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Merck儀器基本參數(shù)
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中移出并在恒定的溫度下孵育顫抖。如果需要過度保溫,建議冷藏。雖然表面上的污點支架可能看起來部分干燥,印跡不會變干,因為溶液包含在框架中。注意:如果長時間處理多個印跡,則可以堆疊印跡固定框架減少工作空間。可選:如果要回收一抗,請先將抗體回收盤放入底座,然后再繼續(xù)執(zhí)行步驟4。4.延長孵育時間后,將框架放回底座上,卸下蓋子,然后按照步驟8進(jìn)行操作。通用議定書第12條。注意:SNAP i.d不需要延長二抗的孵育時間。 2.0系統(tǒng)。建議使用5倍濃度的二抗,持續(xù)10分鐘。抗體回收1.執(zhí)行《通用議定書》的步驟1至5,但將真空時間增加到2分鐘,以確保所有的封閉溶液都已從框架的凹槽和通道中移除。2.從底座上取下印跡固定框架,并用一根刷子擦拭框架底部的所有殘留液體。紙巾。3.將抗體收集盤放入底座,確??贵w上的定上海益啟生物的電阻儀詢價公司電話。金山區(qū)Merck儀器銷售

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陽光直射的地方。 細(xì)胞培養(yǎng)使用CellASICOONIX2微流體系統(tǒng)進(jìn)行細(xì)胞培養(yǎng)1.從孔中吸出溶液以用于灌注(孔1-5)。向這些孔中添加350μL培養(yǎng)基。確保未使用溶液入口孔中充滿了緩沖液。2.清空6號和8號孔,以確保在更換過程中正確交換溶液灌注。3.按照以下說明將微流體板密封到0NIX2歧管上CellASICOONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南。4打開CellASICOONIX2軟件,選擇“新建”之一實驗選項,然后在下拉列表中找到B04A板。單擊協(xié)議編輯器選項卡,然后輸入所需的步驟,然后情況。對于1-5井,建議的壓力為6.9-13.8kPa(1-2psi)可提供足夠的營養(yǎng),并且營養(yǎng)含量極低壓力。有關(guān)創(chuàng)建協(xié)議的信息,請參閱CellASICB《ONIX2微流體系統(tǒng)用戶指南》。5.為了監(jiān)測細(xì)胞生長,將

PO緩沖液WBAVDP零零15零零毫升BLOT-QuickBlockerTM試劑WB57-175GM175克;Probumin@牛血清白蛋白8204731零零克5%堿溶性酪蛋白225毫升免疫組織化學(xué)(IHC)程序的組件SNAPi.d.@2.0免疫組織化學(xué)框架SNAP2FRIHC1個SNAPi.d.92.0IHC幻燈片固定器SNAP2SH2個配件過濾鉗,鈍端,不銹鋼XX62零零零零6P31L真空過濾瓶XX10047051個SNAPi.d.@2.0墨粉輥SNAP2RL1個高輸出泵,115伏,60赫茲WP621156零1個高輸出泵,100伏,50/60HzWP62100601個高輸出泵,220伏,50赫茲WP6222零5零1個真空管,內(nèi)徑6.4毫米x3m(內(nèi)徑4/4英寸x10英尺)MS質(zhì)量有保障的超濾杯在哪里買您知道嗎?

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位孔收集盤與底座中的定位銷對齊。注意:對于Mini和Midi框架,將單個清潔托盤放置在底座的**。對于多印跡如圖所示,在框架上放置兩個收集托盤。在MultiBlot框架中運(yùn)行單點印跡時,將空白的卡放在空的孔中,然后將孔下方的收集盤上有污點。4.將污漬固定框架放回底座上的位置。5.按照《通用規(guī)程》第6步和第7步中的指示,應(yīng)用一抗并進(jìn)行孵育。6.孵育10分鐘后,打開真空并等待一分鐘,以確保所有螞蟻都具有被收集。注意:當(dāng)同時處理兩個框架時,請先對一側(cè)進(jìn)行吸塵,然后再對另一側(cè)進(jìn)行吸塵。這確保在每個框架上具有完全的真空力,并改善體積回收率。7.關(guān)閉真空并卸下框架。卸下抗體收集盤。8.將抗體轉(zhuǎn)移到合適的容器中進(jìn)行存儲或分析。9.將印跡保持架放回原位,并繼續(xù)執(zhí)行通用規(guī)程的步驟9。 性能證明圖1. B-管蛋上海益啟生物WB實驗加速器訂購方便。上海Merck微流控細(xì)胞芯片分析儀Merck儀器聯(lián)系人

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預(yù)先裝有特定于印版的默認(rèn)設(shè)置。這些設(shè)置順序可以編輯如果需要圖8.協(xié)議編輯器模式允許創(chuàng)建和編輯實驗協(xié)議。協(xié)議由一系列環(huán)境組成控制和/或每個融合步驟??梢愿鶕?jù)需要添加和更改步驟。準(zhǔn)備好協(xié)議后,可以使用“運(yùn)行”選項卡來執(zhí)行它。在下面概述的培養(yǎng)方案示例中,通過將壓力(27.6kPa[4ps]持續(xù)15秒)固定到孔組中,將ells從8孔加載6和8通過以345kPa(5psi)的流速流動4和5孔5分鐘,將未捕獲的細(xì)胞從腔室中沖洗掉。接下來的孔被灌注從孔1提取30分鐘的基線洗滌液或生長液。將Cls從孔2暴露于誘導(dǎo)劑1小時,然后將誘導(dǎo)劑用H2O沖洗掉。從1孔中洗滌或生長溶液30分鐘。在第3孔中對第二個誘導(dǎo)劑重復(fù)上述??兩個步驟。CAX2-MXT20歧管,使用setpaintof37吧。 規(guī)格產(chǎn)品訂購信息,續(xù)培金山區(qū)Merck儀器銷售

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