本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術(shù)：氮化硅是一種具有很高的化學(xué)穩(wěn)定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導(dǎo)體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導(dǎo)體制程的飛速發(fā)展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節(jié)點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現(xiàn)不均勻的現(xiàn)象，體現(xiàn)于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現(xiàn)氮化硅層的均勻蝕刻。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發(fā)明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發(fā)明涉及上述蝕刻液。BOE蝕刻液的主要成分是什么？江西如何發(fā)展BOE蝕刻液價格

    本實用新型屬于廢液處理領(lǐng)域，尤其涉及一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)。背景技術(shù)：酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液，隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展，產(chǎn)生的廢液量越來越大，發(fā)掘的污染物種類也越來越多，對環(huán)境造成巨大的危害，此類問題也成為社會的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生，我們需要對酸性蝕刻液進行回收循環(huán)利用。目前對于酸性蝕刻廢液的再生利用大多采用化學(xué)或電化學(xué)的方法，但傳統(tǒng)的方法廢液中總銅的含量不斷增大，比重增加，必須排掉一部分廢液或者補加子液和水來控制參數(shù)，這樣污染大，影響環(huán)境，而且還會造成銅和酸的浪費。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型所要解決的技術(shù)問題為如何通過簡單、低成本的技術(shù)實現(xiàn)種酸性蝕刻液電解后廢液的再生利用。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型是這樣實現(xiàn)的，一種酸性蝕刻液電解后液處理系統(tǒng)，包括：電解槽，具有一出液口和出氣口，且內(nèi)置有酸性蝕刻液，用于對所述酸性蝕刻液進行電解提銅，產(chǎn)生氯氣，得到電解后液；再生液調(diào)配缸，具有進液口和循環(huán)出液口，所述進液口通過管道與所述電解槽的出液口連接以接收電解后液；射流器，其進氣口通過導(dǎo)氣管與所述電解槽的出氣口連接以接收所述氯氣。上海無機BOE蝕刻液推薦廠家來蘇州，來博洋，BOE蝕刻液專業(yè)廠商。

    EN10029yEN10029AC).2.aSobrelongitudes:+1/.aSobrecapacidadnominal:+3/ónovalización:semidelaovalizaciónantesydespuésdelllenadodeagua,quedándoselosdepósitosdecomunicacióó)ándeformavisualtodaslassoldadurasdetodoslosdepóón,esimprescindibleunapruebadepresió)ímitesindicadosacontinuación:1.oDesnivelodefectodealineación:soldaduraslongitudinales:1milímetro;soldadurascirculares:2milí.oPuntodeinflexiónlocal:h/l≤1/53.oFaltadeespesordesoldadura:0milí.oSobreespesordesoldaduras:1milímetro≤S≤L/10+2milí.oGrietasofisuras,sopladuraseinclusionesdesembocandoensuperficie:.oMordeduras:profundidadmáxima,0,5milímetros;longitudmáxima,40milíínimadezonasanaparaqueestosdosdefectosseconsiderencomoaisladosesdeseisveceslalongituddeldefectomááprohibidosanearunpuntodefugaounafaltadematerialdeaportaciónconeldepó)Examensoldadurasdeáángulotendránunaalturadegarganta,comomínimode0,7veceselespesordelamáóósitosesometeráaunapruebadepresiónde0。

    除去75重量％的油。在45°C下的簡單加熱、或者在環(huán)境溫度(20°C)下的簡單攪拌或超聲應(yīng)用可以除去所有的沉積油。此外，沒有觀察到油的溶解，而是觀察到上升到液體表面的油的脫離(卷起機理(rollingupmechanism)).與快速導(dǎo)致溶劑飽和的溶解機理相比，該卷起機理更為有利。油溶解試驗的總體過程將硅油(得自CromptonCorporation(Greenwich,USA)的CromptonL9000—1000)引入到100ml待評價組合物中，并測定在環(huán)境溫度下立即溶解的硅油的量(其以所溶解的油相對于該混合物的百分數(shù)表示)。實施例5在使用％的九氟丁基乙基醚和％的甲基四氫呋喃的共沸組合物的情況下，溶解超過17重量％的油。實施例6在使用九氟丁基乙基醚的情況下，多溶解2重量％的油并且觀察到反混合(demixing)。權(quán)利要求組合物，其包含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F9OR的九氟丁基烷基醚，在式C4F9OR中，R具有1～4個碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。2.權(quán)利要求1的組合物，特征在于，所述組合物包含540重量％的甲基四氫呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。3.權(quán)利要求1或2的組合物，特征在于，所述式C4F90R的九氟丁基烷基醚是九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。4.權(quán)利要求13中任一項的組合物，特征在于。哪家的BOE蝕刻液配方比較好？

    soldaduraytécnicasafines)ósitosdelosEstadosmiembrosdelaCEEodepaísestercerosconlosqueexistaunconveniodereciprocidad,lahomologacióndelosprocedimientosdesoldaduraycualificacióndesoldadorespodrárealizarseporunOrganismodecontrololaboratoriodeensayooficialmentereconocidosatalefectoenalgúnEstadodelaCEE,siemprequeofrezcangarantíastécnicas,profesionalesydeindependenciaequivalentesalasexigidasporlalegislaciónespa?índricaconlosfondosserácomomínimode50milímetrosparadepóínimadelapesta?arectaparasersoldadaalaenvolventecilíndricaserácomomíándeunapiezahastaundiámetrodemilíámetrossuperiores,seadmiteunaúóón,laovalizaciónesladiferenciaentreeldiámetromáximoyeldiámetromínimo-enunamismaseccióntransversalmedidoslomáspróximoalcentro-,divididaporeldiáósitovacíoydescansadosobreunasuperficieplana,yesemismodepósitollenoyencomunicaciónconelairelibresobrepasanelvalordel2por100,ónprescrito。歡迎光臨蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。河南如何發(fā)展BOE蝕刻液廠家現(xiàn)貨

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