對某些材料,例如鈦和鋯合金,一種侵蝕性的拋光溶液被添加到混合液中以提高變形和滑傷的去除,增強對偏振光的感應(yīng)能力。如果可以,應(yīng) 反向旋轉(zhuǎn)(研磨盤與試樣夾持器轉(zhuǎn)動方向相對),雖然當(dāng)試樣夾持器轉(zhuǎn)速太快時沒法工作,但研磨拋光混合液能更好的吸附在拋光布上。下面給出了軟的金屬和合金通用的制備方法。磨平步驟也可以用砂紙打磨3-4道,具體選擇主要根據(jù)被制備材料。對某些非常難制備的金屬和合金,可以加增加在拋光布1微米金剛石懸浮拋光液的步驟(時間為3分鐘),或者增加一個較短時間的震動拋光以滿足出版發(fā)行圖象質(zhì)量要求。賦耘檢測技術(shù)(上海)有限公司,拋光液對比!廣西拋光液按需定制
拋光是制備試樣的步驟或中間步驟,以得到一個平整無劃痕無變形的鏡面。這樣的表面是觀察真實顯微組織的基礎(chǔ)以便隨后的金相解釋,包括定量定性。拋光技術(shù)不應(yīng)引入外來組織,例如干擾金屬,坑洞,夾雜脫出,彗星拖尾,著色或浮雕(不同相的高度不同或孔和組織高度不同。)初的粗拋光之后,可加上一步,即用1微米金剛石懸浮拋光液在無絨或短絨拋光布或中絨拋光布拋光。在拋光的過程中,可以添加適量潤滑液以預(yù)防過熱或表面變形。中間步驟的拋光應(yīng)充分徹底,這樣才可能減少終拋光時間。手工拋光,通常是在旋轉(zhuǎn)的輪上進行,試樣以與磨盤相反的旋轉(zhuǎn)方向進行相對圓周運動,從而磨削拋光。賦耘的懸浮液就是做到納米級粉碎,讓金相制樣達(dá)到一個好的效果。究了聚丙烯酸銨(NH4PAA)對納米SiO2粉體表面電動特性及其懸浮液穩(wěn)定性的影響.結(jié)果表明,NH4PAA在SiO2表面吸附,提高了顆粒間的排斥勢能,改善了懸浮液的穩(wěn)定性。拋光分分為機械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光,各有各的優(yōu)勢,各有各的用途,選擇合適的就能少走彎路。特殊拋光液經(jīng)營拋光液和拋光劑的區(qū)別是什么?
純錫類似純鉛,很難被制備。由于低熔點金屬熔點低,重結(jié)晶溫度低,所以通常推薦使用冷鑲嵌樹脂鑲嵌,以防熱壓鑲嵌可能的重結(jié)晶。某些這類純金屬或近似純金屬在壓力鑲嵌下會發(fā)生變形。這類金屬的合金硬度相對較高,通常較容易制備。研磨過程的發(fā)熱應(yīng)控制到 。這類金屬的研磨通常都不容易,由于SiC顆粒很容易嵌入基體。許多作者都建議用蜂蠟來涂SiC砂紙表面,實際上這樣并不能解決嵌入的問題。石蠟(蠟燭蠟)能更好的降低嵌入的發(fā)生。嵌入多發(fā)生在較細(xì)的研磨顆粒上。對于這類金屬來說,金剛石懸浮拋光液不是非常有效的研磨劑,氧化鋁懸浮拋光液硬度低,配合相應(yīng)拋光布,效果要有效的多。
彩色腐蝕劑與硅膠拋光的表面反應(yīng)的更好,常常產(chǎn)生豐富的色彩和圖象。但是,試樣的清潔卻不是件容易的事情。對手工制備,應(yīng)用脫脂棉裹住并浸放在清潔劑中。對自動制備系統(tǒng),在停止 -15秒停止加研磨介質(zhì)。在 10秒,用自來水沖洗拋光布表面,隨后的清潔就簡單了。如果允許蒸發(fā),無定形硅將結(jié)晶。硅晶可能滑傷試樣,應(yīng)想法避免。當(dāng)打開瓶子時,應(yīng)把瓶口周圍的所有晶體顆粒 干凈。 安全的方法是使用前過濾懸浮液。添加劑應(yīng)將晶體化減到 小,如賦耘硅膠拋光液配合對應(yīng)金相拋光布效果就比較好。金剛石懸浮拋光液和金剛石噴霧拋光劑有什么差別?
