賽瑞達(dá)智能電子裝備（無(wú)錫）有限公司2025-03-08

溫度控制精度對(duì)于氧化退火爐極其重要。在氧化過(guò)程中，溫度偏差會(huì)直接影響氧化膜的生長(zhǎng)速率和質(zhì)量。溫度過(guò)高，氧化膜生長(zhǎng)過(guò)快，可能導(dǎo)致膜層質(zhì)量不穩(wěn)定，出現(xiàn)洞孔、厚度不均勻等問(wèn)題；溫度過(guò)低，氧化反應(yīng)不完全，無(wú)法達(dá)到所需的氧化膜厚度。在退火過(guò)程中，溫度精度影響材料內(nèi)部應(yīng)力消除和晶體結(jié)構(gòu)修復(fù)效果。如果溫度控制不準(zhǔn)確，可能導(dǎo)致材料性能無(wú)法有效改善，甚至出現(xiàn)性能劣化。一般氧化退火爐的溫度控制精度需達(dá)到 ±1℃甚至更高，才能滿足半導(dǎo)體制造等對(duì)材料性能要求極高的行業(yè)需求。?

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