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銅蝕刻液近期成為重要的微電子化學品產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于平板顯示、LED制造及半導體制造領(lǐng)域。隨著新技術(shù)的不斷進步，對該蝕刻液也有了更高的要求。并且之前市場上的銅蝕刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高濃度雙氧水的情況。在此基礎(chǔ)上我司自主進行了無氟，無硝酸，低雙氧水濃度銅蝕刻液的研發(fā)，并可兼容于不同CuMo鍍膜厚度之工藝。產(chǎn)品特點：1.6%雙氧水濃度的銅蝕刻液lifetime可至7000ppm。2.末期銅蝕刻液工藝溫度（32）下可穩(wěn)定72H，常溫可穩(wěn)定120H；無暴沸現(xiàn)象。3.銅蝕刻液CD-Loss均一性良好，taper符合制程要求。4.銅蝕刻液可兼容MoCu結(jié)構(gòu)不同膜厚度的機種。BOE蝕刻液生產(chǎn)廠家就找蘇...

該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等，且該上孔徑a1小于該下孔徑a2，或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮，以維持毛細現(xiàn)象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題。當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板(本圖式未標示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復數(shù)個宣泄孔121流動，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示)，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現(xiàn)象，亦可達到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸...

且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進行拆卸更換，有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，連接構(gòu)件，連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部，連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接，連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個構(gòu)件進行連接并固定，且在將兩構(gòu)件進行連接或拆卸的時候，不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作，有效的提高了裝置連接的實用性。附圖說明圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型的過濾部件剖視圖；圖3為本實用新型的連接構(gòu)件剖視圖；圖4為本實用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中：1、裝置主體，2、支撐腿，3、電源線，4、單片機，5、控制器，6、防滑紋，7、密封閥門(z45x-16...

本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產(chǎn)企業(yè)得到廣泛應(yīng)用，但是，我司的鋁蝕刻液生產(chǎn)車間面積較小，無法放置自動灌裝線，所以需要對現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備進行改造，以實現(xiàn)鋁蝕刻液的全自動灌裝。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。為達前述目的，本實用新型提供的技術(shù)方案如下：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐、過濾器、數(shù)個儲存罐、數(shù)輛液壓升降式拖...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型所解決的技術(shù)問題即在于提供一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備，主要借由具有復數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計，有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板顯影不均等異?，F(xiàn)象，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導致的基板刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。本實用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。為了達到上述的實施目的，本實用新型提出一種擋液板結(jié)構(gòu)，適用于一濕式蝕刻機，擋液板...

推薦的，所述制備裝置主體的兩端緊密貼合有防燙隔膜。推薦的，所述高效攪拌裝置是由內(nèi)部頂部中間部位的旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件，震蕩彈簧件頂端的運轉(zhuǎn)電機組，運轉(zhuǎn)電機組頂端的控制面板，內(nèi)部中間部位的致密防腐桿和致密防腐桿內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動孔共同組合而成。推薦的，所述注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口，嵌入引流口一端的負壓引流器，負壓引流器一端的注入量控制容器，注入量控制容器內(nèi)部內(nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線和注入量控制容器一側(cè)的限流銷共同組合而成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本種實用新型的有益效果是:1.通過設(shè)置高效攪拌裝置，該裝置通過運轉(zhuǎn)電機組驅(qū)動旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤，使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤帶動高效攪...

本實用新型涉及一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備。背景技術(shù)：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備主要包括混合罐、過濾器和儲存罐，將蝕刻液中的各組份在混合罐混合均勻，由過濾器濾去雜質(zhì)后投入儲存罐中暫存，然后分裝銷售。以往，鋁蝕刻液的分裝由人工操作，隨著自動化技術(shù)的興起，全自動灌裝線在鋁蝕刻液生產(chǎn)企業(yè)得到廣泛應(yīng)用，但是，我司的鋁蝕刻液生產(chǎn)車間面積較小，無法放置自動灌裝線，所以需要對現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備進行改造，以實現(xiàn)鋁蝕刻液的全自動灌裝。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型提出了一種鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。為達前述目的，本實用新型提供的技術(shù)方案如下：鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐、過濾器、數(shù)個儲存罐、數(shù)輛液壓升降式拖...

