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企業(yè)商機(jī)
蝕刻液基本參數(shù)
  • 品牌
  • 博洋化學(xué)
  • 產(chǎn)品名稱
  • 鉬鋁鉬蝕刻液
  • 純度級(jí)別
  • 超純/高純
  • 類別
  • 無(wú)機(jī)酸
  • 產(chǎn)品性狀
  • 液態(tài)
蝕刻液企業(yè)商機(jī)

    本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進(jìn)行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟(jì)效益不明顯,有二次污染污染物排放,一旦處理不當(dāng)往外排放,勢(shì)必對(duì)水體生態(tài)系統(tǒng)造成大的沖擊。市場(chǎng)上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡(jiǎn)單的對(duì)蝕刻液進(jìn)行回收處理,不能對(duì)蝕刻液進(jìn)行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會(huì)對(duì)電解池造成沖擊,進(jìn)而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會(huì)產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境,也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理,為此,我們提出一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的目的在于提供一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的市場(chǎng)上的廢銅蝕刻液的回收處理裝置只能簡(jiǎn)單的對(duì)蝕刻液進(jìn)行回收處理,不能對(duì)蝕刻液進(jìn)行循環(huán)電解,使得剩余蝕刻液中的銅離子轉(zhuǎn)化不充分,而且蝕刻液導(dǎo)入到電解池中會(huì)對(duì)電解池造成沖擊,進(jìn)而影響電解池的使用壽命,并且在回收處理中會(huì)產(chǎn)生有害氣體而影響空氣環(huán)境。蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合?池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù)

池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù),蝕刻液

    通過(guò)滑動(dòng)蓋24上的凸塊在過(guò)濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動(dòng),將過(guò)濾板26插入過(guò)濾部件9內(nèi)部?jī)蓚?cè)的固定槽內(nèi),收縮彈簧管25設(shè)置有四處,分別設(shè)置在兩滑動(dòng)蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面,再通過(guò)收縮彈簧管25的彈力將滑動(dòng)蓋24向內(nèi)活動(dòng),使過(guò)濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。推薦的,連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè),連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉(cāng)23的底部,連接構(gòu)件11與攪拌倉(cāng)23固定連接,連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,再通過(guò)連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接,通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)連接構(gòu)件11的兩側(cè)部位,同時(shí)使連接管與連接構(gòu)件11的中間位置固定住,通過(guò)活動(dòng)軸28的作用,使連接管通過(guò)連接有的螺紋向內(nèi)來(lái)連接,使連接管將密封軟膠層29進(jìn)行擠壓,使兩構(gòu)件的連接管進(jìn)行密封連接,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性。工作原理:首先檢查連接構(gòu)件11的完整性,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí)。深圳BOE蝕刻液蝕刻液生產(chǎn)蝕刻液的主要成分是什么?

池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù),蝕刻液

    裝置主體1的頂部另一端固定連接有硝酸鉀儲(chǔ)罐21,裝置主體1的內(nèi)部中間部位固定連接有連接構(gòu)件11,裝置主體1的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥10,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)固定連接有過(guò)濾部件9,裝置主體1的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉(cāng)8,收集倉(cāng)8的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門(mén)7,過(guò)濾部件9的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋24,過(guò)濾部件9的內(nèi)部中間兩側(cè)固定連接有收縮彈簧管25,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)兩端嵌入連接有螺紋管27,連接構(gòu)件11的內(nèi)部中間兩側(cè)活動(dòng)連接有活動(dòng)軸28,連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè)中間兩側(cè)嵌入連接有密封軟膠層29。推薦的,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封,使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性。推薦的,連接構(gòu)件11的兩側(cè)嵌入連接有海綿層12,在使用裝置制備蝕刻液的時(shí)候,需要通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部的部件進(jìn)行連接,在旋轉(zhuǎn)連接構(gòu)件11的兩側(cè)時(shí),操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收。

    silane)系偶聯(lián)劑和水,上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外,提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外,本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時(shí)*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說(shuō)明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時(shí)氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠?qū)?dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。哪家蝕刻液的的性價(jià)比好。

池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù),蝕刻液

    步驟一s1:設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10,其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121;該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121呈千鳥(niǎo)排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,其中該宣泄孔121的孔徑a0比較好小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí),則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面122,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。步驟二s2:使用一設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10下方的輸送裝置30輸送一基板20,以經(jīng)過(guò)一噴灑裝置50進(jìn)行一藥液51噴灑;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對(duì)該基板20進(jìn)行一濕式蝕刻制程,該擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免該噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對(duì)已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進(jìn)行蝕刻制程。蝕刻液的價(jià)格哪家比較優(yōu)惠?鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液訂做價(jià)格

哪家的蝕刻液性價(jià)比比較高?池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù)

    很好的對(duì)注入量進(jìn)行精確控制,提高了該裝置的制備純度。附圖說(shuō)明圖1為本實(shí)用新型的整體示意圖;圖2為本實(shí)用新型的a處放大示意圖;圖3為本實(shí)用新型的b處放大示意圖;圖4為本實(shí)用新型翻折觀察板沿a-a方向的截面示意圖。圖中:1、制備裝置主體,2、高效攪拌裝置,3、過(guò)濾除雜裝置,4、翻折觀察板,401、觀察窗翻折滾輪,402、內(nèi)嵌觀察窗,5、裝置底座,6、成品罐,7、鹽酸裝罐,8、硝酸裝罐,9、熱水流入漏斗,10、加固支架,11、防燙隔膜,12、旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤(pán),13、運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組,14、震蕩彈簧件,15、控制面板,16、致密防腐桿,17、攪動(dòng)孔,18、注入量控制容器,19、注入量觀察刻度線,20、限流銷,21、負(fù)壓引流器,22、嵌入引流口。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例**是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例,基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-4,本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體1、高效攪拌裝置2和過(guò)濾除雜裝置3。池州格林達(dá)蝕刻液配方技術(shù)

蝕刻液產(chǎn)品展示
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