純銻,鉍,鎘,鉛,錫,和鋅是非常軟的難制備的金屬。純銻相當(dāng)脆,但含銻的合金很常見。鉍是一種軟的金屬,制備不是十分困難。然而對含殘余鉍顆粒的快削鋼,制備就很困難。鎘和鋅,都是六方密排晶格結(jié)構(gòu),如果切割或研磨太重,則傾向于生成機械孿晶。鋅比鉛或錫要硬,趨于易碎。鋅被的用于板材防蝕電鍍保護涂層(鍍鋅鋼),是經(jīng)常要面對的問題。純鋅制備非常困難。鉛是一種非常軟的易延展的金屬,純鉛試樣非常難制備。然而,鉛合金制備相對較容易。錫在室溫下是體心立方晶格結(jié)構(gòu)的同素異形體,軟易延展的金屬,不容易生成機械孿晶。為了獲得的結(jié)果,緊隨其后增加一個在阻尼拋光布上使用硅膠的震動拋光,時間可以到1-2小時。對鎘和鋅和斜方六面體鉍,這樣可以提高偏振光的敏感度。用1um氧化鋁拋光要比金剛石拋光更能除去SiC顆粒。拋光液廠家批發(fā),工廠直銷!特殊拋光液經(jīng)營
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硅是一種相當(dāng)硬的脆的材料,不容易用大顆粒的SiC研磨。因為SiC砂紙粘有堅硬的磨削顆粒,當(dāng)它們接觸時會在硅片的邊緣造成損傷。會在硅片的邊緣產(chǎn)生拉應(yīng)力,這將導(dǎo)致較深的破壞裂紋。盡量接近切割目標(biāo)區(qū)切割,但也不能太接近目標(biāo)區(qū)切割,精細(xì)研磨仍然是必不可少的。因此硅的制備被劃分成兩種截然不同的方法,第一種是傳統(tǒng)的金相方法,第二種用特殊的夾具和研磨顆粒制備沒有封裝的硅片。對環(huán)氧樹脂封裝的硅的標(biāo)準(zhǔn)金相制備方法,很類似一般的金相制備方法,但不同的是需要使用非常細(xì)小的SiC砂紙。當(dāng)制備硅設(shè)備以檢查金屬化和薄膜電路時,制備技術(shù)應(yīng)與前面講的一樣。需要再次重申的是,終拋光劑應(yīng)根據(jù)要檢查的目的選擇。例如,鋁電路與硅膠的化學(xué)機械拋光反應(yīng)良好,但鋁電路周圍的鈦-鎢與硅膠的化學(xué)機械拋光反應(yīng)就較差。因此,硅膠導(dǎo)致難熔金屬出現(xiàn)浮雕從而影響拋光的質(zhì)量。如果出現(xiàn)倒圓,那將使界面分析變得非常困難。為了減少這些影響,作為替代可以用特別細(xì)的金剛石懸浮液配合賦耘精拋光金相拋光布進行終拋光。廣西拋光液按需定制
微電子材料所指的材料范圍很廣,這是因為微電子設(shè)備很復(fù)雜,包含大量單個組件。例如,微處理器的失效分析可能會要求金相工作者正好從多層鍍層(例如氧化物、聚合物、易延展的金屬如銅或鋁、難熔金屬如鎢或鈦-鎢)的硅片的橫截面切割。另外,包裝材料也可能含有機械性能各異的材料如I氧化鋁或焊料。這些焊料有可能含有高達(dá)97%的鉛。可以想象將這么多性能各異的材料整合到一個單一的設(shè)備里,并開發(fā)出一個適用于所有材料的制備程序的可能性就不存在,所以我們必須將注意力集中在幾種材料上,去開發(fā)我們所要關(guān)注材料的試樣制備程序。硅對硅膠的化學(xué)機械拋光反應(yīng)良好,但與氧化鋁的反應(yīng)較差。氧化鋁懸浮液可以用于終的拋光,這就又返回到以...