上海高傳電子科技有限公司2023-12-05

快速熱處理或快速熱處理(RTP/RTA)是一種半導(dǎo)體制造工藝，它提供了一種快速加熱樣品到高溫的方法，以便在幾分鐘的時間尺度上執(zhí)行短過程。這種快速加熱速率是由測量樣品溫度的高溫計和熱電偶控制的強度燈(例如近紅外光源-鎢鹵燈)實現(xiàn)的。冷卻也需要完全控制，以防止位錯和樣品斷裂。快速熱處理起初是為離子注入退火而開發(fā)的，但已將其應(yīng)用范圍擴大到氧化、硅化物形成、化學(xué)氣相沉積和應(yīng)用，如修改元素、化合物或合金的晶體相以增強性能、晶格界面或應(yīng)力松弛。RTP是一種靈活的技術(shù)，可提供快速加熱和冷卻，加工溫度約為200-1300°C，斜坡速率通常為20-200°C/秒，結(jié)合優(yōu)異的氣體環(huán)境控制，允許在一個加工配方中創(chuàng)建復(fù)雜的多階段工藝。

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