超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節(jié)點技術(shù)的發(fā)展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術(shù)節(jié)點的a20范圍內(nèi)。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術(shù)。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。支持全新技術(shù)進(jìn)行定制，包括高性能X射線源、定制版光學(xué)器件、定制版樣品臺和多模式探測器。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計算石墨化度G[1]：式中：0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距，nm；0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距，nm。為實際石墨試樣（002）晶面間距，nm。實例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位，需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范，用硅作為內(nèi)標(biāo)物，加入待測石墨樣品中，在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點，應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來鋰電池的快速發(fā)展，進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對電池的性能有很大影響，石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。南京掠入射檢測分析安裝在標(biāo)準(zhǔn)陶瓷X射線管前面，可多達(dá)6種不同的光束幾何之間自動地進(jìn)行電動切換，無需認(rèn)為干預(yù)。

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D8ADVANCEECO可提供高亮度1kW線焦點X射線源，其能耗極低，無需外設(shè)水冷，對實驗室基礎(chǔ)設(shè)施亦無特殊要求。您只需準(zhǔn)備家用壁式插座即可。因此，您將能簡單快捷地完成安裝和定位。D8ADVANCEECO將在分析性能不打折扣的前提下，將擁有成本和立式XRD儀器的生態(tài)足跡降至。插件分析：無需外設(shè)水冷：每年可節(jié)約高達(dá)1.700m3的自來水耗電減少50％左右需單相電源，由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。布魯克提供基于NIST標(biāo)樣剛玉（SRM1976）的準(zhǔn)直保證。目前，在峰位、強(qiáng)度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。D8測角儀巨有市場超前地精確度，為布魯克獨有的準(zhǔn)直保證奠定了基礎(chǔ)。

不論您的預(yù)算如何，D8ADVANCEECO系列都能通過儀器配置為您帶來好的性能。由于降低了對水和電力等資源的需求，其運營成本降低。出色的儀器質(zhì)量為可靠性提供了保證，同時布魯克還為之提供組件質(zhì)量保證。無外部供水成本1kW高效發(fā)生器降低電力成本，無外部冷卻器耗電延長了X射線管的使用壽命X射線管質(zhì)量保證：D8ADVANCEECO可用的所有高亮度X射線源均享有3年保修測角儀質(zhì)量保證：測角儀采用免維護(hù)的堅固設(shè)計，可為您帶來機(jī)械強(qiáng)度和較長的使用壽命，因此能夠為您提供好的數(shù)據(jù)質(zhì)量。其中，布魯克提供10年保修。儀器準(zhǔn)直保證探測器質(zhì)量保證D8D和DIFFRAC.SUITE軟件將有助于您使用常見的XRD方法輕松進(jìn)行薄膜分析：掠入射衍射、X射線反射率測量。南京礦渣檢測分析

D8 DISCOVER配備了MONTEL光學(xué)器件的IμS微焦源可提供更大強(qiáng)度小X射線束，非常適合小范圍或小樣品的研究。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀

薄膜和涂層分析采用的原理與XRPD相同，不過進(jìn)一步提供了光束調(diào)節(jié)和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鑒定、晶體質(zhì)量、殘余應(yīng)力、織構(gòu)分析、厚度測定以及組分與應(yīng)變分析。在對薄膜和涂層進(jìn)行分析時，著重對厚度在nm和μm之間的層狀材料進(jìn)行特性分析（從非晶和多晶涂層到外延生長薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE軟件可進(jìn)行以下高質(zhì)量的薄膜分析：掠入射衍射X射線反射法高分辨率X射線衍射倒易空間掃描。由于具有出色的適應(yīng)能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進(jìn)行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業(yè)用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進(jìn)行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設(shè)計實現(xiàn)的：配置儀器時，免工具、免準(zhǔn)直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。深圳微觀應(yīng)變分析XRD衍射儀