薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同,不過(guò)進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測(cè)定以及組分與應(yīng)變分析。在對(duì)薄膜和涂層進(jìn)行分析時(shí),著重對(duì)厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析(從非晶和多晶涂層到外延生長(zhǎng)薄膜)。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析:掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專(zhuān)業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。在DIFFRAC.TEXTURE中,使用球諧函數(shù)和分量方法,生成極圖、取向分布函數(shù)(ODF)和體積定量分析。合肥倒易空間檢測(cè)分析
超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來(lái)越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專(zhuān)業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。合肥倒易空間檢測(cè)分析D8D對(duì)地質(zhì)構(gòu)造研究,借助μXRD,哪怕是很小的包裹體定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定都不在話下。
X射線粉末衍射(XRPD)技術(shù)是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息,直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,您將能簡(jiǎn)單地實(shí)施常見(jiàn)的XRPD方法:鑒別晶相和非晶相,并測(cè)定樣品純度對(duì)多相混合物的晶相和非晶相進(jìn)行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析(微晶尺寸、微應(yīng)變、無(wú)序…)熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測(cè)定和晶體結(jié)構(gòu)精修,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶還是專(zhuān)業(yè)用戶,都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的:配置儀器時(shí),免工具、免準(zhǔn)直,同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不僅如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面,市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。
D8DISCOVER應(yīng)用范圍材料研究殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射(WAXS)XRD可研究材料的結(jié)構(gòu)和物理特性,是重要的材料研究工具之一。D8DISCOVER就是布魯克推出的、用于材料研究的旗艦款XRD儀器。D8DISCOVER配備了技術(shù)超過(guò)的組件,可為您帶來(lái)較好的性能和充分的靈活性,同時(shí)讓研究人員對(duì)材料進(jìn)行細(xì)致入微的表征:定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定微米應(yīng)變和微晶尺寸分析應(yīng)力和織構(gòu)分析粒度和粒度分布測(cè)定使用微米大小的X射線束進(jìn)行局部XRD分析倒易空間掃描從微米到納米厚度的涂層或外延膜的樣品都受益,用于評(píng)估晶體質(zhì)量、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛技術(shù)。
D2PHASER所具備的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度遠(yuǎn)超目前人們對(duì)臺(tái)式XRD系統(tǒng)的認(rèn)知。緊湊輕便的外形和易于使用的設(shè)計(jì),十分便于移動(dòng),您無(wú)需準(zhǔn)備復(fù)雜的基礎(chǔ)框架、大而笨重的工作臺(tái),也無(wú)需供應(yīng)商前來(lái)安裝和調(diào)整,只需準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)的電源插座,然后花費(fèi)幾分鐘的時(shí)間,即可完成從拆包到獲得分析結(jié)果的過(guò)程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨(dú)特的LYNXEYEXE-T探測(cè)器,已然成為同類(lèi)更好的選擇!小于380eV的能量分辨率使其支持的數(shù)字單色器模式,可有效去除——不必要的輻射,如樣品熒光,Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射,而不會(huì)明顯降低檢測(cè)速度。D8 DISCOVER系列是市面上準(zhǔn)確、功能強(qiáng)大和靈活的X射線衍射解決方案。合肥倒易空間檢測(cè)分析
定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測(cè)定 微米大小X射線束局部分析。合肥倒易空間檢測(cè)分析
石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。合肥倒易空間檢測(cè)分析
材料研究樣品臺(tái)緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)能夠精確地移動(dòng)樣品,因此擴(kuò)展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力。緊湊型UMC樣品臺(tái)可對(duì)2Kg的樣品進(jìn)行電動(dòng)移動(dòng):X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,可用于分析大型塊狀樣品或多個(gè)小樣品;緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺(tái)的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制,Psi傾斜度在-5°到95°之間,可用于應(yīng)力、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,它還具有真空多用途通孔,可通過(guò)小型薄膜樣品架或大型手動(dòng)X-Y樣品臺(tái),將樣品固定在適當(dāng)位置。二者均可用于溫控樣品臺(tái),進(jìn)行非環(huán)境分析。另外,它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺(tái)卡口安裝系統(tǒng),輕松更換樣品臺(tái)。根據(jù)應(yīng)用需...