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企業(yè)商機(jī)
蝕刻液基本參數(shù)
  • 品牌
  • 博洋化學(xué)
  • 產(chǎn)品名稱
  • 鉬鋁鉬蝕刻液
  • 純度級(jí)別
  • 超純/高純
  • 類別
  • 無機(jī)酸
  • 產(chǎn)品性狀
  • 液態(tài)
蝕刻液企業(yè)商機(jī)

    且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進(jìn)行拆卸更換,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,連接構(gòu)件,連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接,連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性。附圖說明圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型的過濾部件剖視圖;圖3為本實(shí)用新型的連接構(gòu)件剖視圖;圖4為本實(shí)用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中:1、裝置主體,2、支撐腿,3、電源線,4、單片機(jī),5、控制器,6、防滑紋,7、密封閥門(z45x-16),8、收集倉,9、過濾部件,10、常閉式密封電磁閥(zca-15biii02-10),11、連接構(gòu)件,12、海綿層,13、攪拌電機(jī)(5ik),14、去離子水儲(chǔ)罐,15、磷酸儲(chǔ)罐,16、醋酸儲(chǔ)罐,17、硝酸儲(chǔ)罐,18、陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐,19、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲(chǔ)罐,20、氯化鉀儲(chǔ)罐,21、硝酸鉀儲(chǔ)罐,22、密封環(huán),23、攪拌倉,24、滑動(dòng)蓋,25、收縮彈簧管,26、過濾板,27、螺紋管,28、活動(dòng)軸,29、密封軟膠層。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖。使用蝕刻液需要什么條件。四川銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售廠家

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    蝕刻液也可含有α-羥基羧酸和/或其鹽。α-羥基羧酸及其鹽具有作為鈦的絡(luò)合劑的效果,可抑制蝕刻液中產(chǎn)生鈦的沉淀。作為所述α-羥基羧酸,例如可舉出酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度并無特別限制,從絡(luò)合效果及溶解性的觀點(diǎn)來看,推薦為%至5重量%,更推薦為%至2重量%。另外,蝕刻液也可含有亞硫酸及/或其鹽。亞硫酸及其鹽具有作為還原劑的效果,可提高鈦的蝕刻速度。亞硫酸和/或其鹽的濃度并無特別限制,從還原性及臭氣的觀點(diǎn)來看,推薦為%至%,更推薦為%至%。蝕刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨礙本發(fā)明效果的程度添加其他成分。作為其他成分,例如可舉出表面活性劑、成分穩(wěn)定劑及消泡劑等。蝕刻液可通過使所述各成分溶解于水中而容易地制備。作為所述水,推薦為將離子性物質(zhì)及雜質(zhì)除去的水,例如推薦為離子交換水、純水、超純水等。蝕刻液可在使用時(shí)將各成分以成為預(yù)定濃度的方式調(diào)配,也可預(yù)先制備濃縮液并在即將使用之前稀釋而使用。使用本發(fā)明的蝕刻液的鈦的蝕刻方法并無特別限制,例如可舉出:對(duì)含有銅及鈦的對(duì)象物涂布或噴霧蝕刻液的方法;將含有銅及鈦的對(duì)象物浸漬在蝕刻液中的方法等。處理溫度并無特別限制。上海哪家蝕刻液蝕刻液主要作用京東方用的哪家的蝕刻液?

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    因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會(huì)過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題。美國公開**第2號(hào)公開了在3dnand閃存的制造工序中,對(duì)于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,不得不需要測(cè)試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實(shí)際情況是,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國公開**第2號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。解決課題的方法為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。

    該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其主要特征在于:該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置,且該第二擋板12與該第三擋板13呈正交設(shè)置,以使該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣,在一實(shí)施例中,該***擋板11、該第二擋板12與該第三擋板13可以為一體成形,其中該第二擋板12的長度h介于10cm至15cm之間,而該等開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121可呈千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列的態(tài)樣,且該宣泄孔121可為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合;在本實(shí)用新型其一較佳實(shí)施例中,開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離(例如:圖3中所示的w),其中該宣泄孔121的一孔徑a0比較好小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí),則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外,請(qǐng)一并參閱圖4圖5所示。蝕刻液的價(jià)格哪家比較優(yōu)惠?

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    如前文所述,必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖9所示)。再者,請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D10至圖12所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖、其三較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔與斜錐孔混合的態(tài)樣(如圖10所示),或是全部為斜錐孔的態(tài)樣(如圖11所示),其中該宣泄孔121具有一***壁面1211與一第二壁面1212,且該第二擋板12具有一下表面122,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔的態(tài)樣時(shí),該***壁面1211與該下表面122的***夾角θ1不同于該第二壁面1212與該下表面122的第二夾角θ2,亦即該***壁面1211與該第二壁面1212可不互相平行,但應(yīng)避免該***夾角θ1與該第二夾角θ2差距過大而造成毛細(xì)現(xiàn)象破除;此外,當(dāng)該宣泄孔121為斜錐孔態(tài)樣時(shí)。哪家蝕刻液的的性價(jià)比好。無錫銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售公司

蝕刻液的技術(shù)指標(biāo)哪家比較好?四川銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售廠家

    負(fù)的值表示厚度減小。上述蝕刻液組合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征,上述氧化物膜推薦包含sio2,上述氮化物膜推薦包含sin。上述蝕刻液組合物用于3dnand閃存制造工序,能夠使上述氮化物膜去除工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留和氧化物膜損傷不良問題**少化。本發(fā)明的蝕刻液組合物包含如上選擇的添加劑,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜時(shí),能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長而氮化物膜未被完全去除的不良(參照?qǐng)D2)以及氮化物膜雖被完全去除但也造成氧化物膜損傷(damage)的工序不良(參照?qǐng)D3)的發(fā)生**少化。因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長而氮化物膜未被完全去除的不良在添加劑的防蝕能力強(qiáng)于適宜水平時(shí)發(fā)生,氧化物膜不良在添加劑的防蝕能力弱于適宜水平時(shí)發(fā)生。以下,對(duì)于本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的磷酸、作為添加劑的硅烷(silane)系偶聯(lián)劑以及進(jìn)行更詳細(xì)的說明。(a)磷酸本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作為主氧化劑可以在使氮化物膜氧化時(shí)使用。相對(duì)于組合物總重量,上述磷酸的含量為50~95重量%,推薦為80~90重量%。在上述磷酸的含量處于上述含量范圍內(nèi)的情況下。四川銅鈦蝕刻液蝕刻液銷售廠家

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