用于實現(xiàn)將所述玻璃加工治具從所述轉(zhuǎn)換區(qū)經(jīng)所述沖洗區(qū)向所述蝕刻區(qū)的減薄前移動，以及從所述蝕刻區(qū)經(jīng)所述沖洗區(qū)向所述轉(zhuǎn)換區(qū)的減薄后移動；所述沖洗區(qū)設置于所述轉(zhuǎn)換區(qū)和所述蝕刻區(qū)之間。較佳的，所述蝕刻區(qū)包括腔室、主厚度測量儀、噴淋組件和控制器；所述主厚度測量儀、所述噴淋組件設置于所述腔室上，所述噴淋組件在所述腔室中對設置于所述玻璃加工治具上的玻璃施加減薄處理，所述主厚度測量儀實時測量在所述腔室內(nèi)經(jīng)歷減薄處理的玻璃厚度；所述控制器與所述噴淋組件、所述主厚度測量儀、所述傳輸組件連接。較佳的，所述噴淋組件包括設置于所述腔室頂部的噴淋頭、設置于所述腔室底部的收集槽、以及與所述噴淋頭、所述收集槽均連通的外部噴淋液管路，通過所述噴淋頭對所述玻璃加工治具上的玻璃噴淋噴淋液從而實現(xiàn)玻璃的減薄處理，所述收集槽收集減薄處理后的噴淋液并傳輸至所述噴淋液管路從所述腔室內(nèi)排出。較佳的，所述主厚度測量儀包括用于發(fā)射激光束的發(fā)射器、用于接收被玻璃反射光束的接收器以及用于分析所述接收器中接收光束并且計算玻璃厚度的分析器。較佳的，所述主厚度測量儀還包括空氣噴射器，用于將空氣噴射到玻璃表面，將被檢測部位暴露于所述發(fā)射器對應位置。選擇減薄用清洗劑，為您的加工過程保駕護航。南通哪家減薄用清洗劑銷售廠家

    實現(xiàn)玻璃與噴淋液充分均勻接觸的同時，控制玻璃的擺動幅度，提高玻璃在減薄過程中的安全性。實施例六所述主厚度測量儀32與所述蝕刻區(qū)3的內(nèi)壁相鄰，并且具有滑動結(jié)構(gòu)以移動到豎直容納在所述玻璃加工治具4內(nèi)的玻璃之中的靠外玻璃附近，從而便于對玻璃厚度進行檢測；具體的，在所述控制器的控制下，所述主厚度測量儀32通過向玻璃發(fā)射激光束來實時測量玻璃厚度并且在玻璃正經(jīng)歷滑動處理的同時將關于測得厚度的信息發(fā)送到所述控制器；所述控制器實時將預設的目標厚度與從所述主厚度測量儀32接收的測得玻璃厚度進行比較。如果確定從所述主厚度測量儀32接收的測得玻璃厚度達到目標厚度，則所述控制器停止減薄處理等操作，并且將所述玻璃加工治具4向所述沖洗區(qū)2移動。較佳的，所述主厚度測量儀32可包括：發(fā)射器，其用于發(fā)射激光束；接收器，其用于接收被玻璃反射的光束；以及分析器，其用于分析接收器中接收的光束并且計算玻璃厚度。所述主厚度測量儀32還可包括空氣噴射器，用于將空氣噴射到玻璃的將被暴露于從發(fā)射器發(fā)射的激光束的那部分。在通過發(fā)射器發(fā)射激光束之前，所述主厚度測量儀32控制所述空氣噴射器。臺州國產(chǎn)減薄用清洗劑推薦廠家蘇州質(zhì)量好的減薄用清洗劑的公司聯(lián)系方式。

    將待加工部件固定在托盤上包括：采用光刻膠將待加工部件固定在托盤上。具體地，將待加工部件背面噴涂厚度約為2μm的光刻膠，如az4620光刻膠，然后在托盤表面噴涂厚度約為3μm的光刻膠，如az4620光刻膠，之后，將托盤光刻膠面向上放于溫度為90℃的熱板上，將待加工部件光刻膠面和托盤光刻膠面貼合，在2×10-2mabr真空下，施加1bar壓強于待加工部件上進行鍵合，鍵合時間20min。s102：通過噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來對待加工表面進行拋光；s103：通過磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)對待加工表面進行機械研磨，來對待加工表面進行減薄。可選地，本發(fā)明實施例中，s102和s103可以交替進行，也就是說，控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)一段時間后，控制磁轉(zhuǎn)子停止旋轉(zhuǎn)，并控制噴頭噴涂拋光液，停止噴涂拋光液后，再次控制磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)，以此類推。本發(fā)明實施例中，通過磁轉(zhuǎn)子和噴頭交替工作，實現(xiàn)了減薄和拋光兩種工藝交替作用，使得減薄和拋光一體化完成，整個過程穩(wěn)定，速度快，控制性好，重復度高，無粉塵污染，襯底減薄終厚度達到20μm，拋光面ra＜2nm。由于減薄過程中待加工部件20如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn)，因此，可以降低拋光減薄過程中對待加工部件20如inp基晶圓的擠壓應力。

    在本發(fā)明的一個實施例中，拋光液110的主要成分包括：碳化硅顆粒，顆粒直徑為50nm～200nm，體積比為3％～5％；次氯酸鹽，體積比為30％～40％；氫溴酸，體積比為5％～7％，di水，體積比50～60％。本發(fā)明的一個實施例中，如圖3所示，磁轉(zhuǎn)子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)120和位于柱狀磁性結(jié)構(gòu)120的底部平面的研磨層121，以通過研磨層121對待加工部件20的待加工表面進行機械研磨。當然，本發(fā)明并不僅限于此，在其他實施例中，可以根據(jù)實際需求選擇合適的磁轉(zhuǎn)子形狀。可選地，研磨層121為金屬氧化物層，進一步可選地，金屬氧化物層包括三氧化二鋁層?？蛇x地，研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實施例中，如圖4所示，磁轉(zhuǎn)子12沿箭頭所示方向旋轉(zhuǎn)，如沿逆時針或順時針方向旋轉(zhuǎn)，并且，磁轉(zhuǎn)子12的長度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑，以對整個待加工表面進行研磨。本發(fā)明實施例中，拋光減薄裝置還包括控制部件?？刂撇考c磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11相連，用于控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作，以對待加工表面交替進行拋光和減薄。其中，控制部件通過脈沖方式控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作?？蛇x地，控制部件控制磁轉(zhuǎn)子12的轉(zhuǎn)速為80rpm～200rpm。如何正確使用減薄用清洗劑的。

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