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企業(yè)商機(jī)
減薄用清洗劑基本參數(shù)
  • 品牌
  • 博洋化學(xué)
  • 純度級別
  • 超純/高純
  • 類別
  • 無機(jī)堿
  • 產(chǎn)品性狀
  • 液態(tài)
減薄用清洗劑企業(yè)商機(jī)

    從而在玻璃側(cè)部提供支撐效果,通過所述底支撐件43和所述側(cè)支撐件44實(shí)現(xiàn)玻璃在所述玻璃加工治具4上的支撐穩(wěn)定效果。較佳的,所述底支撐件43和所述側(cè)支撐件44可均采用ptfe材質(zhì)。較佳的,所述側(cè)支撐件44設(shè)置為叉狀型結(jié)構(gòu),即所述側(cè)支撐件44包括兩叉腳,所述玻璃側(cè)邊邊緣設(shè)置于兩所述叉腳間,兩所述叉腳在一端連接,兩所述叉腳間距離從連接端向非連接端的方向逐漸增大,兩所述叉腳間的大距離大于玻璃的厚度,限制玻璃兩對應(yīng)側(cè)部邊緣的兩所述側(cè)支撐件44之間的水平距離大于玻璃兩側(cè)部邊緣之間的水平距離,即當(dāng)玻璃通過兩側(cè)的所述側(cè)支撐件44進(jìn)行支撐限制時,玻璃的兩側(cè)部邊緣在兩所述叉腳間空間內(nèi)均具有一定的調(diào)整間隙,從而在所述玻璃加工治具4在所述腔室31內(nèi)往復(fù)運(yùn)動,玻璃的兩側(cè)部邊緣相較于所述側(cè)支撐件44進(jìn)行一定的位置移動,從而避免所述側(cè)支撐件44長期于玻璃的同一位置接觸緊貼。所述側(cè)支撐件44的結(jié)構(gòu)設(shè)置,使所述玻璃加工治具4在所述腔室31內(nèi)沿直線往復(fù)運(yùn)動的過程中,所述側(cè)支撐件44與玻璃之間的接觸點(diǎn)發(fā)生變化,從而避免所述側(cè)支撐件44與玻璃之間的接觸點(diǎn)因所述側(cè)支撐件44的長期接觸造成接觸點(diǎn)無法被噴淋液噴淋,若接觸點(diǎn)無法被噴淋,易造成玻璃的減薄缺陷。質(zhì)量比較好的減薄用清洗劑的公司。紹興玻璃用減薄用清洗劑按需定制

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    用于將空氣噴射到玻璃的將被暴露于激光束的預(yù)定部分并因此瞬時去除噴淋液,從而可得到更準(zhǔn)確地玻璃厚度測量數(shù)據(jù)。一般的,所述目標(biāo)厚度為減薄處理后所需求玻璃的理論厚度值,所述理論厚度值為具有公差的范圍值。所述玻璃減薄生產(chǎn)線還包括輔助厚度測量儀,所述輔助厚度測量儀設(shè)置在所述沖洗區(qū)2中并用于再次測量經(jīng)減薄處理后的玻璃厚度,所述輔助厚度測量儀將測得玻璃厚度發(fā)送到所述控制器。所述輔助厚度測量儀的設(shè)置可降低所述主厚度測量儀32失靈或因所述蝕刻區(qū)3中的阻礙因素不能正確測量玻璃厚度時異常操作而造成的玻璃減薄缺陷,所述阻礙因素可以為噴淋液的噴淋阻礙或所述玻璃加工治具4的振動。所述控制器基于所述輔助厚度測量儀測得的玻璃厚度確定在所述蝕刻區(qū)3中是否正常執(zhí)行減薄處理或者所述主厚度測量儀32是否正確工作。一般的,從所述輔助厚度測量儀接收的玻璃的厚度超出目標(biāo)厚度的公差范圍,則所述控制器確定所述主厚度測量儀32無法正確工作或者在所述蝕刻區(qū)3中沒有正常執(zhí)行減薄處理。在這種情況下,所述控制器發(fā)出警報(bào)來通知管理者,所述主厚度測量儀32失靈或者所述蝕刻區(qū)3中的減薄處理異常。所述主厚度測量儀32失靈或所述者蝕刻區(qū)3中的減薄處理異??赡苁菚簳r的。杭州市面上哪家減薄用清洗劑銷售價格減薄清洗劑,采用獨(dú)特工藝,輕松去除頑固涂層。

