íatendráunapendientehaciaeldepósitotalquepermitalaevacuacióndeposiblescondensadosycomomínimoéstaseráádisponerdeunaválvuladecierrequeseabrirádeformaautomáticacuandolapresiónseasuperiora50mbaroelvacíósitosdealmacenamientodegasolinatendránundispositivoquepermitarecogerenelcamióncisternalosvaporesdesplazadosduranteelllenadodeestosdepóíadeaspiracióíadeaspiracióntendráundiámetromínimodeunapulgadaymediayestaráprovistadeválvuladeretencióásbajodelaaspiraciónestarásituadoalmenosa15centímetrosporencimadelfondodeldepóíatendrápendientecontinuamínimadel1por100haciaeldepósito,nopermitiéáadmisiblelautilizacióndeelementosflexibles,enlasconexionesentretuberíaytubería。BOE蝕刻液就來蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。江蘇專業(yè)BOE蝕刻液商家

    所述的磷酸濃度為82-87％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，醇醚類的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，表面活性劑的含量為％。進(jìn)一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液，所述的醇醚類為選自二乙二醇單甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇單甲醚、三甘醇單丁醚等中的至少一種；表面活性劑為選自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸鈉、月桂酰氨乙基硫酸鈉、醇醚羧酸鹽等中的至少一種。進(jìn)一步地，在使用本發(fā)明的蝕刻液進(jìn)行氮化硅層蝕刻時(shí)，蝕刻溫度為152-165℃，蝕刻時(shí)間為5-60min。通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，改善了磷酸的浸潤(rùn)性和表面張力，明顯提高了蝕刻液對(duì)氮化硅層的潤(rùn)濕和蝕刻均勻性。為了便于驗(yàn)證氮化硅薄膜層的蝕刻均勻性，本發(fā)明使用淀積了氮化硅薄膜的晶圓樣片(初始厚度約為)。蝕刻液配制完成后，先使用表面張力儀檢測(cè)該蝕刻液的表面張力；然后將氮化硅晶圓片切割成1cm*3cm的小樣片，采用超純水清洗和氮?dú)獯蹈珊?，使用接觸角測(cè)量?jī)x檢測(cè)蝕刻液對(duì)氮化硅層的接觸角大小。在蝕刻前，使用橢圓偏振光譜儀對(duì)氮化硅樣片取不同位置共6個(gè)點(diǎn)進(jìn)行厚度的測(cè)量。湖北電子級(jí)BOE蝕刻液訂做價(jià)格如何挑選一款適合公司的BOE蝕刻液？

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    此處所描述的具體實(shí)施例用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)包括：電解槽1、射流器2、再生液調(diào)配缸3、液體泵4，其中，電解槽1具有一出液口和出氣口，且電解槽1中內(nèi)置有酸性蝕刻液，電解槽1對(duì)該酸性蝕刻液進(jìn)行電解提銅，產(chǎn)生氯氣，得到電解后液，并且，產(chǎn)生的氯氣通過位于上方的出氣口排出，電解后液通過位于下方的出液口排出。射流器2包括混氣室21和擴(kuò)散管22，混氣室21和擴(kuò)散管22之間為喉管，混氣室21具有進(jìn)氣口2a、進(jìn)液口2b、出液口2c，擴(kuò)散管22連接至出液口2c，進(jìn)氣口2a通過導(dǎo)氣管a與電解槽1的出氣口連接以接收氯氣，擴(kuò)散管22深入到再生液調(diào)配缸3中。再生液調(diào)配缸3具有進(jìn)液口和循環(huán)出液口，進(jìn)液口通過管道b與電解槽1的出液口連接以接收電解后液。液體泵4的一端通過管道b連接再生液調(diào)配缸3的循環(huán)出液口，另一端通過管道b連接射流器2的進(jìn)液口2b，用于將再生液調(diào)配缸3中的電解后液通過管道b抽取至射流器2的進(jìn)液口2b。電解槽1電解提銅后，陽極產(chǎn)生的氯氣通過導(dǎo)氣管a進(jìn)入到射流裝置2的混氣室21內(nèi)，電解后液通過液體泵4打入到射流裝置2的混氣室21，在混氣室21形成真空，在喉管處氯氣與電解后液劇烈混合。江蘇專業(yè)BOE蝕刻液商家