在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，拋光液110的主要成分包括：碳化硅顆粒，顆粒直徑為50nm～200nm，體積比為3％～5％；次氯酸鹽，體積比為30％～40％；氫溴酸，體積比為5％～7％，di水，體積比50～60％。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖3所示，磁轉(zhuǎn)子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)120和位于柱狀磁性結(jié)構(gòu)120的底部平面的研磨層121，以通過研磨層121對待加工部件20的待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨。當(dāng)然，本發(fā)明并不僅限于此，在其他實(shí)施例中，可以根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的磁轉(zhuǎn)子形狀。可選地，研磨層121為金屬氧化物層，進(jìn)一步可選地，金屬氧化物層包括三氧化二鋁層?？蛇x地，研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實(shí)施例中，如圖4所示，磁轉(zhuǎn)子12沿箭頭所示方向旋轉(zhuǎn)，如沿逆時(shí)針或順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，并且，磁轉(zhuǎn)子12的長度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑，以對整個(gè)待加工表面進(jìn)行研磨。本發(fā)明實(shí)施例中，拋光減薄裝置還包括控制部件?？刂撇考c磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11相連，用于控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作，以對待加工表面交替進(jìn)行拋光和減薄。其中，控制部件通過脈沖方式控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作。可選地，控制部件控制磁轉(zhuǎn)子12的轉(zhuǎn)速為80rpm～200rpm。選擇減薄用清洗劑，為您的加工過程保駕護(hù)航。蘇州哪家減薄用清洗劑替代品

    圖2為所述蝕刻區(qū)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為所述玻璃加工治具的種結(jié)構(gòu)正視圖；圖4為所述玻璃加工治具的第二種結(jié)構(gòu)正視圖；圖5為圖3中的局部放大圖；圖6為所述玻璃加工治具的結(jié)構(gòu)俯視圖；圖7為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)正視圖；圖8為所述底支撐件的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。圖中數(shù)字表示：1-轉(zhuǎn)換區(qū)；2-沖洗區(qū)；3-蝕刻區(qū)；4-玻璃加工治具；31-腔室；32-主厚度測量儀；33-噴淋組件；41-底座；42-支撐架；43-底支撐件；44-側(cè)支撐件；421-豎直平板；422-側(cè)板；423-固定板；424-水平槽；425-豎直槽；426-固定槽；427-固定卡塊；428-定位槽；429-定位孔；431-支撐條；432-第二支撐條；433-連接部；434-接觸部；435-磁性件；436-第二磁性件；437-限位孔；438-限位塊；439-第二限位塊。具體實(shí)施方式以下結(jié)合附圖，對本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。實(shí)施例一如圖1所示，圖1為所述玻璃減薄設(shè)備的結(jié)構(gòu)視圖；本發(fā)明中所述玻璃減薄設(shè)備包括轉(zhuǎn)換區(qū)1、沖洗區(qū)2和蝕刻區(qū)3，所述沖洗區(qū)2設(shè)置于所述轉(zhuǎn)換區(qū)1和所述蝕刻區(qū)3之間，豎直容納在玻璃加工治具4中的多個(gè)玻璃通過所述轉(zhuǎn)換區(qū)1被加載到所述沖洗區(qū)2中，在所述沖洗區(qū)2中進(jìn)行減薄前清潔并且在所述蝕刻區(qū)3中經(jīng)歷減薄處理。寧波顯示面板用減薄用清洗劑價(jià)格蘇州博洋化學(xué)股份有限公司清洗劑；

    磁轉(zhuǎn)子12放置在待加工部件20的待加工表面上，用于通過旋轉(zhuǎn)對待加工部件20的待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨，對待加工表面進(jìn)行減薄。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn)，因此，可以降低拋光減薄過程中對待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應(yīng)力，降低待加工部件20如inp基晶圓的機(jī)械加工損傷?？蛇x地，本發(fā)明實(shí)施例中通過光刻膠鍵合固定待加工部件20和托盤10。當(dāng)然，本發(fā)明并不限于此，在其他實(shí)施例中，待加工部件20和托盤10還可以采用其他膠體進(jìn)行鍵合固定?；诖?，如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例中的拋光減薄裝置還包括熱板14，該熱板14設(shè)置在托盤10底部，用于對托盤10進(jìn)行加熱，以使待加工部件20與托盤10鍵合固定。具體地，將待加工部件20背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠21，如az4620光刻膠，然后在托盤10表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠21，如az4620光刻膠，之后，將托盤10光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板14上，將待加工部件20光刻膠面和托盤10光刻膠面貼合，在2×10-2mabr真空下，施加1bar壓強(qiáng)于待加工部件20上進(jìn)行鍵合，鍵合時(shí)間20min。本發(fā)明實(shí)施例中，采用噴頭11向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110，來對待加工部件20的待加工表面進(jìn)行拋光。需要說明的是。

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    所述控制器進(jìn)行第二次減薄厚度確認(rèn)操作；具體的，通過設(shè)置于所述第三沖洗區(qū)2的第二輔助厚度測量儀進(jìn)行厚度檢測，從而實(shí)現(xiàn)所述減薄厚度確認(rèn)操作，當(dāng)所述減薄厚度未達(dá)到目標(biāo)厚度時(shí)，所述玻璃加工治具4可再次進(jìn)入所述蝕刻區(qū)3內(nèi)進(jìn)行減薄處理。所述主厚度測量儀32設(shè)置在其中對玻璃施加減薄處理的所述蝕刻區(qū)3中并且實(shí)時(shí)測量玻璃厚度，使得玻璃可更準(zhǔn)確地具有目標(biāo)厚度；所述輔助厚度測量儀設(shè)置在所述沖洗區(qū)2中，并且再次測量經(jīng)歷過減薄處理的玻璃的厚度，因此可以檢查設(shè)置在所述蝕刻區(qū)3中的所述主厚度測量儀32是否無法正確工作，并且使減薄玻璃的缺陷率降至；且所述輔助厚度測量儀可提前測量待經(jīng)歷減薄處理的玻璃的厚度，因此可以檢查設(shè)置在蝕刻區(qū)3中的主厚度測量儀32是否無法正確工作；所述第二輔助厚度測量儀設(shè)置在所述第三沖洗區(qū)2，從而在減薄后清洗終完成后，再次進(jìn)行厚度檢測，從而檢測預(yù)從所述玻璃減薄生產(chǎn)線運(yùn)出的玻璃是否符合標(biāo)準(zhǔn)，并進(jìn)一步降低減薄玻璃的缺陷率。以上所述為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，對本發(fā)明而言是說明性的，而非限制性的。本專業(yè)技術(shù)人員理解，在本發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對其進(jìn)行許多改變，修改，甚至等效，但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)?？诒玫臏p薄用清洗劑的公司聯(lián)系方式。寧波中芯國際用減薄用清洗劑費(fèi)用

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