當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對(duì)稱(chēng)性很差時(shí)，如圖2，樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然，也可能是由于非晶碳或無(wú)定形碳的存在。需要對(duì)衍射峰進(jìn)行分峰處理，得到各個(gè)子峰的峰位和積分強(qiáng)度值，如圖2所示。分別計(jì)算各子峰的石墨化度，再利用各子峰的積分強(qiáng)度為權(quán)重，歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實(shí)驗(yàn)（藍(lán)色數(shù)據(jù)點(diǎn)）及分峰擬合圖譜（紅色：擬合圖譜，兩綠色為單峰擬合結(jié)果）石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性?xún)?yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。D8測(cè)角儀巨有市場(chǎng)超前地精確度，為布魯克獨(dú)有的準(zhǔn)直保證奠定了基礎(chǔ)。蘇州D2 PHASER檢測(cè)分析

D2PHASER—數(shù)據(jù)質(zhì)量D2PHASER所具備的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度遠(yuǎn)超目前人們對(duì)臺(tái)式XRD系統(tǒng)的認(rèn)知。得益于出色的分辨率、低角度和低背景，該儀器是從相識(shí)別、定量相分析到晶體結(jié)構(gòu)分析的所有粉末衍射應(yīng)用的理想解決方案。不僅如此——只有布魯克AXS才能在整個(gè)角度范圍內(nèi)，保證實(shí)現(xiàn)儀器對(duì)準(zhǔn)（精度等于或優(yōu)于±0.02°2θ）。加上遵循著嚴(yán)格的儀器驗(yàn)證協(xié)議，它可為所有應(yīng)用提供準(zhǔn)確數(shù)據(jù)。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。蘇州二維衍射儀檢測(cè)分析在DIFFRAC.LEPTOS中，對(duì)多層樣品的薄膜厚度、界面粗糙度和密度進(jìn)行XRR分析。

D2PHASER所具備的數(shù)據(jù)質(zhì)量和數(shù)據(jù)采集速度遠(yuǎn)超目前人們對(duì)臺(tái)式XRD系統(tǒng)的認(rèn)知。緊湊輕便的外形和易于使用的設(shè)計(jì)，十分便于移動(dòng)，您無(wú)需準(zhǔn)備復(fù)雜的基礎(chǔ)框架、大而笨重的工作臺(tái)，也無(wú)需供應(yīng)商前來(lái)安裝和調(diào)整，只需準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)的電源插座，然后花費(fèi)幾分鐘的時(shí)間，即可完成從拆包到獲得分析結(jié)果的過(guò)程。D2PHASERXE-T版D2PHASER配備了獨(dú)特的LYNXEYEXE-T探測(cè)器，已然成為同類(lèi)更好的選擇！小于380eV的能量分辨率使其支持的數(shù)字單色器模式，可有效去除——不必要的輻射，如樣品熒光，Kβ輻射以及軔致輻射——背景散射，而不會(huì)明顯降低檢測(cè)速度。

XRD檢測(cè)納米二氧化鈦晶粒尺寸引言納米材料的性能往往和其晶粒大小有關(guān)，而X射線(xiàn)衍射是測(cè)定納米材料晶尺寸的有效方法之一。晶粒尺寸Dhkl(可理解為一個(gè)完整小單晶的大小)可通過(guò)謝樂(lè)公示計(jì)算Dhkl：晶粒尺寸，垂直于晶面hkl方向β:hkl晶面的半高寬（或展寬）θ：hkl晶面的bragg角度λ：入射X光的波長(zhǎng)，一般Cu靶為1.54埃K：常數(shù)（晶粒近似為球形，K=0.89；其他K=1）ADVANCE采用了開(kāi)放式設(shè)計(jì)并具有不受約束的模塊化特性的同時(shí)，將用戶(hù)友好性、操作便利性以及安全操作性發(fā)揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設(shè)計(jì)定性相分析和結(jié)構(gòu)測(cè)定 微米應(yīng)變和微晶尺寸分析 應(yīng)力和織構(gòu)分析 粒度和粒度分布測(cè)定 微米大小X射線(xiàn)束局部分析。

超薄HfO2薄膜XRR測(cè)試引言隨著晶體管節(jié)點(diǎn)技術(shù)的發(fā)展，薄膜厚度越來(lái)越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點(diǎn)的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測(cè)量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無(wú)論是新手用戶(hù)還是專(zhuān)業(yè)用戶(hù)，都可簡(jiǎn)單快捷、不出錯(cuò)地對(duì)配置進(jìn)行更改。這都是通過(guò)布魯克獨(dú)特的DAVINCI設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)的：配置儀器時(shí)，免工具、免準(zhǔn)直，同時(shí)還受到自動(dòng)化的實(shí)時(shí)組件識(shí)別與驗(yàn)證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無(wú)其他粉末衍射儀的精度超過(guò)D8ADVANCE。候選材料鑒別（PMI） 為常見(jiàn)，這是因?yàn)閷?duì)其原子結(jié)構(gòu)十分靈敏，而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室XRD衍射儀檢測(cè)

全能運(yùn)動(dòng)概念確保當(dāng)樣品在移動(dòng)時(shí)，感興趣區(qū)域始終在測(cè)角儀中心，從φ旋轉(zhuǎn)到XYZ平移和ψ傾斜，有5個(gè)自由度。蘇州D2 PHASER檢測(cè)分析

對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品，通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量。通過(guò)消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力，可延長(zhǎng)其功能壽命。這可通過(guò)熱處理或噴丸處理等物理工藝來(lái)完成。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向，決定了裂紋的生長(zhǎng)方式。而通過(guò)在材料中形成特定的織構(gòu)，可顯著增強(qiáng)其特性。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法（例如增材制造）領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。蘇州D2 PHASER檢測(cè)分析