產(chǎn)品名稱:LCD清洗劑光學(xué)鏡片清洗劑芯片模塊清洗劑產(chǎn)品鏈接:/zhizhangtianjiaji-qingxiji/手機(jī)版鏈接:***,包括各種電子元器件、CCD和CMOS圖像感應(yīng)芯片及模塊、半導(dǎo)體生產(chǎn)裝置零件和腔體、醫(yī)療設(shè)備零部件、LCD/OLED顯示器、光學(xué)件、鏡片、精密加工零部件等。由于HFEs清洗劑與HCFC-141b性能接近,使用氫氟醚清洗劑進(jìn)行替代的一個(gè)好處是可直接使用原有設(shè)備和工藝,無(wú)須增加太多的投資,對(duì)生產(chǎn)的擾動(dòng)也較小。但目前我國(guó)市場(chǎng)上的HFEs清洗劑幾乎均為進(jìn)口,價(jià)格相對(duì)較高。目前主要用于高附加值零件的清洗和一些特殊要求的清洗場(chǎng)合??蓮囊韵聝蓚€(gè)方面著手,提高HFEs清洗劑使用的經(jīng)濟(jì)性。一是通過(guò)完善清洗工藝加強(qiáng)對(duì)HFEs清洗劑的蒸餾回收和再生,提高重復(fù)利用率;二是利用與其他溶劑的良好相溶性,添加一些價(jià)廉易得、清洗性能強(qiáng)的溶劑進(jìn)行復(fù)配,或與其他一些相對(duì)便宜的清洗劑,如碳?xì)淙軇?、醇醚類溶劑等組合實(shí)現(xiàn)清洗操作,這樣既可有效降低HFEs的消耗,減少運(yùn)行成本,也可**提高清洗效果。目前我司提供清LCD清洗劑光學(xué)鏡片清洗劑芯片模塊清洗劑型號(hào)有以下:ENASOLV2004清洗劑ENASOLV365az精密電子清洗劑ENASOLV氫氟醚系列清洗劑產(chǎn)品具體數(shù)據(jù)資料請(qǐng)聯(lián)系下方人員。如何正確使用減薄用清洗劑。臺(tái)州玻璃用減薄用清洗劑費(fèi)用
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產(chǎn)品說(shuō)明|productdescription全國(guó)服務(wù)熱線:電子清洗劑是采用進(jìn)口高純度質(zhì)量原材料精心組方配制生產(chǎn),特別針對(duì)**電子的清洗劑,具有環(huán)保、安全、無(wú)毒、無(wú)腐蝕等特點(diǎn);該產(chǎn)品通過(guò)國(guó)家環(huán)保和衛(wèi)生部門(mén)檢查、SGS認(rèn)證,符合國(guó)家通行標(biāo)準(zhǔn)。?產(chǎn)品特點(diǎn):1.屬濃縮型產(chǎn)品,低濃度稀釋使用,綜合清洗成本低;2.脫脂、除油效果好,速度快,能滿足生產(chǎn)工藝要求;3.不含酸、氨、游離堿、重金屬,PH值呈中性至弱堿性,對(duì)產(chǎn)品安全無(wú)腐蝕;4.所選用的表面活性劑均為民用--可生化降解,對(duì)環(huán)境安全。?適用范圍:可廣泛應(yīng)用于各種**電子、LED、等精密產(chǎn)品的清洗。?使用方法:1、使用前應(yīng)該根據(jù)清洗對(duì)象的結(jié)構(gòu)與潔凈度的要求,確定合理的清洗方式、工藝流程等;2、操作溫度:常溫-8°C之間進(jìn)行調(diào)整;3、使用比例:5%-20%的比例之間用水稀釋使用;4、時(shí)間:在3-10分鐘(視油污輕重);5、應(yīng)在通風(fēng)良好的場(chǎng)所配戴相應(yīng)該勞保用品下使用。臺(tái)州玻璃用減薄用清洗劑費(fèi)用
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