位孔收集盤與底座中的定位銷對齊。注意:對于Mini和Midi框架,將單個清潔托盤放置在底座的**。對于多印跡如圖所示,在框架上放置兩個收集托盤。在MultiBlot框架中運行單點印跡時,將空白的卡放在空的孔中,然后將孔下方的收集盤上有污點。4.將污漬固定框架放回底座上的位置。5.按照《通用規(guī)程》第6步和第7步中的指示,應(yīng)用一抗并進(jìn)行孵育。6.孵育10分鐘后,打開真空并等待一分鐘,以確保所有螞蟻都具有被收集。注意:當(dāng)同時處理兩個框架時,請先對一側(cè)進(jìn)行吸塵,然后再對另一側(cè)進(jìn)行吸塵。這確保在每個框架上具有完全的真空力,并改善體積回收率。7.關(guān)閉真空并卸下框架。卸下抗體收集盤。8.將抗體轉(zhuǎn)移到合適的容器中進(jìn)行存儲或分析。9.將印跡保持架放回原位,并繼續(xù)執(zhí)行通用規(guī)程的步驟9。 性能證明圖1. B-管蛋上海益啟生物的微流控細(xì)胞芯片分析儀公司電話。崇明區(qū)Merck超濾杯Merck儀器代理價
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膜Immobilon-EPVDF,0.45μm,7cmx8.4cm薄片IEVH0785050Imobilong-EPVDF,0.45μm,8.5cmx10m卷IEVHB5R1個Immbilon@-EPVDF,0.45μm,26.5cmx1.875m卷IEVH000051個Imobllon-EPVDF,0.45um,印跡三明治,7cmx8.4cmIESN0785220Imbilon9-EPVDf,0.45um,BottingSandwich,8.5厘米x13.5厘米IESN081321個Immoblon-PPVDF,0.45μm,7厘米x8.4毫米片材IPVH0785050Immobilon0-pPVDF,0.45μm,8.5厘米x13.5厘米片材IPVH0813010Imobln-pPVDF
陽光直射的地方。 細(xì)胞培養(yǎng)使用CellASICOONIX2微流體系統(tǒng)進(jìn)行細(xì)胞培養(yǎng)1.從孔中吸出溶液以用于灌注(孔1-5)。向這些孔中添加350μL培養(yǎng)基。確保未使用溶液入口孔中充滿了緩沖液。2.清空6號和8號孔,以確保在更換過程中正確交換溶液灌注。3.按照以下說明將微流體板密封到0NIX2歧管上CellASICOONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南。4打開CellASICOONIX2軟件,選擇“新建”之一實驗選項,然后在下拉列表中找到B04A板。單擊協(xié)議編輯器選項卡,然后輸入所需的步驟,然后情況。對于1-5井,建議的壓力為6.9-13.8kPa(1-2psi)可提供足夠的營養(yǎng),并且營養(yǎng)含量極低壓力。有關(guān)創(chuàng)建協(xié)議的信息,請參閱CellASICB《ONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南》。5.為了監(jiān)測細(xì)胞生長,將質(zhì)量有保障的超濾杯在哪里買您知道嗎?
關(guān)閉真空。同樣,溶液將被吸收到印跡架中,并且表面可能看起來干燥。重要提示:孵育10分鐘后,再抽真空。11.向下壓框架并施加真空。等待5至8秒鐘,直到框架完全空了。真空運行連續(xù)添加30 mL洗滌緩沖液(對于MultiBlot為15 mL)。重復(fù)洗滌步驟3次(共3次)4次洗滌)。12.關(guān)閉真空,然后從框架上取下吸墨架。從污點固定器中取出污點,并與適當(dāng)?shù)臋z測試劑。如果使用了MultiBlot孔空白,則卸下并清洗。 擴(kuò)展一級抗體孵育:一小時至過夜1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5。2.加入2.5 mL(對于MultiBlot),5 mL(對于Mini blot)或10 mL(對于Midi blot)1X一抗(濃縮液)通常在標(biāo)準(zhǔn)免疫檢測過程中使用)。3.用蓋子蓋住吸墨紙固定架。如果需要的話,將其從底座益啟生物公司帶您了解Merck儀器。奉賢區(qū)MerckAmicon攪拌式過濾器Merck儀器哪家優(yōu)惠
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中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫,建議冷藏。雖然表面上的污點支架可能看起來部分干燥,印跡不會變干,因為溶液包含在框架中。注意:如果長時間處理多個印跡,則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間??蛇x:如果要回收一抗,請先將抗體回收盤放入底座,然后再繼續(xù)執(zhí)行步驟4。4.延長孵育時間后,將框架放回底座上,卸下蓋子,然后按照步驟8進(jìn)行操作。通用議定書第12條。注意:SNAP i.d不需要延長二抗的孵育時間。 2.0系統(tǒng)。建議使用5倍濃度的二抗,持續(xù)10分鐘??贵w回收1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5,但將真空時間增加到2分鐘,以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架,并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座,確保抗體上的定崇明區(qū)Merck超濾杯Merck儀器代理價