應(yīng)用實(shí)例：測(cè)量高純氧化鋁粉。一般來(lái)說(shuō)，含量大于99%的氧化鋁稱為高純氧化鋁，其特性有耐化學(xué)腐蝕、耐高溫(正常使用在1600℃，短期1800℃)、耐驟冷驟熱、密度高等。99.995%高純氧化鋁粉主要用于LED人造藍(lán)寶石晶體、高級(jí)陶瓷、PDP熒光粉及其他高性能材料；99.99%高純氧化鋁粉用于高壓鈉燈、新型發(fā)光材料、特殊陶瓷、高級(jí)涂層、三基色、催化劑及其他高性能材料。粒度是高純氧化鋁粉產(chǎn)品的重要指標(biāo)，CPS納米粒度分析儀能給您帶來(lái)確切穩(wěn)定的測(cè)量結(jié)果。使用CPS分析儀平行測(cè)定3次高純氧化鋁粉得到的疊加圖。山東馳光機(jī)電科技有限公司品質(zhì)好、服務(wù)好、客戶滿意度高。湖南二氧化鈦粒度分析儀

儀器的主要參數(shù)為：測(cè)量范圍：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋轉(zhuǎn)速度可選：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，標(biāo)準(zhǔn)分析圓盤：CR-39聚合物（耐有機(jī)溶劑和水溶液），可選配：低密度樣品分析擴(kuò)展、變速圓盤；自動(dòng)密度梯度液生成器（型號(hào)AG300）；自動(dòng)進(jìn)樣器（型號(hào)AS200）；標(biāo)定用標(biāo)準(zhǔn)顆粒。激光粒度儀根據(jù)光學(xué)衍射和散射的原理，從激光器發(fā)出的激光束經(jīng)顯微物鏡聚集，濾波和準(zhǔn)直后，變成直徑約10mm的平行光束，該光束照射到待測(cè)的顆粒上，就發(fā)生了散射，散射光經(jīng)傅立葉透鏡后，照射到光電探測(cè)器上的任一點(diǎn)都對(duì)應(yīng)于某一確定的散射角。湖南二氧化鈦粒度分析儀馳光不斷從事技術(shù)革新，改進(jìn)生產(chǎn)工藝，提高技術(shù)水平。

而化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical mechanical polishing，CMP）是集成電路芯片的一個(gè)關(guān)鍵制程，國(guó)內(nèi)拋光所用關(guān)鍵材料CMP拋光墊，幾乎全部依賴進(jìn)口。CMP典型的拋光漿料都是納米級(jí)發(fā)煙硅石(5Vol%，170-230nm)、高純硅膠(9Vol%，6-80nm)、氧化鈰(6Vol%，200-240nm)或氧化鋁顆粒，它們的粒度或粒度分布必須小心地進(jìn)行控制以免在拋光面上產(chǎn)生刮痕。CMP漿料的分散穩(wěn)定性和保存期也是必須被認(rèn)真考慮的重要環(huán)節(jié)。這種納米漿料的使用濃度一般在(5-30W%)，容易聚集。隨著貯存時(shí)間延長(zhǎng)，它的粒度可能增大從而導(dǎo)致?lián)p害的產(chǎn)生。

符合多項(xiàng)油品S元素分析國(guó)際和國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)，例如ASTM D4294，ASTM D7212，GB/T 17040，GB/T 17606等。X射線管能耗低、只15W，使用壽命長(zhǎng)達(dá)數(shù)十年。低背景硅“漂移”檢測(cè)器保證高分辨率，檢測(cè)限高達(dá)0.1ppm。除了標(biāo)配的Windows操作系統(tǒng)，還提供了備選的Linux操作系統(tǒng)，保證儀器的安全性（中美貿(mào)易戰(zhàn)下的新形勢(shì)要求）。中國(guó)PTA行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局分析，從我國(guó)PTA產(chǎn)能分布來(lái)看，產(chǎn)能占比較大的廠家是恒力石化，2020年占比20%；產(chǎn)能占比排第二的是逸盛大化，產(chǎn)能占比為10%，其次是逸盛石化，產(chǎn)能占比9%；國(guó)內(nèi)前面十PTA廠家產(chǎn)能合計(jì)占比77%。全球PTA計(jì)劃投產(chǎn)產(chǎn)能趨勢(shì)。馳光機(jī)電不懈追求產(chǎn)品質(zhì)量，精益求精不斷升級(jí)。

CPS納米粒度分析儀測(cè)量金剛石微粉的粒徑，可提供更精確更穩(wěn)定的測(cè)量結(jié)果，有效控制產(chǎn)品的質(zhì)量。應(yīng)用實(shí)例：光催化活性高，高度耐酸堿耐腐蝕。二氧化鈦粒度分布分析，穩(wěn)定性二氧化鈦，二氧化鈦常被用作顏料、防曬霜和增稠劑。因此它有著大量的應(yīng)用，從油漆到食用色素到化妝品和護(hù)膚品，因此二氧化鈦的粒徑測(cè)量十分重要。例如納米二氧化鈦顆?？梢杂糜诜罆袢橐?，因?yàn)樗鼈兩⑸涞目梢姽獗扔糜谄胀ㄍ苛匣蛘哳伭现械亩趸侇w粒小，同時(shí)還能提供紫外線保護(hù)。馳光機(jī)電科技不懈追求產(chǎn)品質(zhì)量，精益求精不斷升級(jí)。高精度納米粒度分析儀報(bào)價(jià)

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CMP漿料粒度分析的難點(diǎn)在于必須在拋光過(guò)程中全濃度條件下快速測(cè)定平均顆粒直徑和粒度分布，因?yàn)橄♂尶赡軐?dǎo)致漿料穩(wěn)定性和粒度的變化(比如進(jìn)一步的團(tuán)聚或解聚)，另外在稀釋后的漿料中很難檢測(cè)本來(lái)就較少量的團(tuán)聚體。CPS-24000型納米粒度分析儀是較新型的納米粒度分析儀，它采用斯托克斯定律分析方法，V=D2(ρP-ρF)G/18η，即顆粒沉降的速度與顆粒的尺寸平方成正比來(lái)進(jìn)行粒度的測(cè)量，因此粒徑相差小至1%的顆粒都可以明顯分辨出來(lái)。適用于稀到高濃度的樣品粒度測(cè)定，對(duì)團(tuán)聚體的存在非常敏感。湖南二氧化鈦粒度分析儀