所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件，所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉，所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門，所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動連接有滑動蓋，所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管，所述連接構(gòu)件的內(nèi)部中間兩側(cè)活動連接有活動軸，所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層。推薦的，所述硝酸鉀儲罐的頂部嵌入連接有密封環(huán)。推薦的，所述連接構(gòu)件的兩側(cè)嵌入連接有海綿層。推薦的，所述支撐腿的底端嵌入連接有防滑紋。推薦的，所述過濾部件的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板。推薦的，...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過硫酸銨體系)具有不引人其他金屬離子在銅層表面或線路體系中，產(chǎn)物親和、友好、環(huán)境污染少，刻蝕效率高且使用壽命較長的特點。大部分過氧化氫系銅刻蝕液包括參與氧化的過氧化氫組分、參與溶解的無機酸/有機酸組分，以及部分銅緩蝕劑等各類添加三個部分。由于銅蝕刻液中各物質(zhì)的反應(yīng)為放熱反應(yīng)，體系中又含有過氧化氫在制備銅蝕刻液的生產(chǎn)過程中需要保證生產(chǎn)安全。技術(shù)實現(xiàn)要素...

目前的平面顯示裝置，尤其是有機電激發(fā)光顯示器，多使用鉻金屬作為導線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高，因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導線材料，但是因為無適當穩(wěn)定的蝕刻液組成物，所以并未有***的運用。近幾年為提高平面顯示裝置的效能，研究者仍專注于如何降低導線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當?shù)膶Ь€材料，因其阻值低于其他的金屬。此外，含銀量超過80％以上的銀合金，雖然阻值未若銀金屬一般低，但是其阻值遠低于鉻金屬。然而由于銀合金未具有適當?shù)奈g刻液，所以并沒有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此，本于積極發(fā)明的精神，亟思一...

所述液位計連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個實施例中，所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡。在其中一個實施例中，所述液位計安裝于所述分離器的外表面。在其中一個實施例中，所述液位開關(guān)為控制閥，設(shè)置于所述濾液出口處。在其中一個實施例中，所述加熱器為盤管式加熱器。在其中一個實施例中，所述分離器底部為錐體形狀。上述，利用加熱器對含銅蝕刻液進行加熱，使其達到閃蒸要求的溫度，將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器，經(jīng)過減壓閥及真空泵減壓，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴，通過除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出，減小產(chǎn)品損失。附圖說明圖1是本實施例...

一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過化學蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中，對于多晶ito(p-ito)材料，所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低，但其蝕刻速度快，蝕刻的角度難以控制，且容易對ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實現(xiàn)要素：3.有鑒于此，為克服目前存在的技術(shù)難題，本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。...

下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。圖1是實施例一中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖2是實施例二中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖3是實施例三中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖；圖4是實施例四中公開的儲存罐與拖車的安裝結(jié)構(gòu)圖。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述。實施例一鋁蝕刻液生產(chǎn)設(shè)備，包括混合罐、過濾器和數(shù)個小型的儲存罐，混合罐通過液管與過濾器連接，過濾器的出液口處安裝有氣動升降式出液管，每個儲存罐的進液口和出液口中安裝有一只單向液動閥，過濾器的出液管自動下行插入儲存罐的進液口中，將過濾后的鋁蝕刻液注入儲...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲罐，所述磷酸儲罐的底部固定連接有攪拌倉，所述攪拌倉的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機，所述攪...

本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù)：廢銅蝕刻液含有可回收的金屬，所以需要進行回收處理，目前通用的做法是，使用化學方法回收廢液內(nèi)的銅，或提煉成硫酸銅產(chǎn)品，工藝落后，銅回收不徹底，處理的經(jīng)濟效益不明顯，有二次污染污染物排放，一旦處理不當往外排放，勢必對水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡單的對蝕刻液進行回收處理，不能對蝕刻液進行循環(huán)電解，使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分，而且蝕刻液導入到電解池中會對電解池造成沖擊，進而影響電解池的使用壽命，并且在回收處理中會產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境，也不能在回收結(jié)束后對裝置內(nèi)部進行清理，...

技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差，連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置，包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機，所述裝置主體的底端固定連接有支撐腿，所述裝置主體的后面一側(cè)底部固定連接有電源線，所述裝置主體的一側(cè)中間部位固定連接有控制器，所述裝置主體的內(nèi)部底端一側(cè)固定連接有單片機，所述裝置主體的頂部一端固定連接有去離子水儲罐，所述裝置主體的頂部一側(cè)固定連接有磷酸儲罐，所述磷酸儲罐的底部固定連接有攪拌倉，所述攪拌倉的內(nèi)部頂部固定連接有攪拌電機，所述攪...

