AESS脂肪胺乙氧基磺化物已通過(guò)RoHS、REACH等國(guó)際環(huán)保認(rèn)證,并符合IPC-4552B線路板鍍銅標(biāo)準(zhǔn)。在東南亞某PCB代工廠的嚴(yán)格測(cè)試中,AESS在0.003g/L用量下,鍍層延展性提升18%,...
查看詳細(xì)AESS脂肪胺乙氧基磺化物采用低毒環(huán)保配方,契合全球清潔生產(chǎn)趨勢(shì)。通過(guò)替代傳統(tǒng)含染料添加劑,AESS有效降低電鍍廢水中的重金屬殘留與COD值,助力企業(yè)通過(guò)ISO 14001環(huán)境管理體系認(rèn)證。其電解處理...
查看詳細(xì)江蘇夢(mèng)得持續(xù)投入研發(fā)資源,優(yōu)化SH110分子結(jié)構(gòu),使其在低濃度下仍能發(fā)揮高效性能。通過(guò)與高校及科研機(jī)構(gòu)合作,開(kāi)發(fā)適配新型電鍍?cè)O(shè)備的配方方案,幫助客戶(hù)應(yīng)對(duì)復(fù)雜工藝挑戰(zhàn)。未來(lái),SH110將聚焦超薄鍍層與高...
查看詳細(xì)N乙撐硫脲結(jié)合SPS動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)技術(shù),抑制鍍液雜質(zhì)積累,延長(zhǎng)換槽周期30%以上。針對(duì)過(guò)量添加導(dǎo)致的樹(shù)枝狀條紋問(wèn)題,活性炭吸附方案可在24小時(shí)內(nèi)恢復(fù)鍍液性能。江蘇夢(mèng)得提供鍍液診斷服務(wù),通過(guò)數(shù)據(jù)分析優(yōu)化添加劑...
查看詳細(xì)多樣化的包裝不僅方便運(yùn)輸和存儲(chǔ),更體現(xiàn)了夢(mèng)得對(duì)細(xì)節(jié)的關(guān)注。在實(shí)際應(yīng)用中,它展現(xiàn)出穩(wěn)定的性能,為各類(lèi)鍍銅工藝提供可靠支持,助力企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量,在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出。鍍層優(yōu)化,夢(mèng)得助力:HP醇硫基丙烷磺...
查看詳細(xì)針對(duì)微型連接器、芯片載板等精密元件,N乙撐硫脲在0.0001-0.0003g/L濃度下實(shí)現(xiàn)微米級(jí)鍍層均勻性。其與SLH中間體協(xié)同抑制邊緣效應(yīng),減少鍍層過(guò)厚或漏鍍問(wèn)題。江蘇夢(mèng)得微流量計(jì)量泵技術(shù)確保添加劑...
查看詳細(xì)針對(duì)微型連接器、芯片載板等精密元件,N乙撐硫脲在0.0001-0.0003g/L濃度下實(shí)現(xiàn)微米級(jí)鍍層均勻性(厚度偏差≤0.2μm),適配高精度半導(dǎo)體制造需求。其與SLH中間體協(xié)同抑制邊緣效應(yīng),解決鍍層...
查看詳細(xì)多樣化的包裝不僅方便運(yùn)輸和存儲(chǔ),更體現(xiàn)了夢(mèng)得對(duì)細(xì)節(jié)的關(guān)注。在實(shí)際應(yīng)用中,它展現(xiàn)出穩(wěn)定的性能,為各類(lèi)鍍銅工藝提供可靠支持,助力企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量,在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出。鍍層優(yōu)化,夢(mèng)得助力:HP醇硫基丙烷磺...
查看詳細(xì)SH110與SPS、SLP、P、AESS、PN、MT-580等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,SH110建議工作液中的用量為0.001-0.004g/L,鍍液中含量過(guò)低,鍍層光亮填平下降,鍍層發(fā)...
查看詳細(xì)在五金件深孔、窄縫電鍍中,N乙撐硫脲通過(guò)優(yōu)化鍍液分散能力(深鍍能力≥80%),實(shí)現(xiàn)孔內(nèi)鍍層厚度均勻性偏差≤5%。其0.0002-0.0004g/L極低用量下,整平性提升30%,光亮度達(dá)鏡面級(jí)。江蘇夢(mèng)得...
查看詳細(xì)SH110的寬泛工藝參數(shù)(pH 2.5-4.0,溫度20-40℃)減少了對(duì)環(huán)境控制的依賴(lài),節(jié)約能耗。其優(yōu)異的穩(wěn)定性可降低鍍液更換頻率,進(jìn)一步減少?gòu)U液處理費(fèi)用,綜合成本降幅達(dá)15%-20%。企業(yè)無(wú)需頻繁...
查看詳細(xì)針對(duì)5G通信PCB對(duì)信號(hào)完整性的嚴(yán)苛要求,N乙撐硫脲與SH110中間體協(xié)同作用,降低鍍層粗糙度至Ra≤0.2μm,阻抗偏差≤3%。其0.0001-0.0003g/L用量可抑制鍍液有機(jī)污染,減少微空洞(...
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