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    并控制磁轉子12和噴頭11每間隔20s旋轉10s，也就是說，控制磁轉子旋轉10s，控制磁轉子停止旋轉后，控制噴頭噴涂拋光液10s，停止噴涂拋光液10s后，控制磁轉子旋轉10s，以此類推。本發(fā)明實施例中，控制部件在脈沖工作模式下，實現(xiàn)減薄和拋光兩種工藝交替作用，使得減薄和拋光一體化完成，整個過程穩(wěn)定，速度快，控制性好，重復度高，無粉塵污染，襯底減薄終厚度達到20μm，拋光面ra＜2nm。還需要說明的是，本發(fā)明實施例中，在減薄的過程中，可以不斷更換磁轉子12，如磁轉子12工作1小時后，將磁轉子12更換為新的磁轉子，以使磁轉子與待加工表面貼合緊密，避免了傳統(tǒng)減薄工藝中由于轉子形變誤差造成的加工精度失真。此外，本發(fā)明實施例中，在完成拋光和減薄后，可以采用直鏈烷基苯磺酸鹽溶劑對待加工部件20進行清洗，用di水沖洗干凈，40℃的氮氣吹干。之后，將清洗后的待加工部件20和托盤10侵入60℃的nmp(n甲基吡咯烷酮)30min，使得待加工部件20和托盤10自動分離，取出待加工部件20后清洗干凈即可。本發(fā)明實施例還提供了一種拋光減薄方法，如圖5所示，包括：s101：將待加工部件固定在托盤上，待加工部件包括inp基晶圓；可選地?；葜莅雽w減薄用清洗劑溶劑哪家減薄用清洗劑的的性價比好？

    經減薄處理后的玻璃可再次進入所述沖洗區(qū)2以經歷減薄后清潔并且通過所述轉換區(qū)1被卸載到外部；所述玻璃減薄設備還設置有制動組件，通過所述制動組件實現(xiàn)所述玻璃加工治具4從所述轉換區(qū)1經所述沖洗區(qū)2向所述蝕刻區(qū)3的減薄前移動，以及從所述蝕刻區(qū)3經所述沖洗區(qū)2向所述轉換區(qū)1的減薄后移動。在本實施例中，圖1內并排設置有2個所述玻璃減薄設備，所述沖洗區(qū)2包括沖洗區(qū)2、第二沖洗區(qū)2和第三沖洗區(qū)2，所述第二沖洗區(qū)2設置于所述沖洗區(qū)2和所述第三沖洗區(qū)2之間，所述沖洗區(qū)2設置于所述第二沖洗區(qū)2和所述轉換區(qū)1之間，所述第三沖洗區(qū)2設置于所述第二沖洗區(qū)2和所述蝕刻區(qū)3之間。所述轉換區(qū)1可升降的折疊式結構，從而便于所述玻璃加工治具4在所述轉換區(qū)1的放置或卸下。較佳的，所述轉換區(qū)1還設置有裝卸臂，通過所述裝卸臂可實現(xiàn)對所述玻璃加工治具4的上下料，以及單片玻璃的拿取檢測。實施例二如圖2所示，圖2為所述蝕刻區(qū)的結構示意圖；所述蝕刻區(qū)3包括腔室31、主厚度測量儀32、噴淋組件33和控制器；所述噴淋組件33在所述腔室31中對設置于所述玻璃加工治具4上的玻璃施加減薄處理，所述主厚度測量儀32實時測量在所述腔室31內經歷減薄處理的玻璃厚度。

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    圖2為所述蝕刻區(qū)的結構示意圖；圖3為所述玻璃加工治具的種結構正視圖；圖4為所述玻璃加工治具的第二種結構正視圖；圖5為圖3中的局部放大圖；圖6為所述玻璃加工治具的結構俯視圖；圖7為所述底支撐件的結構正視圖；圖8為所述底支撐件的結構側視圖。圖中數(shù)字表示：1-轉換區(qū)；2-沖洗區(qū)；3-蝕刻區(qū)；4-玻璃加工治具；31-腔室；32-主厚度測量儀；33-噴淋組件；41-底座；42-支撐架；43-底支撐件；44-側支撐件；421-豎直平板；422-側板；423-固定板；424-水平槽；425-豎直槽；426-固定槽；427-固定卡塊；428-定位槽；429-定位孔；431-支撐條；432-第二支撐條；433-連接部；434-接觸部；435-磁性件；436-第二磁性件；437-限位孔；438-限位塊；439-第二限位塊。具體實施方式以下結合附圖，對本發(fā)明上述的和另外的技術特征和優(yōu)點作更詳細的說明。實施例一如圖1所示，圖1為所述玻璃減薄設備的結構視圖；本發(fā)明中所述玻璃減薄設備包括轉換區(qū)1、沖洗區(qū)2和蝕刻區(qū)3，所述沖洗區(qū)2設置于所述轉換區(qū)1和所述蝕刻區(qū)3之間，豎直容納在玻璃加工治具4中的多個玻璃通過所述轉換區(qū)1被加載到所述沖洗區(qū)2中，在所述沖洗區(qū)2中進行減薄前清潔并且在所述蝕刻區(qū)3中經歷減薄處理?；葜莅雽w減薄用清洗劑溶劑