加熱培養(yǎng)基時(shí)為什么會(huì)出現(xiàn)局部過熱的情況

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賽鍶鈦氪(上海)貿(mào)易有限公司2025-05-31

加熱培養(yǎng)基時(shí)出現(xiàn)局部過熱情況，主要與加熱設(shè)備、培養(yǎng)基性質(zhì)及容器特點(diǎn)等因素有關(guān)。

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