感光、顯影感光（爆光）是將菲林放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面，主要的目的是通過爆光讓菲林上的圖案在產(chǎn)品上形成，感光（爆光）過程中要特別注意夾具一定要放好，菲林不能歪斜，否則產(chǎn)品圖案就會出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象，從而產(chǎn)生不良品，而菲林也要定期檢查，不能出現(xiàn)折疊現(xiàn)象,否則也會出現(xiàn)不良品。感光（爆光）完成后就要進行下一步工作：顯影；顯影的目的是通過顯影藥水將未爆光的地方?jīng)_走，經(jīng)過爆光的地方固化，形成蝕刻圖案，經(jīng)過顯影后質(zhì)檢員對產(chǎn)品進行檢查，把顯影不到的地方或圖案不良的產(chǎn)品挑選出來，良品則進入下一道工序：封油。BOE蝕刻液的價格哪家比較優(yōu)惠？江西哪些新型BOE蝕刻液溶劑

微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設計了不同的循環(huán)再生設備。無論是過硫酸鈉/硫酸體系還是雙氧水/硫酸體系,我司設備均可把飽和微蝕液處理再生后，返回客戶生產(chǎn)線繼續(xù)使用，回用時，不改變客戶原生產(chǎn)工藝參數(shù)；在運行我們公司設備時可不停機亦可更換藥水，從而達到穩(wěn)定生產(chǎn)的目的。這兩種體系再生設備設備不僅可以節(jié)省約30%的物料成本，還降低廢水處理成本，且可以電解出金屬銅。江西哪些新型BOE蝕刻液溶劑如何挑選一款適合公司的BOE蝕刻液？

Cu2+的蝕刻作用由次要地位而躍居主要地位，此時蝕刻速率慢，即應考慮蝕刻液的更新。一般工廠很少分析和測定蝕刻液中的含銅量，多以蝕刻時間和蝕刻質(zhì)量來確定蝕刻液的再生與更新。蝕刻銅箔的同時，還伴有一些副反應，就是CuCl2和FeCl3的水解反應：FeCl3＋3H2O→Fe(OH)3↓＋3HClCuCl2＋2H2O→Cu(OH)2↓＋2HCl生成的氫氧化物很不穩(wěn)定，受熱后易分解：2Fe(OH)3→Fe2O3↓＋3H2OCu(OH)2→CuO↓＋H2O結(jié)果生成了紅色的氧化鐵和黑色的氧化銅微粒，懸浮于蝕刻液中，對抗蝕層有一定的破壞作用。2.影響蝕刻速率的因素Fe3+的濃度和蝕刻液的溫度蝕刻液溫度越高，蝕刻速率越快，溫度的選擇應以不損壞抗蝕層為原則。Fe3+的濃度對蝕刻速率有很大的影響。蝕刻液中Fe3+濃度逐漸增加，對銅的蝕刻速率相應加快。當所含F(xiàn)e3+超過某一濃度時，由于溶液粘度增加，蝕刻速率反而有所降低。

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哪家的BOE蝕刻液蝕刻效果好？江西哪些新型BOE蝕刻液溶劑

Buffered Oxide Etch，BOE就是buffer oxide etch， B.O.E 緩沖蝕刻液 BOE是HF與NH4F依不同比例混合而成。6:1 BOE蝕刻即表示49%HF水溶液：40%NH4F水溶液=1：6（體積比）的成分混合而成。刻蝕速度約10nm每秒。HF為主要的蝕刻液，NH4F則作為緩沖劑使用。利用NH4F固定〔H+〕的濃度，使之保持一定的蝕刻率。HF會浸蝕玻璃及任何含硅石的物質(zhì)，對皮膚有強烈的腐蝕性，不小心被濺到，應用大量水沖洗。

BOE（Buffered Oxide Etch），緩沖氧化物刻蝕液。由氫氟酸（49%）與水或氟化銨與水混合而成。 江西哪些新型BOE蝕刻液溶劑