一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學蝕刻技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù)：2.目前，電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜，以便后續(xù)給電子器件可控通電。該ito膜通常通過化學蝕刻的方法蝕刻ito材料層形成。其中，對于多晶ito(p-ito)材料，所用蝕刻液主要包括硫酸系、王水系ito蝕刻液。王水系蝕刻液成本低，但其蝕刻速度快，蝕刻的角度難以控制，且容易對ito膜的下層金屬造成二次腐蝕。技術(shù)實現(xiàn)要素：3.有鑒于此，為克服目前存在的技術(shù)難題，本技術(shù)提供了一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。...

該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12，以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13，其主要特征在于：該第二擋板12具有復數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置，且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設(shè)置，以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣，在一實施例中，該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形，其中該第二擋板12的長度h介于10cm至15cm之間，而該等開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列的態(tài)樣，且該宣...

將蝕刻液通過回流管抽入到一號排液管中，并由進液管導入到伸縮管中，直至蝕刻液由噴頭重新噴到電解池中，可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅，起到循環(huán)電解蝕刻液的作用；該回收處理裝置通過設(shè)置有伸縮管與伸縮桿，能夠在蝕刻液通過進液管流入到電解池中時，啟動液壓缸帶動伸縮桿向上移動，從而通過圓環(huán)塊配合伸縮管帶動噴頭向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭噴入到電解池中，避免蝕刻液對電解池造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池的功能；該回收處理裝置通過設(shè)置有集氣箱與蓄水箱，能夠在電解蝕刻液結(jié)束后，啟動抽氣泵，將電解池中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管并導入到集氣箱中，實現(xiàn)有害氣體的清理，接著啟動增壓...

其中輸送裝置借由至少一呈順時針方向轉(zhuǎn)動的滾輪帶動基板由噴灑裝置的下端部朝向風刀裝置的***風刀的下端部的方向移動。如上所述的蝕刻方法，其中風刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風刀朝向基板的上表面與下表面吹送氣體。借此，本實用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果：本實用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計，有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?，F(xiàn)象，確實達到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導...

避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時候，會因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況，有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進行。推薦的，支撐腿2的底端嵌入連接有防滑紋6，在制備蝕刻液的時候，需要將裝置固定的特定的位置，通過支撐腿2將裝置主體1進行支撐固定，在支撐腿2與固定位置的接觸面接觸時，防滑紋6能增大支撐腿2的底端與固定接觸面的摩擦力，使裝置主體1能有足夠的抓地力固定在固定位置上，有效的提高了裝置固定的防滑性。推薦的，過濾部件9的內(nèi)部兩側(cè)嵌入連接有過濾板26，常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差，蝕刻液雜質(zhì)含量多，過濾板26能將蝕刻液內(nèi)部的雜...

該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等，且該上孔徑a1小于該下孔徑a2，或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮，以維持毛細現(xiàn)象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題。當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板(本圖式未標示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會往該復數(shù)個宣泄孔121流動，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示)，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現(xiàn)象，亦可達到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸...

銅蝕刻液適用于印制版銅的蝕刻，蝕刻速度快。蝕刻速度達4~5um/min。廢液回收簡單，用于印制板，線路板。本劑也可用于銅工藝品等的蝕刻。蝕刻后的板面平整而光亮。銅蝕刻液的反應(yīng)速度快、使用溫度低、溶液使用壽命長，后處理容易，對環(huán)境污染小。用于銅質(zhì)單面板，雙面板、首飾蝕刻，可以蝕刻出任意精美的形態(tài)，有效提高蝕刻速度，節(jié)約人工水電。常常應(yīng)用于印刷線路板銅的蝕刻處理 1、蝕刻速度快，效率高。使用方便。蝕刻速度可達10微米/分鐘。2、可循環(huán)使用，無廢液排放。 1、藍色透明液體，有氣味。2、比重：1.10~1.13。3、PH值：10~11.0。 1、采用浸泡的方法即可，浸泡過程中要攪...

