有抗體回收盤確??贵w中的孔,回收托盤algn哪家WB實驗加速器是有正規(guī)授權(quán)的?靜安區(qū)MerckWB實驗加速器Merck儀器商家

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