BRAGG2D——監(jiān)控樣品制備的質(zhì)量樣品制備過(guò)程中的系統(tǒng)誤差，是分析誤差的重要來(lái)源。使用BraggBrentano幾何的2D衍射圖像，將樣品制備問(wèn)題可視化，如粒徑或擇優(yōu)取向。避免就統(tǒng)計(jì)而言沒(méi)有代表性的測(cè)量結(jié)果。運(yùn)營(yíng)成本低不消耗水硅條帶探測(cè)器技術(shù)，無(wú)需使用探測(cè)器氣體近乎無(wú)限的光管使用壽命可重復(fù)使用的樣品支持器低功耗（650W）布魯克與水泥業(yè)密切合作，不斷改進(jìn)其分析解決方案。在D2PHASER方面，我們針對(duì)水泥業(yè)提供了一個(gè)軟件包，其中包括針對(duì)10多種原材料、熟料和不同水泥類(lèi)型制定的、供工廠應(yīng)用的測(cè)量和數(shù)據(jù)評(píng)估方法，可有效控制窯爐以及工廠的礦物學(xué)。與水泥軟件包相結(jié)合的D2PHASER非常適合小規(guī)模運(yùn)營(yíng)。對(duì)于每天需要測(cè)量大量樣品的大型工廠，請(qǐng)參見(jiàn)D8ENDEAVOR。無(wú)論面對(duì)何種應(yīng)用，DIFFRAC.DAVINCI都會(huì)指引用戶選擇較好的儀器配置。廣州微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

石墨化度分析引言石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性?xún)?yōu)異等特點(diǎn)，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。石墨化度碳原子形成密排六方石墨晶體結(jié)構(gòu)的程度,其晶格尺寸愈接近理想石墨的點(diǎn)陣參數(shù),石墨化度就愈高。湖南點(diǎn)陣參數(shù)精確測(cè)量XRD衍射儀哪里好使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像，進(jìn)行1D掃描，來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。

獲得的TRIO光路簡(jiǎn)化了D8ADVANCE的操作，使之適用于多種應(yīng)用和樣品類(lèi)型。為便于用戶使用，該系統(tǒng)提供了自動(dòng)化電動(dòng)切換功能，可在多達(dá)6種不同的光束幾何之間進(jìn)行自動(dòng)切換。系統(tǒng)無(wú)需人工干預(yù)，即可在三個(gè)光路之間切換：用于粉末分析的Bragg-Brentano聚焦幾何用于毛細(xì)管、GID和XRR的平行光束Kα1,2幾何用于外延薄膜的高分辨率平行光束Kα1幾何它非常適合在環(huán)境條件或非環(huán)境條件下對(duì)所有樣品類(lèi)型進(jìn)行分析，其中包括粉末、塊狀材料、纖維、片材和薄膜（非晶、多晶和外延）。

D8ADVANCEECO是市面上環(huán)保的X射線衍射儀，其應(yīng)用范圍、數(shù)據(jù)質(zhì)量、靈活性和可升級(jí)性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齊全的D8ADVANCE版本，適用于所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用。與D8ADVANCE完全兼容，它具有面向未來(lái)的所有靈活性。面對(duì)新應(yīng)用，您隨時(shí)都能對(duì)它輕松完成升級(jí)，從而適應(yīng)未來(lái)實(shí)驗(yàn)室可能出現(xiàn)的任何X射線衍射和散射應(yīng)用需求：相鑒定定量相分析微觀結(jié)構(gòu)分析結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修殘余應(yīng)力織構(gòu)掠入射衍射（GID）X射線反射分析（XRR）小角X射線散射（SAXS）對(duì)分布函數(shù)（PDF）分析定性相分析和定量相分析、結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修、微應(yīng)變和微晶尺寸分析。

對(duì)于需要探索材料極限的工業(yè)金屬樣品，通常需要進(jìn)行殘余應(yīng)力和織構(gòu)測(cè)量。通過(guò)消除樣品表面的拉應(yīng)力或引起壓應(yīng)力，可延長(zhǎng)其功能壽命。這可通過(guò)熱處理或噴丸處理等物理工藝來(lái)完成。構(gòu)成塊狀樣品的微晶的取向，決定了裂紋的生長(zhǎng)方式。而通過(guò)在材料中形成特定的織構(gòu)，可顯著增強(qiáng)其特性。這兩種技術(shù)在優(yōu)化制造法（例如增材制造）領(lǐng)域也占有一席之地。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對(duì)所有類(lèi)型的樣品進(jìn)行測(cè)量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。PATHFINDERPlus光學(xué)器件有一個(gè)確保測(cè)得強(qiáng)度的線性的自動(dòng)吸收器，并可在以下之間切換：電動(dòng)狹縫，分光晶體。蘇州組分檢測(cè)分析

卡口安裝式Eulerian托架可支持多種應(yīng)用，如應(yīng)力、織構(gòu)和外延膜分析，包括在非環(huán)境條件下。廣州微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個(gè)納米到幾個(gè)微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄，薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測(cè)試，X射線的穿透深度一般在幾個(gè)微米到幾十個(gè)微米，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于薄膜的厚度，導(dǎo)致薄膜的信號(hào)會(huì)受到襯底的影響（圖1）。另外，如果衍射簡(jiǎn)單較高，那么X射線只能輻射到部分樣品，無(wú)法利用整個(gè)樣品的體積，衍射信號(hào)弱。薄膜掠入射衍射（GID：GrazingIncidenceX-RayDiffraction）很好的解絕了以上問(wèn)題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角（＜5°）照射到薄膜上，小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度，同時(shí)增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點(diǎn)說(shuō)明：GID需要硬件配置；常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜，不適合單晶外延膜。廣州微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀檢測(cè)