微電子化學(xué)品***適用于先進(jìn)半導(dǎo)體封裝測試、TFT、FPD平板顯示、LED、晶體硅太陽能、PCB行業(yè)。類別品名英文名等級ELMOSUP溶劑類甲醇Methanol■ 甲苯Toluene■ 無水乙醇Ethanol■■ ■ 異丙醇IPA■■■**Acetone■■■N-甲基吡咯烷酮1-Methyl-2-pyrrolidinone■ ■ ■丙二醇甲醚PGME■ ■ ■丙二醇甲醚醋酸酯PGMEA■ ■ ■酸堿類硫酸Sulfuric Acid■■■鹽酸Hydrochloric Acid■■ 硝酸Nitric Acid■■■氫氟酸Hydrofluoric Acid■■■磷酸Phosphoric Acid■■ 冰乙酸Acetic Acid,Glacial■■■過氧化氫Hydrogen Peroxide■■■氟化銨Ammonium Fluoride■■■氨水Ammonium Hydroxide■■■氫氧化鉀Potassium Hydroxide Liquid■ 氫氧化鈉Sodium Hydroxide Liquid■ 功能化學(xué)品銅蝕刻液Copper Etchant■ 鋁蝕刻液Aluminum Etchants■ BOE蝕刻液Amnonium Fluoride Etchants■■■ITO蝕刻液ITO Etchant■ IGZO蝕刻液IGZO Etchant■ 光刻膠剝離液(有機(jī)) Photoresist Stripper (Solvent)■ 光刻膠剝離液(水系)Photoresist Stripper (Aqueous) ■ 玻璃減薄液Glass Thinning Liquid■ 玻璃清洗液Glass cleaning solution■ 光刻膠顯影液Photoresist Developer■■■玻璃切削液Glass cutting fluid■ 化學(xué)研磨液Chemical grinding fluid■ 如何挑選一款適合自己公司的剝離液?滁州什么剝離液批量定制
根據(jù)對華新光電、日東集團(tuán)的剝離液成分進(jìn)行分析得知,剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA),二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG),其中市場上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大,由以下幾種組分構(gòu)成:(1)、1~20%重量的醇胺或者酰胺,以伯胺和腫胺為主。(2)、10~60%重量的醇;(3)、10~50%重量的水;(4)、5~50%重量的極性有機(jī)溶劑,如;N-甲基吡咯烷酮(NMP),環(huán)丁基砜、二甲基亞砜(DMSO)、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。(5)、0.001~3%重量的金屬抗蝕劑,如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出,剝離液中大部分是有機(jī)溶劑,可以加以回收資源化利用,或者將剝離廢液進(jìn)行脫色凈化處理后再用于生產(chǎn)中,配成剝離液。當(dāng)前國內(nèi)主要產(chǎn)生剝離液的廠家主要分布在天津及深圳一帶,均是高新技術(shù)發(fā)達(dá)區(qū)域,隨著國內(nèi)經(jīng)濟(jì)及城市的發(fā)展,剝離液產(chǎn)廢地點(diǎn)將越來越***,也將引起環(huán)保**的重視及關(guān)注。剝離液主要產(chǎn)廢廠家諸如上海和輝光電有限公司、深圳市聚飛光電股份有限公司、深圳市三利譜光電科技股份有限公司、深圳市聯(lián)建光電服份有限公司、深圳成光興光電技術(shù)股份有限公司、蘇州江化微的蝕刻液剝離液推薦貨源剝離液應(yīng)用于什么樣的場合?
在生產(chǎn)方面,剝離液的純度對于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制,高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜,且對于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求,整體技術(shù)門檻較高。在資金方面,為取得競爭優(yōu)勢,剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金,因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門檻相對較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示,剝離液作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵性濕電子化學(xué)品,在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下,剝離液市場需求攀升。就總體來看,剝離液雖然是一種關(guān)鍵化工原料,但由于需求量較少,因此市場規(guī)模偏小,生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學(xué)品主導(dǎo),新進(jìn)入企業(yè)難以尋求發(fā)展機(jī)遇。
能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定,例如,可以舉出在設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說明的是,浸漬時(shí),可以搖動(dòng)基材,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波??刮g劑的種類沒有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會(huì)社制)等。施加抗蝕劑的基材沒有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒有特別限定。哪家的剝離液配方比較好?
添加劑中含有醇醚化合物、胺化合物、緩蝕劑以及潤濕劑;s3:將步驟s1的剝離液廢液與添加劑混合,重新制備剝離液新液,制備過程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻膠剝離液為純有機(jī)溶劑體系,廢液可通過蒸餾回收80-95%有效物,得出純化液體,而在上述制備方式中,純化液體所含的組分與添加劑所含的組分之間是具有相重復(fù)的,可以認(rèn)為,添加劑是根據(jù)已知的剝離液新液的組分進(jìn)行配制的,添加劑可以是對純化液體與剝離液新液之間的組分的差別而進(jìn)行的添加、補(bǔ)充,使得純化液體和添加劑混合后,能夠具有與剝離液新液相同的組分。那么,可以知道,在預(yù)先知道剝離液新液的組分的基礎(chǔ)上,可以通過預(yù)先配制含有剝離液新液中的某些組分的添加劑,然后在制備回收的剝離液廢液得出純化液體時(shí),可以將添加劑加入純化液體中,再進(jìn)行質(zhì)量分?jǐn)?shù)的調(diào)節(jié)。純化液體是將剝離液廢液進(jìn)行加壓、蒸餾,去除剝離液廢液中的非剝離液新液的組分的物質(zhì),然后得出的純化液體,純化液體中所含的組分物質(zhì),都是剝離液新液所含有的組分物質(zhì)。進(jìn)一步技術(shù)方案中,所述的步驟1中得出的純化液體中含有的酰胺化合物的質(zhì)量分為:45%-60%;含有的醇醚化合物的質(zhì)量分為:35%-50%。質(zhì)量好的做剝離液的公司。南京銅蝕刻液剝離液銷售公司
哪家的剝離液性價(jià)比比較高?滁州什么剝離液批量定制
本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點(diǎn),還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻(xiàn)1),由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒有微細(xì)地粉碎,因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點(diǎn)?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-323776號公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細(xì)的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻(xiàn)1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細(xì)的布線間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。此外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液套件。滁州什么剝離液批量定制
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