在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，拋光液110的主要成分包括：碳化硅顆粒，顆粒直徑為50nm～200nm，體積比為3％～5％；次氯酸鹽，體積比為30％～40％；氫溴酸，體積比為5％～7％，di水，體積比50～60％。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，如圖3所示，磁轉(zhuǎn)子12包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)120和位于柱狀磁性結(jié)構(gòu)120的底部平面的研磨層121，以通過(guò)研磨層121對(duì)待加工部件20的待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨。當(dāng)然，本發(fā)明并不僅限于此，在其他實(shí)施例中，可以根據(jù)實(shí)際需求選擇合適的磁轉(zhuǎn)子形狀?？蛇x地，研磨層121為金屬氧化物層，進(jìn)一步可選地，金屬氧化物層包括三氧化二鋁層。可選地，研磨層121的厚度為10μm。本發(fā)明實(shí)施例中，如圖4所示，磁轉(zhuǎn)子12沿箭頭所示方向旋轉(zhuǎn)，如沿逆時(shí)針或順時(shí)針?lè)较蛐D(zhuǎn)，并且，磁轉(zhuǎn)子12的長(zhǎng)度近似等于待加工部件20如inp基晶圓的直徑，以對(duì)整個(gè)待加工表面進(jìn)行研磨。本發(fā)明實(shí)施例中，拋光減薄裝置還包括控制部件?？刂撇考c磁轉(zhuǎn)子12和噴頭11相連，用于控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作，以對(duì)待加工表面交替進(jìn)行拋光和減薄。其中，控制部件通過(guò)脈沖方式控制噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12交替工作?？蛇x地，控制部件控制磁轉(zhuǎn)子12的轉(zhuǎn)速為80rpm～200rpm。減薄用清洗劑的使用時(shí)要注意什么？池州中芯國(guó)際用減薄用清洗劑按需定制

    來(lái)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行減薄?？蛇x地，還包括：在所述磁轉(zhuǎn)子運(yùn)行一段時(shí)間后，更換所述磁轉(zhuǎn)子?？蛇x地，將待加工部件固定在托盤(pán)上包括：采用光刻膠將所述待加工部件固定在所述托盤(pán)上。可選地，對(duì)所述待加工部件的待加工表面進(jìn)行拋光和減薄之后，還包括：對(duì)所述待加工部件進(jìn)行清洗；采用特定溶液對(duì)所述光刻膠進(jìn)行腐蝕，以將所述待加工部件與所述托盤(pán)分離。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所提供的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn)：本發(fā)明所提供的拋光減薄裝置和拋光減薄方法，采用托盤(pán)固定待加工部件，采用噴頭向待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來(lái)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行拋光，采用磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)對(duì)待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨，來(lái)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行減薄，由于減薄過(guò)程中待加工部件如inp基晶圓本身不旋轉(zhuǎn)，因此，可以降低拋光減薄過(guò)程中對(duì)待加工部件如inp基晶圓的擠壓應(yīng)力，降低待加工部件如inp基晶圓的機(jī)械加工損傷。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。揚(yáng)州好用的減薄用清洗劑什么價(jià)格蘇州博洋化學(xué)股份有限公司清洗劑；

    所述控制器控制所述玻璃加工治具4在所述蝕刻區(qū)3內(nèi)作往復(fù)移動(dòng)，所述主厚度測(cè)量?jī)x32測(cè)量玻璃厚度并且將關(guān)于測(cè)得厚度的信息實(shí)時(shí)發(fā)送到所述控制器；當(dāng)測(cè)得玻璃厚度達(dá)到預(yù)設(shè)目標(biāo)厚度時(shí)，所述控制器停止在所述蝕刻區(qū)3中噴射噴淋液的減薄處理，并且控制所述玻璃加工治具4向所述沖洗區(qū)2移動(dòng)。一般的，在所述腔室31內(nèi)，減薄處理的具體工藝參數(shù)為：所述玻璃加工治具4的往復(fù)運(yùn)動(dòng)中單程單向時(shí)間設(shè)置為～4s，來(lái)回往復(fù)一次時(shí)間設(shè)置為3s～8s，往復(fù)移動(dòng)幅度設(shè)置約為180mm左右；所述噴淋系統(tǒng)控制的噴淋液流量設(shè)置為1500lpm～2400lpm，在所述腔室31內(nèi)的酸蝕溫度一般設(shè)置為20℃～40℃；在上述參數(shù)下，玻璃的酸蝕速率一般在μm/min～μm/min，可有效實(shí)現(xiàn)對(duì)玻璃的整體減薄處理。s2，完成減薄處理的所述玻璃加工治具4在所述沖洗區(qū)2內(nèi)經(jīng)減薄后初清洗后待機(jī)，所述控制器進(jìn)行次減薄厚度確認(rèn)操作；具體的，通過(guò)設(shè)置于所述沖洗區(qū)2內(nèi)的所述輔助厚度測(cè)量?jī)x，進(jìn)行檢測(cè)厚度比較，從而實(shí)現(xiàn)所述減薄厚度確認(rèn)操作，當(dāng)所述減薄厚度未達(dá)到目標(biāo)厚度時(shí)，所述控制器可控制所述玻璃加工治具4再次回撤至所述腔室31內(nèi)進(jìn)行再次減薄處理。s3，所述玻璃加工治具4移動(dòng)至所述第三沖洗區(qū)2進(jìn)行減薄后終清洗。

