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企業(yè)商機
XRD衍射儀基本參數(shù)
  • 品牌
  • 布魯克
  • 型號
  • D8
XRD衍射儀企業(yè)商機

RuO2薄膜掠入射XRD-GID引言薄膜材料就是厚度介于一個納米到幾個微米之間的單層或者多層材料。由于厚度比較薄,薄膜材通常依附于一定的襯底材料之上。常規(guī)的XRD測試,X射線的穿透深度一般在幾個微米到幾十個微米,這遠遠大于薄膜的厚度,導(dǎo)致薄膜的信號會受到襯底的影響(圖1)。另外,如果衍射簡單較高,那么X射線只能輻射到部分樣品,無法利用整個樣品的體積,衍射信號弱。薄膜掠入射衍射(GID:GrazingIncidenceX-RayDiffraction)很好的解絕了以上問題。所謂掠入射是指使X射線以非常小小的入射角(<5°)照射到薄膜上,小的入射角大大減小了在薄膜中的穿透深度,同時增加衍射顆粒的數(shù)目和x射線在薄膜中的光程。這里有兩點說明:GID需要硬件配置;常規(guī)GID只適合多晶薄膜和非晶薄膜,不適合單晶外延膜??装搴统练e樣品在反射和透射中的高通量篩選。浙江微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀推薦咨詢

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超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點技術(shù)的發(fā)展,薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度,XRR是的測量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是**用戶,都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的:配置儀器時,免工具、免準(zhǔn)直,同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉(SRM1976)的準(zhǔn)直保證。目前,在峰位、強度和分辨率方面,市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。浙江微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀推薦咨詢專為在環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下,對從粉末、非晶和多晶材料到外延多層薄膜等各種材料進行結(jié)構(gòu)表征而設(shè)計。

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X射線粉末衍射(XRPD)技術(shù)是重要的材料表征工具之一。粉末衍射圖中的許多信息,直接源于物相的原子排列。在D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件的支持下,您將能簡單地實施常見的XRPD方法:鑒別晶相和非晶相,并測定樣品純度對多相混合物的晶相和非晶相進行定量分析微觀結(jié)構(gòu)分析(微晶尺寸、微應(yīng)變、無序…)熱處理或加工制造組件產(chǎn)生的大量殘余應(yīng)力織構(gòu)(擇優(yōu)取向)分析指標(biāo)化、從頭晶體結(jié)構(gòu)測定和晶體結(jié)構(gòu)精修,由于具有出色的適應(yīng)能力,使用D8ADVANCE,您就可對所有類型的樣品進行測量:從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。

布魯克獨有的DBO功能為X射線衍射的數(shù)據(jù)質(zhì)量樹立了全新的重要基準(zhǔn)。馬達驅(qū)動發(fā)散狹縫、防散射屏和可變探測器窗口的自動同步功能,可為您提供的數(shù)據(jù)質(zhì)量——尤其是在低2?角度時。除此之外,LYNXEYE全系列探測器均支持DBO:SSD160-2,LYNXEYE-2和LYNXEYEXE-T。LYNXEYEXE-T是LYNXEYE系列探測器的旗艦產(chǎn)品。它是目前市面上的一款可采集0D、1D和2D數(shù)據(jù)的能量色散探測器,適用于所有波長(從Cr到Ag),具有準(zhǔn)確的計數(shù)率和角分辨率,是所有X射線衍射和散射應(yīng)用的理想選擇。更換光學(xué)期間時,無需工具,亦無需對光,因此您可輕松快速地更改配置。

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藥物:從藥物發(fā)現(xiàn)到藥物生產(chǎn),D8D為藥品的整個生命周期提供支持,其中包括結(jié)構(gòu)測定、候選材料鑒別、配方定量和非環(huán)境穩(wěn)定性測試。地質(zhì)學(xué):D8D是地質(zhì)構(gòu)造研究的理想之選。借助μXRD,哪怕是對小的包裹體進行定性相分析和結(jié)構(gòu)測定也不在話下。金屬:在常見的金屬樣品檢測技術(shù)中。殘余奧氏體、殘余應(yīng)力和織構(gòu)檢測不過是其中的一小部分,檢測目的在于確保終產(chǎn)品復(fù)合終用戶的需求。薄膜計量:從微米厚度的涂層到納米厚度的外延膜的樣品都受益于用于評估晶體質(zhì)量、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛的一系列技術(shù)。從微米到納米厚度的涂層或外延膜的樣品都受益,用于評估晶體質(zhì)量、薄膜厚度、成分外延排列和應(yīng)變松弛技術(shù)。浙江進口XRD衍射儀哪里好

X射線反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析。浙江微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀推薦咨詢

當(dāng)石墨(002)衍射峰峰形對稱性很差時,如圖2,樣品中可能含有多種不同石墨化度的組分存在(當(dāng)然,也可能是由于非晶碳或無定形碳的存在。需要對衍射峰進行分峰處理,得到各個子峰的峰位和積分強度值,如圖2所示。分別計算各子峰的石墨化度,再利用各子峰的積分強度為權(quán)重,歸一化樣品的石墨化度。圖2石墨實驗(藍色數(shù)據(jù)點)及分峰擬合圖譜(紅色:擬合圖譜,兩綠色為單峰擬合結(jié)果)石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點,應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展,進一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。浙江微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀推薦咨詢

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材料研究樣品臺緊湊型UMC和緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺能夠精確地移動樣品,因此擴展了D8ADVANCEPlus的樣品處理能力。緊湊型UMC樣品臺可對2Kg的樣品進行電動移動:X軸25mm、Y軸70mm和Z軸52mm,可用于分析大型塊狀樣品或多個小樣品;緊湊型尤拉環(huán)plus樣品臺的Phi旋轉(zhuǎn)角度不受限制,Psi傾斜度在-5°到95°之間,可用于應(yīng)力、織構(gòu)和外延薄膜分析。另外,它還具有真空多用途通孔,可通過小型薄膜樣品架或大型手動X-Y樣品臺,將樣品固定在適當(dāng)位置。二者均可用于溫控樣品臺,進行非環(huán)境分析。另外,它們還可借助DIFFRAC.DAVINCI樣品臺卡口安裝系統(tǒng),輕松更換樣品臺。根據(jù)應(yīng)用需...

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