所述的磷酸濃度為82-87％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進(jìn)一步地，在使用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行氮化硅層蝕刻時(shí)，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時(shí)間為5-60min。通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，改善了磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，明顯提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕和蝕刻均勻性。為了便于驗(yàn)證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性，本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后，先使用表面張力儀檢測(cè)該蝕刻液的表面張力；然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片，采用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?，使用接觸角測(cè)量?jī)x檢測(cè)蝕刻液對(duì)氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前，使用橢圓偏振光譜儀對(duì)氮化硅樣片取不同位置共6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度的測(cè)量。博洋 BOE 蝕刻液，專為微電子領(lǐng)域量身定制，提供個(gè)性化解決方案！上海應(yīng)用BOE蝕刻液銷售電話

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