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    本發(fā)明涉及玻璃減薄技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種玻璃減薄設(shè)備。背景技術(shù)：隨著便攜式電子器件的發(fā)展，手機(jī)、平板等便攜式電子器件越來越纖細(xì)化及薄型化，因此需要制造較薄的玻璃基板。為了制造較薄的玻璃基板，目前的采用的方法是浸泡式減薄法。用浸泡式減薄法減薄玻璃是將玻璃減薄液放入玻璃減薄設(shè)備的反應(yīng)槽中，然后將玻璃放入玻璃減薄液中放置一定時(shí)間，使玻璃減薄液與玻璃反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)玻璃減薄。目前的浸泡式減薄法中，反應(yīng)產(chǎn)物會懸浮于玻璃減薄液中，然后再粘附在玻璃上，造成不良品；并且，這種方法容易造成蝕刻不均，導(dǎo)致進(jìn)行減薄后還需要進(jìn)行拋光處理，提高了制備成本。鑒于上述缺陷，本發(fā)明創(chuàng)作者經(jīng)過長時(shí)間的研究和實(shí)踐終于獲得了本發(fā)明。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：為解決上述技術(shù)缺陷，本發(fā)明采用的技術(shù)方案在于，提供一種玻璃減薄設(shè)備，包括蝕刻區(qū)，用于對豎直容納在玻璃加工治具中的多個(gè)玻璃進(jìn)行減薄處理；沖洗區(qū)，用于所述玻璃加工治具上的玻璃進(jìn)行減薄前清潔和減薄后清潔；轉(zhuǎn)換區(qū)，用于待減薄處理的所述玻璃加工治具加載到所述沖洗區(qū)中，并將減薄處理后的所述玻璃加工治具從所述沖洗區(qū)卸載到外部；制動(dòng)組件。哪家公司減薄用清洗劑產(chǎn)品介紹專業(yè)減薄用清洗劑，讓您的生產(chǎn)更高效，成本更低。

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    LCD清洗劑光學(xué)鏡片清洗劑芯片模塊清洗劑清洗劑的清洗對象，包括各種電子元器件、CCD和CMOS圖像感應(yīng)芯片及模塊、半導(dǎo)體生產(chǎn)裝置零件和腔體、醫(yī)療設(shè)備零部件、LCD/OLED顯示器、光學(xué)件、鏡片、精密加工零部件等。由于HFEs清洗劑與HCFC-141b性能接近，使用氫氟醚清洗劑進(jìn)行替代的一個(gè)好處是可直接使用原有設(shè)備和工藝，無須增加太多的投資，對生產(chǎn)的擾動(dòng)也較小。但目前我國市場上的HFEs清洗劑幾乎均為進(jìn)口，價(jià)格相對較高。目前主要用于高附加值零件的清洗和一些特殊要求的清洗場合?？蓮囊韵聝蓚€(gè)方面著手，提高HFEs清洗劑使用的經(jīng)濟(jì)性。一是通過完善清洗工藝加強(qiáng)對HFEs清洗劑的蒸餾回收和再生，提高重復(fù)利用率；二是利用與其他溶劑的良好相溶性，添加一些價(jià)廉易得、清洗性能強(qiáng)的溶劑進(jìn)行復(fù)配，或與其他一些相對便宜的清洗劑，如碳?xì)淙軇?、醇醚類溶劑等組合實(shí)現(xiàn)清洗操作，這樣既可有效降低HFEs的消耗，減少運(yùn)行成本，也可提高清洗效果。目前我司提供清LCD清洗劑光學(xué)鏡片清洗劑芯片模塊清洗劑型號有以下:ENASOLV2004清洗劑ENASOLV365az精密電子清洗劑ENASOLV氫氟醚系列清洗劑產(chǎn)品具體數(shù)據(jù)資料請聯(lián)系下方人員。減薄用清洗劑，助您實(shí)現(xiàn)精密加工，提升產(chǎn)品品質(zhì)。江蘇顯示面板用減薄用清洗劑溶劑

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    圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種拋光減薄裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種托盤和待加工部件的鍵合固定方式示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種磁轉(zhuǎn)子的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供一種磁轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方式的示意圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種拋光減薄方法的流程示意圖。具體實(shí)施方式以上是本發(fā)明的思想，為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。本發(fā)明實(shí)施例提供了一種拋光減薄裝置，用于對inp基晶圓等部件進(jìn)行拋光減薄，如圖1所示，包括托盤10、噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12，當(dāng)然，本發(fā)明實(shí)施例中的拋光減薄裝置還包括反應(yīng)室13等，托盤10、噴頭11和磁轉(zhuǎn)子12等在反應(yīng)室13內(nèi)進(jìn)行拋光和減薄反應(yīng)。其中，托盤10，可選為石英托盤，用于固定待加工部件20，待加工部件20包括inp基晶圓。噴頭11用于向待加工部件20的待加工表面噴涂拋光液110，以對待加工表面進(jìn)行拋光。南京清洗效果好的減薄用清洗劑按需定制