從蝕刻速度及安全性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時(shí)間視對(duì)象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實(shí)施例然后,對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例與比較例一起進(jìn)行說(shuō)明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實(shí)施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進(jìn)行蝕刻試驗(yàn)及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn)。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計(jì)的濃度。(蝕刻試驗(yàn))通過(guò)濺鍍法在樹(shù)脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進(jìn)而通過(guò)電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實(shí)施例1至實(shí)施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進(jìn)行蝕刻實(shí)驗(yàn)。將實(shí)驗(yàn)結(jié)果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗(yàn))將實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進(jìn)行所述蝕刻試驗(yàn),比較放置前后的蝕刻速度。將比較結(jié)果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長(zhǎng)期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。哪家的蝕刻液蝕刻效果好?佛山銀蝕刻液蝕刻液費(fèi)用
本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù):參照?qǐng)D1,可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過(guò)在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetremovalofnitride)來(lái)制造。在不損傷氧化物膜的同時(shí)將氮化物膜完全去除是這樣的氮化物膜去除工序(wetremovalofnitride)的**技術(shù)之一。一般而言,氮化物膜去除工序中所使用的蝕刻液組合物利用具有防蝕能力的添加劑以獲得在不損傷氧化物膜的同時(shí)*將氮化物膜完全去除的效果。但是,想要在不損傷氧化物膜的范圍內(nèi)將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力強(qiáng)的添加劑,由此可能發(fā)生氮化物膜沒(méi)有被完全去除的工序不良(參照?qǐng)D2)。此外,想要將氮化物膜完全去除時(shí),會(huì)使用防蝕能力弱的添加劑,由此雖然氮化物膜被完全去除,但是可能發(fā)生對(duì)氧化物膜也造成損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)。以往,為了在包含氧化物膜和氮化物膜的多層膜中*將氮化物膜選擇性完全去除而選擇具有適當(dāng)水平的防蝕能力的添加劑時(shí),按照添加劑的種類(lèi)和濃度通過(guò)實(shí)驗(yàn)進(jìn)行確認(rèn)。沒(méi)有這樣的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)就選擇添加劑實(shí)際上是不可能的。合肥哪家蝕刻液蝕刻液哪里買(mǎi)天馬微電子用的哪家的蝕刻液?
所述液位計(jì)連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)視鏡。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述液位計(jì)安裝于所述分離器的外表面。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述液位開(kāi)關(guān)為控制閥,設(shè)置于所述濾液出口處。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述加熱器為盤(pán)管式加熱器。在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述分離器底部為錐體形狀。上述,利用加熱器對(duì)含銅蝕刻液進(jìn)行加熱,使其達(dá)到閃蒸要求的溫度,將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器,經(jīng)過(guò)減壓閥及真空泵減壓,含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸,產(chǎn)生大量蒸汽,蒸汽中攜帶著大小不等的液滴,通過(guò)除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出,減小產(chǎn)品損失。附圖說(shuō)明圖1是本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)施例的外觀示意圖。圖中:1、液體入口;2、濾液出口;3、除霧組件;4、除沫組件;5、蒸汽出口;6、液相氣相溫度傳感器;7、液位計(jì);8、壓力傳感器;9、液位開(kāi)關(guān);10、視鏡;11、加熱器;12、減壓閥;13、真空泵。具體實(shí)施方式在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,包括分離器及加熱器11,所述分離器設(shè)有液體入口1、蒸汽出口5及濾液出口2,所述液體入口1用于將加熱器11產(chǎn)生的液體輸入至分離器中。
蝕刻液也可含有α-羥基羧酸和/或其鹽。α-羥基羧酸及其鹽具有作為鈦的絡(luò)合劑的效果,可抑制蝕刻液中產(chǎn)生鈦的沉淀。作為所述α-羥基羧酸,例如可舉出酒石酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制,從絡(luò)合效果及溶解性的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為%至5重量%,更推薦為%至2重量%。另外,蝕刻液也可含有亞硫酸及/或其鹽。亞硫酸及其鹽具有作為還原劑的效果,可提高鈦的蝕刻速度。亞硫酸和/或其鹽的濃度并無(wú)特別限制,從還原性及臭氣的觀點(diǎn)來(lái)看,推薦為%至%,更推薦為%至%。蝕刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨礙本發(fā)明效果的程度添加其他成分。作為其他成分,例如可舉出表面活性劑、成分穩(wěn)定劑及消泡劑等。蝕刻液可通過(guò)使所述各成分溶解于水中而容易地制備。作為所述水,推薦為將離子性物質(zhì)及雜質(zhì)除去的水,例如推薦為離子交換水、純水、超純水等。蝕刻液可在使用時(shí)將各成分以成為預(yù)定濃度的方式調(diào)配,也可預(yù)先制備濃縮液并在即將使用之前稀釋而使用。使用本發(fā)明的蝕刻液的鈦的蝕刻方法并無(wú)特別限制,例如可舉出:對(duì)含有銅及鈦的對(duì)象物涂布或噴霧蝕刻液的方法;將含有銅及鈦的對(duì)象物浸漬在蝕刻液中的方法等。處理溫度并無(wú)特別限制。什么制程中需要使用蝕刻液。
鋁蝕刻液是鋁蝕刻液STM-AL100。根據(jù)查詢相關(guān)信息顯示:鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品,STM-AL100的組成有主要蝕刻化學(xué)品,添加劑,輔助化學(xué)品,對(duì)于控制蝕刻均勻以及穩(wěn)定的蝕刻速率一定的效果,在長(zhǎng)效性的表現(xiàn)上更是無(wú)話可說(shuō).在化學(xué)特性上,鋁金屬容易受到酸性以及堿性的化學(xué)品攻擊,本化學(xué)品設(shè)計(jì)上為酸性配方且完全可被水溶解,故無(wú)須再花額外的成本在廢水處理上.用在生產(chǎn)的用途可以調(diào)整藥液溫度來(lái)調(diào)整蝕刻速率,所以本化學(xué)品對(duì)于初次使用者來(lái)說(shuō),是簡(jiǎn)單容易上手。如何挑選一款適合自己公司的蝕刻液?上海市面上哪家蝕刻液哪里買(mǎi)
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將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類(lèi)的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過(guò)濾網(wǎng)7過(guò)濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動(dòng)噴頭10向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中,避免蝕刻液對(duì)電解池4造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池4的功能,之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出;其次在蝕刻液初次電解后,通過(guò)控制面板30啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)一號(hào)電磁閥18,將蝕刻液通過(guò)回流管15抽入到一號(hào)排液管17中,并由進(jìn)液管8導(dǎo)入到伸縮管9中,直至蝕刻液由噴頭10重新噴到電解池4中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用,然后打開(kāi)二號(hào)電磁閥23,將蝕刻液通過(guò)二號(hào)排液管22導(dǎo)入到分隔板2左側(cè),傾斜板24使得蝕刻液向左流動(dòng)以便排出到裝置主體1外,接著啟動(dòng)抽氣泵19,將電解池4中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管20并導(dǎo)入到集氣箱21中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,緊接著打開(kāi)活動(dòng)板25將金屬銅取出,之后啟動(dòng)增壓泵16并打開(kāi)三號(hào)電磁閥29,將由進(jìn)水管27導(dǎo)入到蓄水箱26中的清水。佛山銀蝕刻液蝕刻液費(fèi)用