且過(guò)濾部件能將內(nèi)部的過(guò)濾板進(jìn)行拆卸更換,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,連接構(gòu)件,連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉(cāng)的底部,連接構(gòu)件與攪拌倉(cāng)固定連接,連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性。附圖說(shuō)明圖1為本實(shí)用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型的過(guò)濾部件剖視圖;圖3為本實(shí)用新型的連接構(gòu)件剖視圖;圖4為本實(shí)用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中:1、裝置主體,2、支撐腿,3、電源線,4、單片機(jī),5、控制器,6、防滑紋,7、密封閥門(z45x-16),8、收集倉(cāng),9、過(guò)濾部件,10、常閉式密封電磁閥(zca-15biii02-10),11、連接構(gòu)件,12、海綿層,13、攪拌電機(jī)(5ik),14、去離子水儲(chǔ)罐,15、磷酸儲(chǔ)罐,16、醋酸儲(chǔ)罐,17、硝酸儲(chǔ)罐,18、陰離子表面活性劑儲(chǔ)罐,19、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲(chǔ)罐,20、氯化鉀儲(chǔ)罐,21、硝酸鉀儲(chǔ)罐,22、密封環(huán),23、攪拌倉(cāng),24、滑動(dòng)蓋,25、收縮彈簧管,26、過(guò)濾板,27、螺紋管,28、活動(dòng)軸,29、密封軟膠層。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖。蝕刻液應(yīng)用于什么樣的場(chǎng)合?南京銀蝕刻液蝕刻液銷售公司
為本實(shí)用新型擋液板結(jié)構(gòu)其二較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖,以及其三較佳實(shí)施例的宣泄孔排列示意圖,在本實(shí)用新型其二較佳實(shí)施例中,開設(shè)于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,例如:圖4中所示的w1,其中w1大于圖3的w或圖5的w2,其中w2大于w,而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內(nèi)產(chǎn)生毛細(xì)現(xiàn)象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現(xiàn)時(shí),則該水滴不至于經(jīng)由該宣泄孔121落至下表面,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外,請(qǐng)參閱圖6與圖7所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖,以及擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖,其中本實(shí)用新型的蝕刻設(shè)備1設(shè)置于一濕式蝕刻機(jī)的一槽體(圖式未標(biāo)示)內(nèi),該蝕刻設(shè)備1包括有一如上所述的擋液板結(jié)構(gòu)10、一輸送裝置30、一基板20,以及一風(fēng)刀裝置40,其中本實(shí)用新型主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的擋液板結(jié)構(gòu)10搭配該風(fēng)刀裝置40的硬體設(shè)計(jì),有效使該風(fēng)刀裝置40吹出的氣體43得以由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121宣泄。廣東鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液費(fèi)用好的蝕刻液的標(biāo)準(zhǔn)是什么。
操作人員的手會(huì)與連接構(gòu)件11接觸,海綿層12可以將操作人員手上的水分進(jìn)行吸收,避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時(shí)候,會(huì)因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況,有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進(jìn)行;然后,通過(guò)連接構(gòu)件11將裝置主體1內(nèi)部構(gòu)件進(jìn)行連接,連接構(gòu)件11設(shè)置有十四個(gè),連接構(gòu)件11設(shè)置在攪拌倉(cāng)23的底部,連接構(gòu)件11與攪拌倉(cāng)23固定連接,連接構(gòu)件11能將裝置主體1內(nèi)部的兩個(gè)構(gòu)件進(jìn)行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進(jìn)行連接或拆卸的時(shí)候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,在將兩構(gòu)件的連接管放在連接構(gòu)件11的兩端,再通過(guò)連接管與連接構(gòu)件11內(nèi)側(cè)兩端的螺紋管27進(jìn)行連接,通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)連接構(gòu)件11的兩側(cè)部位,同時(shí)使連接管與連接構(gòu)件11的中間位置固定住,通過(guò)活動(dòng)軸28的作用,使連接管通過(guò)連接有的螺紋向內(nèi)來(lái)連接,使連接管將密封軟膠層29進(jìn)行擠壓,使兩構(gòu)件的連接管進(jìn)行密封連接,有效的提高了裝置連接的實(shí)用性;接著,更換或添加硝酸鉀儲(chǔ)罐21或其它儲(chǔ)罐內(nèi)的制備材料,硝酸鉀儲(chǔ)罐21的頂部嵌入連接有密封環(huán)22,在將制備蝕刻液儲(chǔ)罐加入制備材料的時(shí)候,需要將儲(chǔ)罐進(jìn)行密封,密封環(huán)22能將硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其他儲(chǔ)罐的頂蓋與儲(chǔ)罐主體連接的位置進(jìn)行密封。
silane)系偶聯(lián)劑和水,上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外,提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外,本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時(shí)*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說(shuō)明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時(shí)氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠?qū)?dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應(yīng)氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。如何挑選一款適合公司的蝕刻液?
上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以。以下,通過(guò)實(shí)施例更加詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。但是,以下的實(shí)施例用于更加具體地說(shuō)明本發(fā)明,本發(fā)明的范圍并不受以下實(shí)施例的限定。實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物的制造參照以下表1(重量%),制造實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物。[表1]參照以下表2和圖5,利用實(shí)施例和比較例的蝕刻液組合物,對(duì)于包含作為氧化物膜sio2和作為上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的、總厚度的膜進(jìn)行如下處理。在160℃用硅烷系偶聯(lián)劑%對(duì)上述膜處理10,000秒的情況下,可以確認(rèn)到,aeff值與蝕刻程度(etchingamount,e/a)呈線性相互關(guān)系。具體而言,可以判斷,作為硅烷系偶聯(lián)劑,包含aeff值處于~14的蝕刻程度(etchingamount,e/a)優(yōu)異,從而阻止氧化物膜損傷不良和因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良的效果優(yōu)異。另一方面,可以判斷,作為硅烷系偶聯(lián)劑,包含aeff值不處于~11的蝕刻程度不佳,從而發(fā)生氧化物膜損傷不良。[表2]例如,參照以下表3,包含雙。蝕刻液蝕刻后如何判斷好壞 ?成都銅蝕刻液蝕刻液配方技術(shù)
質(zhì)量好的蝕刻液的公司聯(lián)系方式。南京銀蝕刻液蝕刻液銷售公司
因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時(shí)會(huì)過(guò)度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問(wèn)題。美國(guó)公開**第2號(hào)公開了在3dnand閃存的制造工序中,對(duì)于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構(gòu)成成分的種類和濃度,不得不需要測(cè)試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實(shí)際情況是,與上述同樣,仍然沒(méi)有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過(guò)度耗費(fèi)時(shí)間和費(fèi)用的問(wèn)題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)**文獻(xiàn)**文獻(xiàn)1:美國(guó)公開**第2號(hào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術(shù)問(wèn)題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯(lián)劑的參數(shù)以及包含由此獲得的硅烷系偶聯(lián)劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯(lián)劑作為添加劑即使不進(jìn)行另外的實(shí)驗(yàn)確認(rèn)也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。解決課題的方法為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。南京銀蝕刻液蝕刻液銷售公司