光刻在半導(dǎo)體器件加工中的作用是什么? 提高生產(chǎn)效率:光刻技術(shù)可以提高半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)效率。光刻機(jī)具有高度自動(dòng)化的特點(diǎn),可以實(shí)現(xiàn)大規(guī)模、高速的生產(chǎn)。通過(guò)使用多臺(tái)光刻機(jī)并行操作,可以同時(shí)進(jìn)行多個(gè)光刻步驟,...
真空鍍膜的方法:真空蒸鍍法:真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù)。根據(jù)蒸發(fā)源的不同可以將真空蒸鍍...
磁控濺射的工作原理是指電子在外加電場(chǎng)的作用下,在飛向襯底過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向襯底,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生...
從1879年到1947年是奠基階段,20世紀(jì)初的物理學(xué)變革(相對(duì)論和量子力學(xué))使得人們認(rèn)識(shí)了微觀世界(原子和分子)的性質(zhì),隨后這些新的理論被成功地應(yīng)用到新的領(lǐng)域(包括半導(dǎo)體),固體能帶理論為半導(dǎo)體科技...
真空鍍膜:真空蒸鍍基本工藝鍍前處理:包括清洗鍍件和預(yù)處理。具體清洗方法有清洗劑清洗、化學(xué)溶劑清洗、超聲波清洗和離子轟擊清洗等。具體預(yù)處理有除靜電,涂底漆等。裝爐:包括真空室清理及鍍件掛具的清洗,蒸發(fā)源...
真空鍍膜:離子鍍膜法:目前比較常用的組合方式有:活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE)。利用電子束加熱使膜材氣化;依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)狻⒁胰驳确磻?yīng)氣體離化。這種...
使用磁控濺射法沉積硅薄膜,通過(guò)優(yōu)化薄膜沉積的工藝參數(shù)(包括本地真空、濺射功率、濺射氣壓等),以期用濺射法終后制備出高質(zhì)量的器件級(jí)硅薄膜提供科學(xué)數(shù)據(jù)。磁控濺射法是一種簡(jiǎn)單、低溫、快速的成膜技術(shù),能夠不使...
電子束蒸發(fā)與熱蒸發(fā)的區(qū)別在于:電子束蒸發(fā)是用一束電子轟擊物體,產(chǎn)生高能量進(jìn)行蒸發(fā), 熱蒸發(fā)通過(guò)加熱完成這一過(guò)程。與熱蒸發(fā)相比,電子束蒸發(fā)提供了高能量;但將薄膜的厚度控制在 5nm 量級(jí)將是困難的。在這...
真空鍍膜的方法:化學(xué)氣相沉積:在等離子化學(xué)氣相沉積法中,等離子體中電子溫度高達(dá)104K,電子與氣相分子的碰撞可以促進(jìn)氣體分子的分解、化合、激發(fā)和電離過(guò)程,生成活性很高的各種化學(xué)基團(tuán),產(chǎn)生大量反應(yīng)活性物...
什么是微納加工?微納加工技術(shù)的發(fā)展還面臨一些挑戰(zhàn)。首先,微納加工技術(shù)需要高精度的設(shè)備和工藝,成本較高。其次,微納加工技術(shù)需要對(duì)材料進(jìn)行精確的控制,對(duì)材料的性質(zhì)和工藝要求較高。此外,微納加工技術(shù)還需要解...
在微納加工過(guò)程中,有許多因素會(huì)影響加工質(zhì)量和精度,包括材料選擇、加工設(shè)備、工藝參數(shù)等。下面將從這些方面詳細(xì)介紹如何保證微納加工的質(zhì)量和精度。加工控制:加工控制是保證微納加工質(zhì)量和精度的關(guān)鍵。加工控制包...
在微納加工過(guò)程中,有許多因素會(huì)影響加工質(zhì)量和精度,下面將從這些方面詳細(xì)介紹如何保證微納加工的質(zhì)量和精度。質(zhì)量管理:質(zhì)量管理是保證微納加工質(zhì)量和精度的重要手段。質(zhì)量管理包括質(zhì)量控制、質(zhì)量保證和質(zhì)量改進(jìn)等...