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LPCVD 的工作原理是什么??

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賽瑞達智能電子裝備(無錫)有限公司2025-04-19

在低壓環(huán)境下,先把氣體源(也就是氣態(tài)前驅物)引入反應室。接著將基片加熱到特定溫度,使氣體前驅物能發(fā)生反應。當氣體分子與基片表面接觸,就會分解或進行化學反應,生成固態(tài)沉積物,也就是我們要的薄膜材料,同時還會釋放出氣體副產物。整個過程通過控制低壓條件,讓反應更可控,進而實現(xiàn)均勻的薄膜沉積。

賽瑞達智能電子裝備(無錫)有限公司
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簡介:賽瑞達成立于2021年,專注于半導體設備的研發(fā)、生產與銷售。公司位于無錫,致力于提供定制化解決方案。
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賽瑞達致力于成為半導體裝備的主導品牌。
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