ITO顯影劑也稱為造影劑或?qū)Ρ葎?，是一種X光無法穿透的藥劑，用于讓體內(nèi)組織在X光檢查時能看得更清楚。例如消化道攝影時，醫(yī)師會讓患者喝下一杯顯影劑溶液（大多含鋇），然后用各種角度照相，就能讓胃腸道看得很清楚。如果顯影只是在光強較大的地方產(chǎn)生游離銀，而對底片不做進一步處理，則把它一拿出暗室，未顯影的鹵化銀就會立刻曝光。此后，幾乎任何還原劑都將使底片完全形成灰霧。為了克服這個問題，必須找到一種適當?shù)奈镔|(zhì)以除去未還原的鹵化銀。黑白照相中較常用的定影液是硫代硫酸鈉溶液。其中的硫代硫酸根離子（S2O32-）與銀離子形成可溶于水的穩(wěn)定配合物，因而達到“固定”底片的目的。ITO顯影液的市場需求會隨著電子行業(yè)的...

如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter，mm)。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中宣泄孔具有一***壁面，以及一第二壁面，且第二擋板具有一下表面，當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時，宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)，其中...

注入量精確調(diào)配裝置通過嵌入引流口2接入鹽酸裝罐7進行原料注入，工作人員通過負壓引流器21將鹽酸硝酸引向注入量控制容器18內(nèi)，通過觀察注入量控制容器18內(nèi)的注入量觀察刻度線19對注入量進行精確控制，當?shù)竭_設(shè)定的注入量時將限流銷20插入進行限流即可，很好的對注入量進行精確控制，提高了該裝置的制備純度。工作原理：首先，通過設(shè)置熱水流入漏斗9，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度，很好的起到了保護作用。然后，通過設(shè)置加固支架10，加固支架10為連接在兩側(cè)底座支柱的三角結(jié)構(gòu)，利用三角結(jié)構(gòu)穩(wěn)定原理對裝置底座5起到了很好的加固效果。接著，通過設(shè)置防燙隔...

將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進行清洗，具有很好的清理作用。工作原理：對于這類的回收處理裝置，首先將蝕刻液倒入進液漏斗6并由過濾網(wǎng)7過濾到進液管8中，之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時，啟動液壓缸11帶動伸縮桿12向上移動，從而通過圓環(huán)塊13配合連接桿14和伸縮管9帶動噴頭10向上移動，進而將蝕刻液緩慢的由噴頭10噴入到電解池4中，避免蝕刻液對電解池4造成沖擊而影響其使用壽命，具有保護電解池4的功能，之后金屬銅在隔膜5左側(cè)析出；其次在蝕刻液初次電解后，通過控制面板30啟動增壓泵16并打開一號電磁閥18，將蝕刻液通過回流管15抽入到一號排液管17中，并由進液管8導入到伸縮管9中，直至蝕刻...

在上述硅烷系偶聯(lián)劑的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下，能夠調(diào)節(jié)添加劑本身凝膠化，且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導體工序的去離子水，推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量％的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2～45重量％來包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外，本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的...

所述液位計連接有液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個實施例中，所述分離器的側(cè)壁上設(shè)有多個視鏡。在其中一個實施例中，所述液位計安裝于所述分離器的外表面。在其中一個實施例中，所述液位開關(guān)為控制閥，設(shè)置于所述濾液出口處。在其中一個實施例中，所述加熱器為盤管式加熱器。在其中一個實施例中，所述分離器底部為錐體形狀。上述，利用加熱器對含銅蝕刻液進行加熱，使其達到閃蒸要求的溫度，將加熱好的含銅蝕刻液輸送至分離器，經(jīng)過減壓閥及真空泵減壓，含銅蝕刻液在分離器內(nèi)發(fā)生閃蒸，產(chǎn)生大量蒸汽，蒸汽中攜帶著大小不等的液滴，通過除霧組件和除沫組件可以防止大液滴從蒸汽出口飛出，減小產(chǎn)品損失。附圖說明圖1是本實施例...

內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部，工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對內(nèi)部的制備狀況進行實時查看，從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實時性。推薦的，鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9，在進行制備時需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進行均勻調(diào)和，由于熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng)，濺出容易傷害工作人員，通過設(shè)置熱水流入漏斗9，工作人員可沿著熱水流入漏斗9將熱水緩緩倒入鹽酸內(nèi)，從而很好的減小了發(fā)生反應(yīng)的劇烈程度，很好的起到了保護作用。推薦的，裝置底座5的內(nèi)部兩側(cè)緊密焊接有加固支架10，由于制備裝置為一體化裝置，承載設(shè)備較多，質(zhì)量較重，對底座會產(chǎn)生較大的壓力，通過設(shè)置加固支架...