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    所述控制器進(jìn)行第二次減薄厚度確認(rèn)操作;具體的,通過設(shè)置于所述第三沖洗區(qū)2的第二輔助厚度測量儀進(jìn)行厚度檢測,從而實(shí)現(xiàn)所述減薄厚度確認(rèn)操作,當(dāng)所述減薄厚度未達(dá)到目標(biāo)厚度時,所述玻璃加工治具4可再次進(jìn)入所述蝕刻區(qū)3內(nèi)進(jìn)行減薄處理。所述主厚度測量儀32設(shè)置在其中對玻璃施加減薄處理的所述蝕刻區(qū)3中并且實(shí)時測量玻璃厚度,使得玻璃可更準(zhǔn)確地具有目標(biāo)厚度;所述輔助厚度測量儀設(shè)置在所述沖洗區(qū)2中,并且再次測量經(jīng)歷過減薄處理的玻璃的厚度,因此可以檢查設(shè)置在所述蝕刻區(qū)3中的所述主厚度測量儀32是否無法正確工作,并且使減薄玻璃的缺陷率降至;且所述輔助厚度測量儀可提前測量待經(jīng)歷減薄處理的玻璃的厚度,因此可以檢查設(shè)置在蝕刻區(qū)3中的主厚度測量儀32是否無法正確工作;所述第二輔助厚度測量儀設(shè)置在所述第三沖洗區(qū)2,從而在減薄后清洗終完成后,再次進(jìn)行厚度檢測,從而檢測預(yù)從所述玻璃減薄生產(chǎn)線運(yùn)出的玻璃是否符合標(biāo)準(zhǔn),并進(jìn)一步降低減薄玻璃的缺陷率。以上所述為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,對本發(fā)明而言是說明性的,而非限制性的。本專業(yè)技術(shù)人員理解,在本發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對其進(jìn)行許多改變,修改,甚至等效,但都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。

    本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域,更具體地說,涉及一種拋光減薄裝置和拋光減薄方法。背景技術(shù):采用iii-v族化合物制作的半導(dǎo)體器件和超高速數(shù)字/數(shù)?;旌想娐返葢{借其優(yōu)良的頻率特性,已經(jīng)成為通訊、雷達(dá)、制導(dǎo)、空間防御、高速智能化武器及電子對抗等現(xiàn)代化裝備的部件之一。在眾多的iii-v族化合物中,inp(磷化銦)化合物具有獨(dú)特的優(yōu)勢,這主要得益于其優(yōu)良的材料特性,例如,inp和ingaas(銦鎵砷)之間的晶格失配很小,以及電子飽和速率很高等,所以不論是hemt(highelectronmobilitytransistor,高電子遷移率晶體管)結(jié)構(gòu)還是hbt(heterojunctionbipolartransistor,異質(zhì)結(jié)雙極晶體管)結(jié)構(gòu),都具有非常優(yōu)異的高頻、大功率性能。但是,inp材料的物理性能卻很差,非常易碎,很小的碰撞或振動都會導(dǎo)致晶圓碎裂而前功盡棄,因此,inp材料的制造加工面臨著很多工藝上的難題。尤其是在超高頻率、大功率的inp基rfic(射頻集成電路)的制造工藝中,如何在對inp基晶圓進(jìn)行減薄拋光時,減小或避免inp基晶圓的損傷是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題之一。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:有鑒于此,本發(fā)明提供了一種拋光減薄裝置和拋光減薄方法,以減小或避免inp基晶圓的減薄拋光損傷。為實(shí)現(xiàn)上述目的。蘇州高質(zhì)量的減薄用清洗劑的公司。

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