石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉(zhuǎn)移,Polos 光刻機的激光直寫技術(shù)避免了傳統(tǒng)濕法轉(zhuǎn)移的污染問題。某納米電子實驗室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列,成功制備出石墨烯場效應(yīng)晶體管,其電子遷移率達(dá) 2×10? cm2/(V?s),接近理論極限。該技術(shù)支持快速構(gòu)建多種二維材料異質(zhì)結(jié),使器件研發(fā)效率提升 5 倍,相關(guān)成果推動二維材料在柔性電子、量子計算領(lǐng)域的應(yīng)用研究進(jìn)入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。POLOS μ 光刻機:桌面級設(shè)計,2-23μm 可調(diào)分辨率,兼容 4 英寸晶圓,微機電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm。廣東POLOSBEAM光刻機光源波長405微米
Polos光刻機與德國Lab14集團(tuán)、弗勞恩霍夫研究所等機構(gòu)合作,推動光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對準(zhǔn)精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。江蘇PSP光刻機成本效益:單次曝光成本低于傳統(tǒng)光刻 1/3,小批量研發(fā)更經(jīng)濟。
在微流體研究領(lǐng)域,德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),打破傳統(tǒng)光刻的局限,無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計,快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機,能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,模擬人體環(huán)境,讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性。同時,在細(xì)胞培養(yǎng)實驗中,該光刻機制作的微流體芯片,為細(xì)胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,助力細(xì)胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,正推動微流體研究不斷向前。
某半導(dǎo)體實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)氮化鎵(GaN)基高電子遷移率晶體管(HEMT)。其激光直寫技術(shù)在藍(lán)寶石襯底上實現(xiàn)了 50nm 柵極長度的precise曝光,較傳統(tǒng)光刻工藝線寬偏差降低 60%。通過自定義多晶硅柵極圖案,器件的電子遷移率達(dá) 2000 cm2/(V?s),擊穿電壓提升至 1200V,遠(yuǎn)超商用產(chǎn)品水平。該技術(shù)還被用于 SiC 基功率器件的臺面刻蝕,刻蝕深度均勻性誤差小于 ±3%,助力我國新能源汽車電控系統(tǒng)core器件的國產(chǎn)化突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。高頻元件驗證:成功開發(fā)射頻器件與IDC電容器,加速國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈突破。
某基因treatment團(tuán)隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),載體的 DNA 負(fù)載量達(dá) 200μg/mg,較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉(zhuǎn)染效率達(dá) 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據(jù)不同細(xì)胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細(xì)胞treatment中,CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會??蒲谐晒D(zhuǎn)化:中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細(xì)胞浸潤機制。湖北德國POLOS光刻機可以自動聚焦波長
亞微米級精度:0.8 μmmost小線寬,支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。廣東POLOSBEAM光刻機光源波長405微米
上海有機化學(xué)研究所通過光刻技術(shù)制備多組分納米纖維,實現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,Polos系列設(shè)備可支持此類結(jié)構(gòu)的可控加工,為新能源器件(如柔性電池)和智能材料提供技術(shù)基礎(chǔ)3。設(shè)備的高重復(fù)性(0.1 μm)確保了科研成果的可轉(zhuǎn)化性。掩模光刻技術(shù)可以隨意進(jìn)行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進(jìn)一步提升了其優(yōu)勢。廣東POLOSBEAM光刻機光源波長405微米
某revolution生物醫(yī)學(xué)研究機構(gòu)致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術(shù)。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術(shù),科研團(tuán)隊成功制造出擁有復(fù)雜微通道網(wǎng)絡(luò)的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應(yīng)過程,極大提高了檢測的靈敏度和準(zhǔn)確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術(shù)制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構(gòu)在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關(guān)成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學(xué)期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板...