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    其擴散管深入到所述再生液調(diào)配缸中；液體泵，其一端通過管道連接所述再生液調(diào)配缸的循環(huán)出液口，另一端通過管道連接所述射流器的進液口，用于將所述再生液調(diào)配缸中的電解后液通過所述管道抽取至所述射流器的進液口。進一步地，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括：曝氣裝置，用于向所述再生液調(diào)配缸中的電解后液輸送氣體以進行攪拌。進一步地，所述酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)還包括：后續(xù)處理系統(tǒng)，用于向經(jīng)過所述再生液調(diào)配缸處理過的電解后液中加入氯化鈉、鹽酸并攪拌均勻。更進一步地，所述電解槽的陽極為石墨電極，陰極為鈦或鈦合金板狀電極。更進一步地，所述電解槽中陰極與陽極之間的距離為55mm。更進一步地，所述電解槽的電流密度為300a/m2。本實用新型所提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)通過簡單的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)了電解后廢液的再生利用，可節(jié)約能耗和藥品，提高經(jīng)濟效益。附圖說明圖1是本實用新型實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖；圖2是本實用新型第二實施例提供的酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖。具體實施方式為了使本實用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實施例，對本實用新型進行進一步詳細說明。應(yīng)當理解。江蘇無機BOE蝕刻液報價質(zhì)量好的BOE蝕刻液的公司聯(lián)系方式。

    本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。

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