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企業(yè)商機(jī)
蝕刻液基本參數(shù)
  • 品牌
  • 博洋化學(xué)
  • 產(chǎn)品名稱
  • 鉬鋁鉬蝕刻液
  • 純度級(jí)別
  • 超純/高純
  • 類別
  • 無機(jī)酸
  • 產(chǎn)品性狀
  • 液態(tài)
蝕刻液企業(yè)商機(jī)

    所述液位計(jì)7安裝于所述分離器的外表面。液位計(jì)7安裝在方便工作人員查看的位置,有利于提高工作人員工作的效率。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述液位開關(guān)9為控制閥,設(shè)置于所述濾液出口2處??刂崎y為內(nèi)螺紋截止閥,通過旋轉(zhuǎn)操縱盤實(shí)現(xiàn)閥門的開關(guān),這種閥結(jié)構(gòu)簡單,維修方便,工作行程小,啟閉時(shí)間短,使用壽命長。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖2所示,所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個(gè)視鏡10。分離器側(cè)壁上設(shè)置的視鏡10可以幫助工作人員輔助判斷液位計(jì)7的工作狀況。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述加熱器11為盤管式加熱器。盤管式加熱器的受熱更加均勻,加熱效率更高。在一個(gè)實(shí)施例中,如圖1所示,所述分離器底部為錐體形狀。分離器底部設(shè)置成錐體形狀更有利于濾液排出,不會(huì)殘留在分離器內(nèi)。以上所述是本實(shí)用新型的推薦實(shí)施方式,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于上述實(shí)施例,凡屬于本實(shí)用新型思路下的技術(shù)方案均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型原理前提下的若干改進(jìn)和潤飾,這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。BOE蝕刻液生產(chǎn)廠家就找蘇州博洋化學(xué)股份。佛山銅鈦蝕刻液蝕刻液

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    如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter,mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中宣泄孔具有一***壁面,以及一第二壁面,且第二擋板具有一下表面,當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中當(dāng)宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時(shí),宣泄孔由第二擋板的下表面朝向上表面的方向漸縮。此外,為了達(dá)到上述的實(shí)施目的,本實(shí)用新型另提出一種蝕刻設(shè)備,設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體內(nèi),蝕刻設(shè)備至少包括有一如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)、一基板、一輸送裝置,以及一風(fēng)刀裝置;基板設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的下方;輸送裝置設(shè)置于基板的下方,輸送裝置包括有至少一滾輪,其中滾輪與基板接觸以運(yùn)行基板;風(fēng)刀裝置設(shè)置于擋液板結(jié)構(gòu)的一端部,風(fēng)刀裝置包括有一設(shè)置于基板上方的***風(fēng)刀。廣州銅蝕刻液蝕刻液產(chǎn)品介紹剝離液可以有正膠和負(fù)膠以及正負(fù)膠不同的分類。

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一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù):2.目前,電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜,以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過化學(xué)蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中,對(duì)于多晶ito(p-ito)材料,所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低,但其蝕刻速度快,蝕刻的角度難以控制,且容易對(duì)ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:3.有鑒于此,為克服目前存在的技術(shù)難題,本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。4.具體地,本技術(shù)首先方面提供了一種ito蝕刻液,所述ito蝕刻液包括以下重量份數(shù)的各組分:20-22份的鹽酸,6-7份的硝酸,0.5-3份的酸抑制劑,0.5-3份的表面活性劑,以及水;其中,所述酸抑制劑包括n,n-二異丙基乙胺、n,n-二異丙基乙醇胺中的至少一種;所述表面活性劑包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一種。5.通過對(duì)蝕刻液中硝酸及鹽酸的含量進(jìn)行精確限定,以實(shí)現(xiàn)了對(duì)王水系蝕刻液蝕刻速度的初步調(diào)控,并在一定程度上實(shí)現(xiàn)了對(duì)蝕刻角度的控制(蝕刻角度小于35

    在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下,能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導(dǎo)體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2~45重量%來包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對(duì)上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說明的、對(duì)于添加劑選擇等的一切內(nèi)容均可以同樣地應(yīng)用于本發(fā)明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯(lián)劑以及包含該硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻方法。哪家公司的蝕刻液是比較劃算的?

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    本實(shí)用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術(shù):蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?,F(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會(huì)發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護(hù)性不足,鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計(jì)一種ito蝕刻液制備裝置,成為當(dāng)前要解決的問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的ito蝕刻液制備裝置保護(hù)性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過濾除雜裝置。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎?四川銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售電話

蝕刻液,準(zhǔn)確蝕刻,效果好。佛山銅鈦蝕刻液蝕刻液

    本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中,產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少,刻蝕效率高且使用壽命較長的特點(diǎn)。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機(jī)酸/有機(jī)酸組分,以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個(gè)部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng),體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于,克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷,提供一種銅蝕刻液大規(guī)模量產(chǎn)的生產(chǎn)工藝,該生產(chǎn)工藝溫控嚴(yán)格,生產(chǎn)過程中安全性高。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝,所述工藝包括以下步驟:第一步:將純水進(jìn)行低溫處理,使純水溫度≤10℃在純水罐中備用;第二步:配制和準(zhǔn)備原料,將亞氨基二乙酸、氫氟酸和乙醇酸分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐中,經(jīng)過過濾器循環(huán)過濾,備用。佛山銅鈦蝕刻液蝕刻液

蝕刻液產(chǎn)品展示
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