    20052005年，海日工業(yè)清洗劑產(chǎn)品通過(guò)了瑞士通用公證SGS測(cè)試和認(rèn)證...20042004年，經(jīng)機(jī)構(gòu)檢測(cè)，海日工業(yè)清洗劑產(chǎn)品通過(guò)了ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證。20032003年4月，海日環(huán)保工業(yè)清洗劑通過(guò)了國(guó)際環(huán)境管理體系ISO14001:1996認(rèn)證。20122012年，廣州海日工業(yè)清洗劑獲得廣東省企業(yè)稱(chēng)號(hào)20092009年，廣州海日清洗技術(shù)獲得中國(guó)工業(yè)清洗劑協(xié)會(huì)（ICAC）資質(zhì)榮譽(yù)證書(shū)...20082008年，廣州海日清洗技術(shù)有限公司正式加入工業(yè)清洗協(xié)會(huì)（ICAC）加快全國(guó)工業(yè)清洗標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程20062006年，廣州海日清洗技術(shù)有限公司依靠自主創(chuàng)新環(huán)保高效清洗劑榮獲廣東省稱(chēng)號(hào)...20012001年6月，在引進(jìn)國(guó)外先進(jìn)技術(shù)后，廣州市海日清洗技術(shù)有限公司注冊(cè)正式成立！20122012年12月，獲得的全國(guó)工業(yè)清洗劑產(chǎn)品生產(chǎn)許可證，有效期到2015年12月29日！蘇州質(zhì)量好的減薄用清洗劑的公司。

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    本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種拋光減薄裝置，包括：托盤(pán)，用于固定待加工部件，所述待加工部件包括inp基晶圓；噴頭，用于向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，以對(duì)所述待加工表面進(jìn)行拋光；磁轉(zhuǎn)子，放置在所述待加工部件的待加工表面上，用于通過(guò)旋轉(zhuǎn)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨，對(duì)所述待加工表面進(jìn)行減薄?？蛇x地，還包括控制部件；所述控制部件與所述磁轉(zhuǎn)子和所述噴頭相連，用于控制所述噴頭和所述磁轉(zhuǎn)子交替工作，以對(duì)所述待加工表面交替進(jìn)行拋光和減薄?？蛇x地，所述磁轉(zhuǎn)子包括截面為半圓形的柱狀磁性結(jié)構(gòu)和位于所述磁性結(jié)構(gòu)底部的研磨層，以通過(guò)所述研磨層對(duì)所述待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨?？蛇x地，所述研磨層為金屬氧化物層，所述金屬氧化物層包括三氧化二鋁層?？蛇x地，還包括：熱板，設(shè)置于所述托盤(pán)底部，用于對(duì)所述托盤(pán)進(jìn)行加熱，以使所述待加工部件與所述托盤(pán)鍵合固定?？蛇x地，所述待加工部件與所述托盤(pán)通過(guò)光刻膠鍵合固定。一種拋光減薄方法，包括：將待加工部件固定在托盤(pán)上，所述待加工部件包括inp基晶圓；通過(guò)噴頭向所述待加工部件的待加工表面噴涂拋光液，來(lái)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行拋光；通過(guò)磁轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)對(duì)所述待加工表面進(jìn)行機(jī)械研磨。池州中芯國(guó)際用減薄用清洗劑按需定制